ARC EVAPORATION SOURCE
    62.
    发明公开
    ARC EVAPORATION SOURCE 审中-公开
    BOGENVERDAMPFUNGSQUELLE

    公开(公告)号:EP2679702A1

    公开(公告)日:2014-01-01

    申请号:EP12750142.7

    申请日:2012-02-23

    IPC分类号: C23C14/24 C23C14/32 H05H1/48

    摘要: An arc evaporation source (101) according to one embodiment of the present invention comprises: a ring-shaped circumferential magnet (103) which is so arranged as to surround the outer circumference of a target (102) along a direction in which the direction of magnetization becomes parallel with the front surface of the target; and a rear surface magnet (104) which is arranged on the rear surface side of the target (102) along a direction in which the direction of magnetization becomes perpendicular to the front surface of the target. The magnetic pole of the circumferential magnet (103) on the inner side in the radial direction and the magnetic pole of the rear surface magnet (104) on the target (102) side have the same polarity as each other.

    摘要翻译: 根据本发明的一个实施例的电弧蒸发源(101)包括:环形周向磁体(103),其被布置成沿着方向的方向围绕靶(102)的外周, 磁化变得与目标的前表面平行; 以及沿着磁化方向垂直于靶的前表面的方向设置在靶(102)的背面侧的后表面磁体(104)。 在径向内侧的周向磁体(103)的磁极和靶(102)侧的背面磁体(104)的磁极具有相同的极性。

    Nanolaminated coated cutting tool
    64.
    发明公开
    Nanolaminated coated cutting tool 有权
    Nanolaminiertes und beschichtetes Schneidewerkzeug

    公开(公告)号:EP2636764A1

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:EP12158414.8

    申请日:2012-03-07

    申请人: Seco Tools AB

    摘要: The present invention relates to a cutting tool insert machining by chip removal comprising a body of a hard alloy of cemented carbide, cermet, ceramics, cubic boron nitride based material or high speed steel, onto which a hard and wear resistant coating is deposited by physical vapor deposition (PVD) Said coating comprises at least one polycrystalline nanolaminated structure comprising sequences of alternating A and B layers, where said layer A is (Al x1 Me 1-x1 )N y1 with 0.3 1-x2-z2 Si x2 Me2 z2 )N y2 with 0

    摘要翻译: 本发明涉及通过切屑去除的切削工具刀片加工,包括硬质合金,金属陶瓷,陶瓷,立方氮化硼基材料或高速钢的硬质合金体,其上通过物理沉积硬和耐磨涂层 气相沉积(PVD)所述涂层包含至少一个包含交替A和B层序列的多晶Naminaminated结构,其中所述层A为具有0.3

    Verfahren zum Abscheiden isolierender Schichten

    公开(公告)号:EP2599891A2

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:EP13156872.7

    申请日:2007-07-12

    IPC分类号: C23C14/32 C23C14/08

    摘要: Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vakuumbeschichtungsanlage umfassend zumindest eine Arcquelle mit einer Kathode und einer Anode sowie ein mit der Kathode elektrisch verbundenes Target (1) mit einer Targetoberfläche (2). In einer Ausführungsvariante umfasst die Vakuumbeschichtungsanlage ferner ein aus zumindest einer im Wesentlichen axial gepolten Spule bestehendes Magnetsystem (8) zur Erzeugung eines kleinen, im Wesentlichen zur Targetoberfläche (2) senkrechten, äusseren Magnetfelds. In einer weiteren Ausführungsvariante umfasst die Vakuumbeschichtungsanlage ferner ein zwischen der Kathode und der Anode angeordneter, von beiden elektrisch isolierter Begrenzungsring (3) zur Begrenzung des Funkens auf der Targetoberfläche.

    摘要翻译: 通过真空镀膜在工件上制造绝缘层的方法包括在包含反应性气体的气氛中操作电弧源的阳极和阴极之间的电弧放电,并在与电连接的目标表面上产生小的外部磁场 阴极垂直于目标表面。 磁场包括用于支持汽化过程的垂直分量和较小的径向或表面平行部件。 磁系统布置在目标表面后面的平面内。 通过真空镀膜在工件上制造绝缘层的方法包括在包含反应性气体的气氛中操作电弧源的阳极和阴极之间的电弧放电,并在与电连接的目标表面上产生小的外部磁场 阴极垂直于目标表面。 磁场包括用于支持汽化过程的垂直分量和较小的径向或表面平行部件。 磁系统布置在目标表面后面的平面内。 磁场由磁体系统产生,该磁体系统包括轴向偏振线圈,其尺寸几何尺寸与目标相似,该线圈受到励磁电流的影响。 在目标表面处的垂直分量在较小的25高斯之间的范围内调节。 火花放电或/和电弧源以相等的流量和脉冲和/或交流电流供应。 源极电压的20%的直流部分的增加是由于目标表面相对于没有绝缘分配的表面的操作的绝缘分配引起的。 在电弧源的阴极之间作为第一电极和与电弧源分开布置的第二电极之间操作脉冲电流源。 第二个电极作为另一个电弧源的阴极运行,并与直流电源连接。 作为第二电极切换溅射阴极。 两个目标在彼此相对的布置中操作,并且工件布置在目标之间。 励磁电流是由电源通过线圈引导到阴极的直流和/或脉冲电流和/或交流电流。 线圈被布置成使得外部磁场随着励磁电流的流动而调整到电流电弧的自磁场的值。 具有线圈数的线圈用于1-5绕组。 反应性气体包括氧,并且氧化物与含氧化物层分离。 将粘合剂和/或硬质层施加到含氧化物层的工件上。 施加过渡层的粘合层,硬层和/或氧化物层,其包含两个直接排序的连续层的元素。 其他涂料源的表面重涂度比从阴极蒸发的金属量少10%。 电绝缘体限制环布置成由电绝缘体或良导电金属组成。

    VERFAHREN ZUM BESCHICHTEN EINES SUBSTRATES MITTELS EINES LICHTBOGENS
    68.
    发明公开
    VERFAHREN ZUM BESCHICHTEN EINES SUBSTRATES MITTELS EINES LICHTBOGENS 审中-公开
    方法涂覆基材的表面电弧手段

    公开(公告)号:EP2593577A2

    公开(公告)日:2013-05-22

    申请号:EP11748597.9

    申请日:2011-07-12

    发明人: KAYSER, Oliver

    IPC分类号: C23C14/32 C25B11/04

    摘要: The invention relates to a process and an evaporator (12, 14, 62, 64, 66, 68) for coating a substrate by means of an arc in a vacuum chamber (10) in the case of low-pressure arc evaporation, wherein the vacuum chamber (10) has at least one evaporator (12, 14, 62, 64, 66, 68), which comprises a target material (20), reactive gas supply lines (53, 54) for supplying reactive gas, and a vacuum pump, wherein the evaporator (12, 14, 62, 64, 66, 68) comprising the target material (20) serves as the cathode and the inner wall (36) of the vacuum chamber (10) serves as the anode between which the arc is generated. According to the invention, high-melting metal is used as the target material (20) for catalysis, and the pressure in the vacuum chamber (20) during coating is at least 0.5 Pa, in particular at least 3 Pa, preferably 5 Pa. A layer of catalytically active metal having a high oxygen content is formed on the substrate.