公开(公告)号：EP1971835A4

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：EP07716642

申请日：2007-01-12

Applicant: THERMO ELECTRON SCIENT INSTR

Inventor： DECK FRANCIS J

IPC: G01J3/18

CPC classification number: G01J3/1804 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208

公开(公告)号：EP2180511A3

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：EP09173958.1

申请日：2009-10-23

Applicant: Thales

Inventor： Nedelcu, M. Alexandru ,  Bois, Philippe ,  Costard, Eric

IPC: H01L27/146 ,  H01L31/0232 ,  H01L31/0352 ,  H01L31/101

CPC classification number: H01L27/14625 ,  B82Y20/00 ,  G01J3/0259 ,  G01J3/1804 ,  G01J3/36 ,  G01J2003/1861 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14649 ,  H01L31/02327 ,  H01L31/035236 ,  H01L31/101

Abstract: L'invention concerne un dispositif d'imagerie multispectrale comprenant une structure à multi-puits quantiques fonctionnant sur des transitions intersousbandes par absorption d'un rayonnement à une longueur d'onde lambda comprise dans un ensemble de longueurs d'ondes auxquelles est sensible ladite structure, ladite structure comportant une matrice de pixels élémentaires de détection caractérisé en ce que la matrice est organisée en sous-ensembles de quatre pixels élémentaires de détection (Eij), un premier pixel élémentaire de détection (P λ1 ) comportant un premier réseau diffractif (R λ1 ) sensible à un premier sous-ensemble de longueurs d'onde, un second pixel élémentaire de détection (P λ2 ) comportant un second réseau diffractif (R λ2 ) sensible à un second sous-ensemble de longueurs d'onde, un troisième pixel élémentaire de détection (P λ3 ) comportant un troisième réseau diffractif (R λ3 ) sensible à un troisième sous-ensemble de longueur d'ondes, un quatrième pixel élémentaire de détection (P Δλ ) ne comportant pas de réseau diffractif sélectif en longueur d'onde, les premier, second et troisième sous-ensemble de longueurs d'onde appartenant à l'ensemble de longueurs d'onde auquel est sensible ladite structure.

Abstract translation: 的多光谱成像设备包括具有在波长为λ在一组波长以哪种结构是敏感的由被辐射的吸收上间跃迁操作多量子阱的结构。 该结构包括用于检测基本像素，其中该矩阵被组织成用于检测四个基本像素子集的矩阵（E IJ）。 用于检测的第一基本像素（P（拉姆达1））包括于波长的第一子集敏感的第一衍射网络（R（拉姆达1））。 的多光谱成像设备包括具有在波长为λ在一组波长以哪种结构是敏感的由被辐射的吸收上间跃迁操作多量子阱的结构。 该结构包括用于检测基本像素，其中该矩阵被组织成用于检测四个基本像素子集的矩阵（E IJ）。 用于检测的第一基本像素（P（拉姆达1））包括于波长的第一子集敏感的第一衍射网络（R（拉姆达1））。 用于检测的第二基本像素（P（拉姆达2））包括于波长的第二子集敏感的第二衍射网络（R（拉姆达2））。 第三基本像素（P（拉姆达3））包括响应于波长的第三子集的第三衍射网络（R（拉姆达3））。 第四基本像素包括用于波长的光耦合的非选择性的结构。 甲单元被布置用于处理在用于检测的基本像素恢复的信号，和包括一个单元，用于将来自用于检测的第一，第二和第三基本像素和单位所获得的信号中减去从用于检测的第四基本像素所获得的信号 ， 所述第一，第二和第三衍射网络是一维的网络，其包括层状图案。 层的叠层与多量子阱层和外层一个衬底的表面上产生。 周期性图案刻到外层，以产生不同的网络。 具有多量子阱结构包括一组半导体层的可变堆叠的亚结构做出一定范围的波长的结构是敏感的。 层的堆叠掺杂有砷化镓或砷化铟镓，和构成的障碍。 由砷化镓的欧姆接触层的外部层更重掺杂比那些构成具有多量子阱结构。 透明基板存在于入射辐射的波长。 反射层是存在于衍射网络的表面，以通过反射操作检测器。 一种微扫描单元被布置用于制备一系列含有不同的光谱信息的图像。

公开(公告)号：EP2386841A1

公开(公告)日：2011-11-16

申请号：EP11165662.5

申请日：2011-05-11

Applicant: Seiko Epson Corporation

Inventor： Amako, Jun ,  Yamada, Kohei

IPC: G01J3/18 ,  G02B5/18 ,  G01J3/44

CPC classification number: G01J3/1804 ,  G01J3/44 ,  G02B5/1857 ,  G02B5/1866 ,  G02B27/4261

Abstract: A spectrometry apparatus includes a transmissive diffraction grating that transmits incident light. The transmissive diffraction grating has protrusions (110) with inclined surfaces (140) made of a first dielectric material. The inclined surfaces are so arranged that they are inclined to a reference line (130). When the angle of incidence of light incident on the transmissive diffraction grating is measured with respect to the reference line and defined as an angle α, and the angle of diffraction of diffracted light is measured with respect to the reference line and defined as an angle β, the angle of incidence α is smaller than a Bragg angle θ defined with respect to the inclined surfaces, and the angle of diffraction β is greater than the Bragg angle θ.

