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公开(公告)号：EP1467144A2
公开(公告)日：2004-10-13
申请号：EP04005058.5
申请日：2004-03-04
摘要： Die Erfindung sieht eine lichterzeugende Vorrichtung (1) vor, welche eine effektivere Kühlung des Reflektors (2) bereitstellt, wobei die Vorrichtung einen Reflektor (2), sowie eine Einrichtung (8,14,16,18,26,28,30,32,34,36) zur Verbesserung der Wärmeabfuhr vom Reflektor umfaßt.
摘要翻译： 本发明（1）之前，提供了一个光产生装置，其提供在反射器（2）的更有效的冷却，其特征在于，所述装置（反射器（2）的装置，以及8,14,16,18,26,28,30,32 ，34,36）包括用于从所述反射器的热去除的改善。
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公开(公告)号：EP1466217A1
公开(公告)日：2004-10-13
申请号：EP02791827.5
申请日：2002-12-14
发明人： SCHULTHEIS, Bernd , KRAUSE, Cora , HENZE, Inka , ENGELMANN, Harry
CPC分类号： G03G9/09708 , B41M1/34 , C03C17/007 , C03C2217/44 , C03C2217/485 , G03G9/0902
摘要： The invention relates to a ceramic toner which is transferable to a high-temperature resistant glass, glass ceramic or ceramic substrate by means of electrophotographic printing and which can be fired in a subsequent temperature process, containing colour pigment particles in addition to special glass flow particles. According to the invention, said ceramic toner is provided with a thermoplastic synthetic matrix which melts in a homogeneous manner on the substrate within a temperature range of 100 °C - 400 °C and which, within the temperature range of 300 °C -500 °C, vaporises in an almost residue-free manner and/or decomposes in order to obtain a toner which can be transferred especially in a direct printing mode and which has almost no synthetic matrix residue after firing.
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公开(公告)号：EP1340723A3
公开(公告)日：2004-09-15
申请号：EP03004655.1
申请日：2003-03-03
发明人： Natura, Ute, Dr. , Menzel, Andreas , Alkemoer, Jochen, Dr. , Martin, Rolf , von der Gönna, Gordon, Dr. , Schmidt, Matthias , Coriand, Frank , Schmiady, Thomas , Sohr, Oliver, Dr. , Voitsch, Andreas
CPC分类号： C03B19/1423 , C03B2201/07 , C03B2201/20 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2207/06 , C03B2207/20 , C03B2207/36 , C03C3/06 , C03C2201/11 , C03C2201/21 , C03C2201/23
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorform aus synthetischem Quarzglas, geeignet zur Beaufschlagung mit DUV-Strahlung im Wellenlängenbereich unter 250 nm, mit einem Kernbereich, der im wesentlichen frei von Schichtungen ist, dessen OH-Gehalt größer als 900 ppm, dessen CI-Gehalt kleiner als 50 ppm, und dessen H 2 -Verbrauch größer als 0,5 x 10 18 Moleküle/cm 3 ist, und die dadurch gekennzeichnet ist, dass die DUV-Widerstandfähigkeit durch einen relativen H 2 -Verbrauch gegeben ist, der mit zunehmender Energiedosis in eine Sättigung geht. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung einer Vorform aus Quarzglas vorgeschlagen, bei dem auf eine rotierende Fläche eine Brennerflamme gerichtet ist, und der Rohstoff SiCl 4 unter Anwesenheit von H 2 und O 2 bei Temperaturen oberhalb 2000° Celsius umgesetzt, zu SiO 2 auf der rotierenden Fläche abgeschieden und sofort glasig aufgeschmolzen wird, und die dadurch gekennzeichnet ist, dass der Flamme durch die zentrale Mitteldüse 0,92 bis 1,12 kg/h SiCl 4 bei einer Strömungsgeschwindigkeit von 15 m/s bis 21 m/s zugeführt wird.
