公开(公告)号：EP1811341B1

公开(公告)日：2012-11-07

申请号：EP07001487.3

申请日：2007-01-24

申请人： Fujifilm Corporation

发明人： Takahashi, Hyou ,  Sugimoto, Naoya ,  Kodama, Kunihiko ,  Yamamoto, Kei

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F224/00 ,  G03F7/26 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

公开(公告)号：EP2490072A2

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：EP12155082.6

申请日：2012-02-13

申请人： Fujifilm Corporation

发明人： Enomoto, Yuichiro ,  Kodama, Kunihiko ,  Tarutani, Shinji

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/16

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/16

摘要： Provided is a method of producing a curable composition for imprints including (A) a polymerizable monomer, (B) a polymerization initiator, and (C) a solvent which is capable of effectively suppressing lifting or separation of patterns, excellent in coatability, and excellent in time-dependent stability. The method of producing a curable composition for imprints comprises preparing one species of liquid (D) which contains at least either one of the polymerizable monomer (A) and the polymerization initiator (B), passing the liquid (D) through a filter, and then adding the solvent (C).

摘要翻译： 提供一种印刷用固化性组合物的制造方法，其包括（A）可聚合单体，（B）聚合引发剂和（C）能够有效抑制图案的提升或分离，涂布性优异和优异的溶剂 在时间上依赖稳定。 制备用于印痕的可固化组合物的方法包括制备一种含有可聚合单体（A）和聚合引发剂（B）中的至少一种的液体（D），使液体（D）通过过滤器，以及 然后加入溶剂（C）。

公开(公告)号：EP2375285A2

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：EP11171307.9

申请日：2005-02-02

申请人： FUJIFILM Corporation

发明人： Kodama, Kunihiko

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/126

摘要： A photosensitive composition comprises (A) a sulfonium or iodonium salt having an anion represented by one of formulae (I) and (II):

wherein Y represents an alkylene group substituted with at least one fluorine atom, and
R represents an alkyl group or a cycloalkyl group.
the photosensitive composition further comprising:
(D) a resin soluble in an alkali developer; and
(E) an acid crosslinking agent that crosslinks with the resin (D).

摘要翻译： 光敏组合物包含（A）具有由式（I）和（II）之一表示的阴离子的锍盐或碘鎓盐：其中Y表示被至少一个氟原子取代的亚烷基，R表示烷基或 环烷基。 所述光敏组合物还包含：（D）可溶于碱显影剂的树脂; 和（E）与树脂（D）交联的酸交联剂。

公开(公告)号：EP1767993B1

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：EP06019979.1

申请日：2006-09-25

申请人： FUJIFILM Corporation

发明人： Nishiyama, Fumiyuki ,  Kodama, Kunihiko

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/2041

公开(公告)号：EP1835343A1

公开(公告)日：2007-09-19

申请号：EP07005242.8

申请日：2007-03-14

申请人： FUJIFILM Corporation

发明人： Iwato, Kaoru ,  Kodama, Kunihiko ,  Yoshida, Yuko ,  Yamamoto, Kei

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition comprising: a resin which increases solubility in an alkali developing solution by an action of an acid and comprises a repeating unit containing a lactone structure and a cyano group, a repeating unit containing a first group selected from groups represented by the formulae (pI) to (pV) as defined herein and a repeating unit containing a second group selected from groups represented by the formulae (pI) to (pV) as defined herein which is different from the first group; a compound which generates an acid upon irradiation of an actinic ray or a radiation; and a solvent.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：通过酸的作用增加在碱性显影液中的溶解度的树脂，其包含含有内酯结构和氰基的重复单元，含有选自下式 （pI）至（pV）和含有选自如本文定义的与第一组不同的由式（pI）至（pV）表示的基团的第二基团的重复单元; 在光化射线或辐射照射时产生酸的化合物; 和溶剂。