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    COMPOSITION AND METHOD FOR REDUCING COPPER OXIDE TO METALLIC COPPER
    43.
    发明公开
    COMPOSITION AND METHOD FOR REDUCING COPPER OXIDE TO METALLIC COPPER 失效
    ZUSAMMENSETZUNG UND方法ZUM REDUZIEREN VON KUPFEROXID ZU KUPFERMETALL

    公开(公告)号：EP0979208A4

    公开(公告)日：2000-10-25

    申请号：EP98908643

    申请日：1998-02-20

    申请人： MORTON INT INC

    发明人： FAKLER JOHN ,  RUSH MICHAEL ,  CAMPBELL SCOTT

    IPC分类号： C07D295/02 ,  B05D3/00 ,  B05D5/00 ,  C01B6/06 ,  C07D213/18 ,  C07D327/06 ,  C07F5/02 ,  C22B5/00 ,  C22B15/00 ,  C23C22/63 ,  C23C22/83 ,  C23F3/00 ,  C23G1/20 ,  H05K3/38

    摘要： A composition for reducing a copper oxide layer to metallic copper so as to facilitate bonding a resin to the metallic copper is disclosed. The composition is an aqueous reducing solution containing a cyclic borane compound. Examples of such cyclic borane compounds include those having nitrogen or sulfur as a ring-forming member, such as morpholine borane, piperidine borane, pyridine borane, piperazine borane, 2,6-lutidine borane, 4-methylmorpholine borane, and 1,4-oxathiane borane, and also N,N-diethylaniline borane.

    摘要翻译： 公开了用于将铜氧化物层还原成金属铜以便于将树脂结合到金属铜的组合物。 该组合物是含有环状甲硼烷化合物的还原性水溶液。 作为这样的环状甲硼烷化合物，例如可举出吗啉甲硼烷，哌啶硼烷，吡啶硼烷，哌嗪硼烷，2,6-二甲基吡啶硼烷，4-甲基吗啉硼烷，1,4-二甲基吗啉硼烷等作为成环原子具有氮或硫的化合物， 氧硫杂硼烷，以及N，N-二乙基苯胺硼烷。

    Dual-valent rare earth additives to polishing slurries
    44.
    发明公开
    Dual-valent rare earth additives to polishing slurries 失效
    Polbelchlämme的Doppelwertige Seltenerdadditive

    公开(公告)号：EP0969057A1

    公开(公告)日：2000-01-05

    申请号：EP98305307.5

    申请日：1998-07-03

    申请人： International Business Machines Corporation

    发明人： Ronay, Maria

    IPC分类号： C09G1/02 ,  H01L21/321 ,  C09K3/14 ,  C23F3/00

    CPC分类号： C23F3/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/3212

    摘要： A slurry containing abrasive particles and a dual-valent rare earth ion or suspension of its colloidal hydroxide is especially useful for polishing surfaces, including those used in microelectronics. A suspension of a colloidal dual-valent rare earth hydroxide is especially useful for polishing silica.

    摘要翻译： 含有磨粒和其氢氧化物胶体的二价稀土离子或悬浮液的浆料对于抛光表面尤其有用，包括微电子学中所用的表面。 胶体二价稀土氢氧化物的悬浮液对于研磨二氧化硅是特别有用的。

    Polishing composition
    45.
    发明公开
    Polishing composition 失效
    Politurzusammensetzung

    公开(公告)号：EP0845512A1

    公开(公告)日：1998-06-03

    申请号：EP97309650.6

    申请日：1997-12-01

    申请人： FUJIMI INCORPORATED

    发明人： Kodama, Hitoshi, c/o Fujimi Inc. ,  Ito, Masatoki, c/o Fujimi Inc. ,  Suzumura, Satoshi, c/o Fujimi Inc.

    IPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/00

    CPC分类号： C23F3/00 ,  C09G1/02

    摘要： A composition for polishing an aluminum, copper or tungsten film, which comprises water and a polishing agent selected from the group consisting of silicon dioxide, aluminum oxide, cerium oxide, silicon nitride and zirconium oxide, and which further contains an iron(III) compound dissolved in the composition, wherein the iron(III) compound is selected from the group consisting of iron(III) pyrophosphate, iron(III) citrate, iron(III) ammonium citrate, iron(III) ammonium oxalate, iron(III) ammonium sulfate, iron(III) perchlorate, iron(III) chloride, iron(III) sulfate and iron(III) phosphate.