Abstract translation: 一种分光装置包括透射入射光的透射衍射光栅。 透射衍射光栅具有由第一介电材料制成的具有倾斜表面（140）的突起（110）。 倾斜表面被布置成使得它们倾斜到参考线（130）。 当入射到透射衍射光栅上的光的入射角相对于参考线被测量并被定义为角度±，并且衍射光的衍射角相对于参考线被测量并且被定义为角度² ，入射角±小于相对于倾斜面限定的布拉格角¸，衍射角²大于布拉格角¸。

公开(公告)号：EP0974027B1

公开(公告)日：2010-08-11

申请号：EP98918110.2

申请日：1998-04-10

Applicant: Waters Technologies Corporation

Inventor： LEVEILLE, Michael, J.

IPC: F21V9/04 ,  F21V9/06 ,  G02B3/00 ,  G01J1/42

CPC classification number: G01J3/28 ,  G01J1/429 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/0262 ,  G01J3/1804 ,  G01J2003/2866 ,  G01N21/276 ,  G01N21/278 ,  G01N21/31 ,  G01N21/33 ,  G01N2021/3155

公开(公告)号：EP1674844B1

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：EP05111891.7

申请日：2005-12-09

Applicant: National Institutes of Natural Sciences

Inventor： IDA, Katsumi ,  IKEDA, Takeshi

IPC: G01J3/18

CPC classification number: G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/0221 ,  G01J3/0291 ,  G01J3/0294 ,  G01J3/1804

公开(公告)号：EP1845349A1

公开(公告)日：2007-10-17

申请号：EP07007384.6

申请日：2007-04-11

Applicant: Carl Zeiss MicroImaging GmbH

Inventor： Dobschal, Hans-Jürgen ,  Wolleschensky, Ralf ,  Bathe, Wolfgang ,  Steinert, Jörg

IPC: G01J3/18 ,  G01J3/24 ,  G02B21/00

CPC classification number: G02B21/0064 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0259 ,  G01J3/1804 ,  G02B21/16

Abstract: Die Erfindung betrifft eine spektralanalytische Einheit mit einem Beugungsgitter, bei der ein paralleles Lichtbündel (10), welches einen Wellenlängenbereich aufweist, auf ein Beugungsgitter (1) einfällt, welches die unterschiedlichen Wellenlängen durch Beugung in erste Richtungen spektral aufspaltet, wobei diese Lichtbündel als Lichtbündel 1.-Beugungsordnung ohne Umlauf (11) bezeichnet werden, und das Beugungsgitter (1) Lichtbündel in eine zweite Richtung lenkt, wobei dieses Lichtbündel als Lichtbündel 0.-Beugungsordnung ohne Umlauf (12) bezeichnet wird, weiterhin Wellenlängenteilbereiche des spektral aufgespalteten Lichtbündels 1.-Beugungsordnung ohne Umlauf (11) durch eine Optik (2) auf eine Detektorzeile (3) fokussierbar sind und eine Auswerteelektronik (9) an die Detektorzeile (8) angeschlossen ist, welche das erzeugte Spektrum als Information gewinnt und darstellt.
Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß das Lichtbündel 0.-Beugungsordnung ohne Umlauf (12) auf eine Umlenkeinrichtung (Umlenkspiegel 4, 5, 6) trifft, die so ausgerichtet und positioniert ist, daß dieses Lichtbündel auf das Beugungsgitter (1) einfällt und ein Lichtbündel 1.-Beugungsordnung aus einem ersten Umlauf (13) und ein Lichtbündel 0.-Beugungsordnung aus den ersten Umlauf (14) erzeugbar sind, wobei das Lichtbündel 1.-Beugungsordnung ohne Umlauf (11) und das Lichtbündel 1.-Beugungsordnung aus dem ersten Umlauf (13) jeweils eines Wellenlängenteilbereiches durch die Optik (2) auf jeweils ein Einzelelement (7) der Detektorzeile (8) abbildbar sind.