摘要翻译： 用于波长低于250nm的深紫外（DUV）的合成石英玻璃预制件，其核心区域不含高于900ppm的OH含量，Cl含量低于50ppm，H 2含量高于0.5×10 18分子/ cm 3 具有通过增加能量剂量达到饱和的相对H 2消耗确定其DUV电阻。 还包括通过火焰水解方法制造预成型件的独立权利要求。
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5.发明公开
公开(公告)号：EP1455160A1
公开(公告)日：2004-09-08
申请号：EP04002670.0
申请日：2004-02-06
发明人： Fink, Thomas, Dipl.-Ing. , Heeke, Neil , Olzinger, Adolf , Pfeiffer, Thomas, Dipl.-Ing. , Ranftl, Reinhard , Bender, Richard, Dr. , Forster, Bartholomäus
IPC分类号： F42B3/198
CPC分类号： F42B3/198 , F42B3/103 , Y10T428/12535
摘要： Die Erfindung betrifft eine Metall-Fixiermaterial-Durchführung (1) für Anzünder von Airbags oder Gurtspannern, insbesondere Metall-Glas-Durchführung;
mit wenigstens einem Metallstift (4,5) der in einer Durchgangsöffnung (11) im Grundkörper (3) in einem Fixiermaterial (6) angeordnet ist, wobei der Grundkörper eine Vorder- (8) und eine Rückseite (7) aufweist gekennzeichnet durch die folgenden Merkmale:
der Grundkörper (3) wird von einem Element gebildet, wobei die die Durchgangsöffnung (11) beschreibende Grundgeometrie wenigstens durch einen Trennvorgang erzeugt wird;
zwischen Vorderseite und Rückseite des Grundkörpers (3) sind Mittel (35) zur Vermeidung einer Relativbewegung von Fixiermaterial (6) in Richtung der Rückseite (7) gegenüber dem Innenumfang der Durchgangsöffnung vorgesehen.摘要翻译： 本发明涉及一种金属固定材料管（1），用于安全气囊或安全带张紧器，特别是金属玻璃执行的点火器; 在一个通道开口的至少一个金属销（4,5）（11）被布置在所述基体（3）中的固定材料（6），其中，所述基体包括前（8）和一个背面（7）的特征在于以下 特征：所述基体（3）由一个部件形成，通孔（11），其描述基本几何形状由分离操作至少产生; 基体的前侧和后侧之间的（3）的装置（35）用于避免向相对设置并在通孔的内周的后侧（7）（6）固定材料的相对运动。
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公开(公告)号：EP1450416A1
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：EP04012665.8
申请日：2001-03-17
IPC分类号： H01L33/00
CPC分类号： G09F9/33 , H01L25/0753 , H01L25/167 , H01L33/42 , H01L2924/0002 , H05K1/02 , H05K1/0284 , H05K2201/0108 , H05K2201/0326 , H05K2201/10106 , H01L2924/00
摘要： Die Erfindung betrifft ein Bauelement, insbesondere LED-Modul mit
einem transparenten Substrat (1),
einer auf das transparente Substrat (1) aufgebrachten leitfähigen Schicht, wobei die leitfähige Schicht im sichtbaren Wellenlängenbereich transparent oder quasi transparent und beliebig strukturierbar ist, wenigstens einem Leuchtmittel, das auf eine Fläche des transparenten Substrates aufgebracht ist,
dadurch gekennzeichnet, dass das transparente Bauelement wenigstens ein weiteres transparentes Substrat umfasst,
das über den auf dem Trägersubstrat wenigstens einen aufgebrachten Leuchtmittel angeordnet ist, so dass das Leuchtmittel geschützt zwischen dem Trägersubstrat und dem weiteren transparenten Substrat liegt.摘要翻译： 本发明涉及一种组件，尤其是LED模块，其包括一透明基片（1），一个在透明基板（1）上施加的导电层，在可见光波长区上的导电层是透明的或准透明和任何可配置的，至少一个发光装置， 被施加到所述透明基板的表面，其特征在于，所述透明元件包括至少一个另外的透明基板被布置在所述载体基片上的至少一个施加的灯，使得保护的载体基板与所述另外的透明基板之间的发光装置 是。
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7.发明公开Substrat für die EUV-Mikrolithographie und Herstellverfahren hierfür 审中-公开Substratfürdie EUV-Mikrolithographie und Herstellverfahrenhierfür
公开(公告)号：EP1450182A2
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：EP03028774.2
申请日：2003-12-13
发明人： Aschke, Lutz , Schweizer, Markus , Alkemper, Jochen , Schindler, Axel , Frost, Frost , Hänsel, Thomas , Fechner, Renate
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft die Herstellung eines Substrates, das insbesondere für die EUV-Mikrolithographie geeignet ist und aus einer Basisschicht mit geringem thermischen Ausdehnungskoeffizienten besteht, auf die mindestens eine Deckschicht, die aus einem Halbleitermaterial, vorzugsweise aus Silizium, besteht, vorzugsweise durch Ionenstrahl-Sputtern aufgetragen ist. Durch eine zusätzliche IBF-Behandlung lassen sich äußerst formgetreue Substrate mit äußerst geringer Rauhigkeit herstellen.
