摘要:
Es wird ein Verfahren vorgestellt, das es ermöglicht, Leiterplatten herzustellen, die in Bereichen mit sehr hohen Anforderungen bezüglich der I/O-Dichte über die für das direkte Aufbringen von Bauelementen, bspw. Chips (Direct-Chip-Attach, DCA) notwendige sehr hohe Verdrahtungsdichte verfügen, ohne Nachteile bzgl. der Metallstruktur in den dadurch notwendig werdenden Bohrungen mit sehr geringem Lochdurchmesser zu zeigen. Eine automatisierte optische Registrierungsroutine erlaubt eine sehr genaue Registrierung bzw. Positionierung in den DCA-Bereichen während der entsprechenden Verfahrensschritte.
摘要:
Es wird ein Verfahren vorgestellt, das es ermöglicht, lediglich in den Teilbereichen einer Leiterplatte, in denen Halbleiterbausteine direkt aufgebracht werden (Direct-Chip-Attach, DCA), d.h., in Bereichen mit sehr hohen Anforderungen bezüglich der I/O-Dichte, eine sehr hohe Verdrahtungsdichte zur Verfügung zu stellen. Eine automatisierte Registrierungsroutine erlaubt eine sehr genaue Registrierung bzw. Positionierung in den DCA-Bereichen während der entsprechenden Verfahrensschritte.