    摘要翻译： 一种用于抛光铝，铜或钨膜的组合物，其包含水和选自二氧化硅，氧化铝，氧化铈，氮化硅和氧化锆的抛光剂，并且还含有铁（III）化合物 溶解在组合物中，其中铁（III）化合物选自焦磷酸铁（III），柠檬酸铁（III），柠檬酸铁（III），草酸铁（III），草酸铁（III） 硫酸盐，高氯酸铁（III），氯化铁（III），硫酸铁（III）和磷酸铁（III）。

    A composition and slurry useful for metal CMP
    46.
    发明公开
    A composition and slurry useful for metal CMP 失效
    组成和泥浆的化学机械抛光金属

    公开(公告)号：EP0844290A1

    公开(公告)日：1998-05-27

    申请号：EP97309476.6

    申请日：1997-11-25

    申请人： CABOT CORPORATION

    发明人： Grumbine, Steven K. ,  Streinz, Christopher C. ,  Mueller, Brian L.

    IPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/00 ,  H01L21/321

    CPC分类号： C23F3/00 ,  C09G1/02 ,  H01L21/3212

    摘要： A chemical mechanical polishing precursor composition comprising at least one catalyst having multiple oxidation states, and at least one stabilizer, the composition being useful when admixed with an oxidizing agent prior to use to remove metal layers from a substrate. Also disclosed is a chemical mechanical polishing composition comprising an oxidizing agent and at least one catalyst having multiple oxidation sites, the composition being useful when combined with an abrasive or an abrasive pad to remove metal layers from a substrate.

    摘要翻译： 一种化学机械抛光前体组合物包含至少一种具有催化剂多个氧化态，和至少一种稳定剂，该组合物是有用的。当与氧化使用以从基板去除金属层之前剂混合。 游离缺失所以盘是一种化学机械抛光组合物，包括氧化剂和具有多个氧化位点的至少一种催化剂的，该组合物是有用的。当与或磨料组合以研磨垫以从衬底去除金属层。

    EP0714456A4 -
    47.
    发明公开
    EP0714456A4 - 失效
    EP0714456A4 - Google专利

    公开(公告)号：EP0714456A4

    公开(公告)日：1996-06-12

    申请号：EP94922462

    申请日：1994-06-30

    IPC分类号： C09K13/04 ,  C09K13/08 ,  C23G1/02 ,  C23G1/12 ,  C23F3/00

    CPC分类号： C23G1/125 ,  C23G1/12

    摘要： A chromium and ferricyanide free aqueous deoxidizer/desmutter for aluminum and magnesium alloys contains nitric acid, ferric ions, persulfate, and molybdate and preferably also sulfate, fluoride, and ethoxylated acetylenic diol surfactant.

    摘要翻译： 用于铝和镁合金的不含铬和铁氰化物的含水脱氧剂/脱盐剂含有硝酸，三价铁离子，过硫酸盐和钼酸盐，并且优选还含有硫酸盐，氟化物和乙氧基化的炔二醇表面活性剂。

    Burnishing method and composition
    48.
    发明公开
    Burnishing method and composition 失效
    燃烧方法和组成

    公开(公告)号：EP0414441A3

    公开(公告)日：1993-02-24

    申请号：EP90308955.5

    申请日：1990-08-15

    申请人： REM CHEMICALS, INC.

    发明人： Zobbi, Robert George

    IPC分类号： C23F3/00 ,  B24B31/14

    CPC分类号： B24B31/14 ,  C23C22/73 ,  C23C22/83 ,  C23F3/00

    摘要： A burnishing liquid used in a physicochemical mass finishing process serves to chemically remove the conversion coating as well as to promote brightness of the treated metal surface. The burnishing liquid has a very low content of organic constituent and therefore a low chemical oxygen demand characteristic. The burnishing liquid comprises a water-soluble tetrapyrophosphate or hexametaphosphate and has a pH of about 8.5 to 10.5.