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    Resist composition and its use for forming pattern
    64.
    发明公开
    Resist composition and its use for forming pattern 失效
    Resistzusammensetzung und ihre Verwendung zur Herstellung von Mustern

    公开(公告)号：EP0875789A1

    公开(公告)日：1998-11-04

    申请号：EP98303331.7

    申请日：1998-04-29

    申请人： WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD ,  MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.

    发明人： Sumino, Motoshige ,  Fukasawa, Kazuhito ,  Matsuo, Takahiro

    IPC分类号： G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/039 ,  C08F8/00 ,  C08F2800/20 ,  C08F220/20

    摘要： A resist composition comprising (a) a polymer having repeating units of the formula:
    wherein R5, R6 and R7 are independently hydrogen, alkyl, cyano, alkyloxycarbonyl or carbamoyl; Z is a spacer or a direct link; and R is hydroxyalkyl having a protected terminal hydroxy, (b) a photoacid generator, and (c) a solvent, is effective for forming patterns using ArF excimer laser beams.

    摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含（a）具有下式的重复单元的聚合物：其中R5，R6和R7独立地为氢，烷基，氰基，烷氧基羰基或氨基甲酰基; Z是间隔或直接连接; 并且R是具有受保护的末端羟基的羟基烷基，（b）光致酸产生剂和（c）溶剂，对于使用ArF准分子激光束形成图案是有效的。

    Cleaning agent
    68.
    发明公开
    Cleaning agent 失效
    Reinigungsmittel

    公开(公告)号：EP0812011A2

    公开(公告)日：1997-12-10

    申请号：EP97108877.8

    申请日：1997-06-03

    申请人： WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD

    发明人： Kakizawa, Masahiko ,  Ichikawa, Osamu ,  Hayashida, Ichiro

    IPC分类号： H01L21/306 ,  B08B1/00

    CPC分类号： H01L21/02052 ,  C11D7/264 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3245 ,  C11D11/0047

    摘要： Removing particles and metallic contaminants without corrosing the metallized wirings and without giving adverse effect of planarization on the semiconductor substrate surface can be effectively achieved by use of a cleaning agent which comprises an organic acid having at least one carboxyl group and a complexing agent having chelating ability.

    摘要翻译： 通过使用包含具有至少一个羧基的有机酸和具有螯合能力的络合剂的清洗剂，可以有效地实现除去颗粒和金属污染物而不会使金属化布线腐蚀并且不会对半导体衬底表面产生不平坦化的不利影响 。

    Polymer and resist material
    70.
    发明公开
    Polymer and resist material 失效
    聚合物和抗蚀材料

    公开(公告)号：EP0789279A1

    公开(公告)日：1997-08-13

    申请号：EP96309141.8

    申请日：1996-12-13

    申请人： WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD

    发明人： Urano, Fumiyoshi ,  Fujie, Hirotoshi ,  Oono, Keiji

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  C08F212/14 ,  C08F12/14 ,  C08F112/14

    CPC分类号： G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106

    摘要： A polymer of polyhydroxystyrene derivative containing an acetal or ketal group which can easily be eliminated in the presence of an acid in the molecule and having a very narrow molecular weight distribution gives a resist material suitable for forming ultrafine patterns excellent in resolution, heat resistance, mask linearity, and other properties without causing problems of delay time and the like.

    摘要翻译： 含有缩醛或缩酮基团的聚羟基苯乙烯衍生物的聚合物，其可以在分子中存在酸并且分子量分布非常窄的情况下容易地除去，得到适合于形成分辨率，耐热性，掩模 线性等特性而不引起延迟时间等的问题。