Abstract translation: 该单元具有衍射光栅（1）和没有循环（12）的光束0衍射级，其在偏转装置上撞击，其中该装置以使得光束落在光栅上的方式对准和定位，并且光 产生来自循环（13）的束1衍射级和来自循环（14）的光束0衍射级。 通过透镜（2）在检测器线的各个单独的单元上形成没有循环（11）的光束1-折射顺序和来自循环的光束1 - 衍射顺序。

公开(公告)号：EP1744199A1

公开(公告)日：2007-01-17

申请号：EP06117072.6

申请日：2006-07-12

Applicant: Hach Lange GmbH

Inventor： Mitreiter, Andreas ,  Hanschke, Clemens

IPC: G02B27/44 ,  G02B5/18 ,  G01J3/18

CPC classification number: G01J3/1804 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0235 ,  G01J3/0262 ,  G01J3/04 ,  G01J3/42 ,  G02B5/18 ,  G02B27/4244

Abstract: Die Erfindung betrifft ein kreisscheibenförmiges Trägersystem mit einer Mehrzahl integrierter Beugungsstrukturen zur Spektralzerlegung von Licht der Wellenlängen 340 - 800 nm, wobei jede Beugungsstruktur eine Schicht aus einem transparenten Kunststoff umfasst, die eine zur Beugung einer innerhalb des Wellenlängenspektrums des Lichts liegende Wellenlänge geeignete Mikrostruktur aufweist, und das Trägersystem mindestens zwei Beugungsstrukturen zur Beugung von Licht unterschiedlicher Wellenlänge umfasst.

Abstract translation: 圆盘形载体系统（100）具有许多用于光谱分裂波长为340-800nm的光的集成衍射结构（1-38）。 每个衍射结构包括透明塑料层，其具有用于在波长光谱内的光衍射的波长合适的微结构。 载体系统包括用于不同波长的光的衍射的两个衍射结构。 还包括以下独立权利要求：（A）制造圆盘形载体系统的方法; 和（B）光度计。

公开(公告)号：EP1193482B1

公开(公告)日：2006-02-01

申请号：EP00402699.3

申请日：2000-09-29

Applicant: Horiba Jobin Yvon S.A.S.

Inventor： Ukon, Juichiro

IPC: G01J3/18

CPC classification number: G01J3/1804 ,  G01J3/18

公开(公告)号：EP1485686A2

公开(公告)日：2004-12-15

申请号：EP03744588.9

申请日：2003-01-15

Applicant: Cymer, Inc.

Inventor： SANDSTROM, Richard, L. ,  ERSHOV, Alexander, I. ,  PARTLO, William, N. ,  FOMENKOV, Igor, V. ,  SMITH, Scott, T. ,  BROWN, Daniel, J., W.

IPC: G01J3/18

CPC classification number: G01J3/26 ,  G01J1/4257 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/12 ,  G01J3/1804 ,  G01J3/22 ,  G01J9/02

Abstract: A high resolution spectral measurement device. A preferred embodiment presents an extremely narrow slit function in the ultraviolet range and is very useful for measuring bandwidth of narrow-band excimer lasers used for integrated circuit lithography. Light from the laser is focused into a diffuser (D) and the diffused light exiting the diffuser (D) illuminates an etalon (ET). A portion of its light exiting the etalon (ET) is collected and directed into a slit (S1) positioned at a fringe pattern of the etalon (ET). Light passing through the slit (S1) is collimated and the collimated light illuminates a grating (GR1) positioned in an approximately Littrow configuration which disperses the light according to wavelength. A portion of the dispersed light representing the wavelength corresponding to the selected etalon fringe is passed through a second slit and monitored by a light detector. When the etalon (ET) and the grating (GR1) are tuned to the same precise wavelength a slit function is defined which is extremely narrow such as about 0.034pm (FWHM) and about 0.091pm (95 percent integral). The bandwidth of a laser beam can be measured very accurately by a directing portion of the laser beam into the insulator and scanning the laser wavelength over a range which includes the monochromator slit wavelength. In a second embodiment the second slit and the light detector is replaced by a photodiode array (PDA) and the bandwidth of a laser beam is determined by analyzing a set of scan data from the photodiode array (PDA). Alternately, the laser wavelength can be fixed near the middle of the spectrum range of the grating spectrometer (50), and the etalon (ET) can be scanned.

公开(公告)号：EP1481226A2

公开(公告)日：2004-12-01

申请号：EP03716450.6

申请日：2003-03-06

Applicant: Advanced Photometrics, Inc.

Inventor： HAGLER, Thomas, W.

IPC: G01J3/04

CPC classification number: G01J3/02 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0216 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/027 ,  G01J3/0289 ,  G01J3/06 ,  G01J3/1804 ,  G01J3/2846 ,  G01J3/42 ,  G01J2001/4242 ,  G01J2003/1217

Abstract: Method and apparatus for analyzing radiation using analyzers (100) where encoding of selected spectral or spatial components is achieved by spatially varying the reflectance properties of a rotating spatial radiation modulators (22). Input radiation from light source (24) is passed into the analyzer and the encoded beams are directed onto one or more detectors.