摘要翻译： 制造基板包括制备热膨胀系数不大于0.1ppm / K的基层，使用物理或化学施加工艺在基层上施加由半导体材料（优选硅）制成的第一覆盖层，特别是 通过溅射，CVD或PVD，以及后处理覆盖层。 对于通过上述方法制备的基材，还包括独立权利要求。
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8.发明公开Verfahren zum Herstellen von glatten Barriereschichten und Verbundmaterial mit glatter Barriereschicht 有权制造具有光滑的阻挡层光滑阻挡层和复合材料的制造方法
公开(公告)号：EP1388594A3
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：EP03017419.7
申请日：2003-08-01
发明人： Bicker, Matthias, Dr. , Behle, Stephan, Dr. , Lüttringhaus-Henkel, Andreas , Arnold, Gregor , Rothaar, Uwe, Dr. , Klause, Michaela , Klippe, Lutz , Walther, Marten
IPC分类号： C23C16/515 , C23C16/30 , C23C16/40 , B65D65/42 , C23C28/00
CPC分类号： B05D1/62 , B05D7/56 , C23C16/029 , C23C16/045 , C23C16/402
摘要： Um die Eigenschaften von Barrierebeschichtungen zu verbessern, sieht die Erfindung ein Verfahren zum Aufbringen von Schichten auf ein Substrat (10) vor, wobei zum Beschichten ein Plasma eingesetzt wird, das insbesondere unter Verwendung von Mikrowellen in einer Gasatmosphäre, die zumindest einen Precursor umfaßt, erzeugt wird, wobei auf dem Substrat (10) vor dem Abscheiden zumindest einer weiteren Schicht zumindest eine organische Haftvermittlerschicht (11) abgeschieden wird, die zumindest in den ersten Monolagen im Lagenwachstum aufwächst.
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公开(公告)号：EP1388593A3
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：EP03017033.6
申请日：2003-07-28
发明人： Bicker, Matthias, Dr. , Behle, Stephan, Dr. , Klippe, Lutz, Dr. , Lüttringhaus-Henkel, Andreas , Arnold, Gregor
IPC分类号： C23C16/515 , C23C16/30 , C23C16/40 , B65D65/42 , C23C28/00
CPC分类号： C23C16/30 , B05D1/62 , B05D7/56 , C23C16/0272 , C23C16/029 , C23C16/045 , C23C16/401 , C23C16/402 , C23C16/515 , C23C28/00
摘要： Die Erfindung gibt ein Verfahren zum Aufbringen von Wechselschichten durch chemische Gasphasenabscheidung, welches die Verfahrensschritte des Abscheidens einer Haftvermittlerschicht auf einem Substrat, und des Aufbringens einer Sperrschicht umfaßt, wobei alternierend Wechselschichten aus organischen und anorganischen Materialien abgeschieden werden, bei welchem die Beschichtungszeit zum Aufbringen der Haftvermittlerschicht zwischen 0,05s bis 4,0 s liegt, und/oder die Beschichtungszeit zum Aufbringen der anorganischen Sperrschicht zwischen 0,1s bis 6,0s liegt sowie ein verfahrensgemäß hergestelltes Verbundmaterial an.
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公开(公告)号：EP1308242B1
公开(公告)日：2004-05-12
申请号：EP02023996.8
申请日：2002-10-26
CPC分类号： B24B37/015 , B24B7/22
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