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    Vakuumplasmagenerator
    2.
    发明公开
    Vakuumplasmagenerator 有权

    公开(公告)号：EP1701376A1

    公开(公告)日：2006-09-13

    申请号：EP05005248.9

    申请日：2005-03-10

    申请人： Hüttinger Elektronik GmbH & Co. KG

    发明人： Glück, Michael ,  Hofstetter, Christoph ,  Hintz, Gerd, Dr.

    IPC分类号： H01J37/32

    CPC分类号： H01J37/32174 ,  H01J37/32082 ,  H03H7/40

    摘要： Die Erfindung betrifft einen Vakuumplasmagenerator (1, 1a, 60) zur Behandlung von Werkstücken in einer Vakuumkammer (17), wobei dieser aufweist:

    einen Netzanschluss (2) für den Anschluss an ein Spannungsversorgungsnetz;
    mindestens einen Netzgleichrichter (3), verbunden mit
    mindestens einem ersten Konverter (4, 4a) zur Erzeugung mindestens einer Zwischenkreisspannung;
    einen ersten an die mindestens eine Zwischenkreisspannung angeschlossenen HF-Signalerzeuger (6, 7, 20, 40, 50) zur Erzeugung eines ersten Signals einer Grundfrequenz, insbesondere im Bereich von 1 bis 30MHz, und einer ersten Phasenlage;
    einen zweiten an eine Zwischenkreisspannung angeschlossenen HF-Signalerzeuger (6, 7, 20, 40, 50) zur Erzeugung eines zweiten Signals der Grundfrequenz und einer zweiten Phasenlage;
    mindestens einen 3dB-Koppler (13, 77 - 91), der das erste und das zweite Signal zu einem Ausgangssignal koppelt und an
    einen Generatorausgang (14, 92) mittelbar oder unmittelbar übergibt.

    摘要翻译： 真空等离子体发生器（1）包括用于连接到电压供应网络的电源连接（2）; 以及连接到产生中间电路电压（5）的第一转换器（4）的电源整流器（3），产生基本频率的第一信号的第一射频（RF）信号发生器（6） 第一相位位置，产生基本频率和第二相位位置的第二信号的第二RF信号发生器（7）和耦合第一和第二信号并产生输出信号的3dB耦合器（13）。 还包括用于在真空室中处理工件的方法的独立权利要求，包括：（A）从电压供应网络接收电源电压; （B）产生中间电路电压; （C）从所述中间电路电压产生基本频率和第一相位位置的第一RF信号; （D）从所述中间电路电压产生所述基本频率和第二相位位置的第二RF信号; 和（E）耦合第一和第二信号，并使用3dB耦合器产生用于真空室的输出信号。

    Verfahren zum Betrieb einer Vakuumplasmaprozessanlage
    5.
    发明公开
    Verfahren zum Betrieb einer Vakuumplasmaprozessanlage 有权

    公开(公告)号：EP1786075A1

    公开(公告)日：2007-05-16

    申请号：EP05024772.5

    申请日：2005-11-12

    申请人： HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG

    发明人： Kirchmeier, Thomas ,  Glück, Michael ,  Hofstetter, Christoph ,  Hintz, Gerd, Dr.

    IPC分类号： H01S3/0975 ,  H01S3/0971 ,  H05H1/18

    CPC分类号： H05H1/46 ,  H01S3/036 ,  H01S3/0384 ,  H01S3/073 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975

    摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betrieb einer Vakuumplasmaprozessanlage (10), bei dem in einem ersten Betriebszustand ein Hauptplasma und in einem zweiten Betriebszustand ein Hilfsplasma erzeugt wird, wobei das Hauptplasma erzeugt wird, indem durch eine erste Anzahl von HF-Leistungsgeneratoren (19 - 22) eine Hauptplasmaleistung und durch eine zweite, geringere Anzahl von HF-Leistungsgeneratoren (19 - 22) eine Hilfsplasmaleistung erzeugt wird. Durch das Hilfsplasma wird das Zünden des Hauptplasmas erleichtert.

    摘要翻译： 该方法包括在各自的操作条件下产生主等离子体和辅助等离子体。 产生主等离子体，而一组高频发电机（19-22）产生主等离子体功率，另一组高频发电机产生辅助等离子体功率。 电极或电极对（12,13,14,15）分配给相应的发电机。 监测等离子体条件以查找辅助等离子体或任何其它等离子体是否存在。 对于诸如激光系统或涂覆系统的真空等离子体处理系统也包括独立权利要求。