公开(公告)号：EP1117744A1

公开(公告)日：2001-07-25

申请号：EP99968243.8

申请日：1999-09-01

申请人： Holt Lloyd Limited

发明人： HYWEAL-EVANS, Duncan

IPC分类号： C09G1/08 ,  C09G1/18

CPC分类号： C09G1/08 ,  C09G1/18

摘要： A polish composition to remove or mask scratch marks in a paint surface comprises a non-volatile component to be deposited having a refractive index the same as that of the scratched surface and a volatile carrier. Preferably the composition includes a stabiliser.

公开(公告)号：EP3052595A1

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：EP14777058.0

申请日：2014-09-25

申请人： Shell Internationale Research Maatschappij B.V.

发明人： WIERSMA, Rendert Jan ,  TURFBOER, Johannes ,  RIEMERSMA, Robert ,  MORSINK, Johannes Bernardus Wilhelmus

IPC分类号： C10M107/02

CPC分类号： C10L1/04 ,  A01N27/00 ,  C09D7/20 ,  C09G1/18 ,  C09K8/34 ,  C09K8/64 ,  C10G2/30 ,  C10G2300/301 ,  C10G2300/302 ,  C10G2300/308 ,  C10L1/1616 ,  C10L2200/0492 ,  C10L2270/08 ,  C10L2290/42 ,  C10L2290/543 ,  C10M101/00 ,  C10M107/02 ,  C10M2205/173 ,  C10N2220/022 ,  C10N2220/023 ,  C10N2220/027 ,  C10N2220/028 ,  C10N2220/031 ,  C10N2220/032 ,  C10N2220/10 ,  C10N2230/64 ,  C10N2240/105 ,  C10N2240/40 ,  C10N2240/401 ,  C10N2240/407 ,  C10N2240/58 ,  C10N2270/00 ,  C11D7/5027

摘要： The present invention provides a Fischer-Tropsch derived gas oil fraction having an initial boiling point of at least 270° C. and a final boiling point of at most 305° C. In another aspect the present invention provides a functional fluid formulation comprising a Fischer-Tropsch derived gas oil fraction having an initial boiling point of at least 270° C. and a final boiling point of at most 305° C.

摘要翻译： 本发明提供了具有至少270℃的初沸点和至多305℃的终沸点的费 - 托衍生的气油馏分。 另一方面，本发明提供了一种功能性流体制剂，其包含具有至少270℃的初沸点和至多305℃的终沸点的费 - 托衍生的气油馏分。

公开(公告)号：EP1117744B1

公开(公告)日：2005-11-16

申请号：EP99968243.8

申请日：1999-09-01

申请人： Holt Lloyd Limited

发明人： HYWEAL-EVANS, Duncan

IPC分类号： C09G1/08 ,  C09G1/18

CPC分类号： C09G1/08 ,  C09G1/18

摘要： A polish composition to remove or mask scratch marks in a paint surface comprises a non-volatile component to be deposited having a refractive index the same as that of the scratched surface and a volatile carrier. Preferably the composition includes a stabiliser.

公开(公告)号：EP3211053A4

公开(公告)日：2017-09-06

申请号：EP15852540

申请日：2015-10-15

申请人： FUJIMI INC

发明人： TAKAHASHI SHUHEI ,  TOMATSU MASATOSHI

IPC分类号： C09G1/02 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

CPC分类号： C09G1/18 ,  B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/304 ,  H01L21/321

摘要： Provided is a polishing composition capable of keeping a good polishing removal rate stably. The polishing composition includes silica particles as abrasives and a basic compound as a polishing removal accelerator. The silica particles have a density of silanol groups that is 1.5 to 6.0 pieces/nm 2 . The polishing composition has an adsorption ratio parameter A that is 1.2 or less, the adsorption ratio parameter representing concentration dependency of an amount of adsorption of the basic compound to the silica particles as the ratio of high-concentration adsorption amount/low-concentration adsorption amount.

摘要翻译： 本发明提供能够稳定地保持良好的研磨去除率的研磨用组合物。 研磨用组合物含有作为研磨材料的二氧化硅粒子和作为研磨除去促进剂的碱性化合物。 二氧化硅粒子的硅烷醇基的密度为1.5〜6.0个/ nm 2。 研磨用组合物的吸附率参数A为1.2以下，吸附率参数表示碱性化合物相对于二氧化硅粒子的吸附量的浓度依赖性，作为高浓度吸附量/低浓度吸附量 。

公开(公告)号：EP3211053A1

公开(公告)日：2017-08-30

申请号：EP15852540.2

申请日：2015-10-15

申请人： Fujimi Incorporated

发明人： TAKAHASHI, Shuhei ,  TOMATSU, Masatoshi

IPC分类号： C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  H01L21/304

CPC分类号： C09G1/18 ,  B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/304 ,  H01L21/321

摘要： Provided is a polishing composition capable of keeping a good polishing removal rate stably. The polishing composition includes silica particles as abrasives and a basic compound as a polishing removal accelerator. The silica particles have a density of silanol groups that is 1.5 to 6.0 pieces/nm 2 . The polishing composition has an adsorption ratio parameter A that is 1.2 or less, the adsorption ratio parameter representing concentration dependency of an amount of adsorption of the basic compound to the silica particles as the ratio of high-concentration adsorption amount/low-concentration adsorption amount.

摘要翻译： 本发明提供能够稳定地保持良好的研磨去除率的研磨用组合物。 研磨用组合物含有作为研磨材料的二氧化硅粒子和作为研磨除去促进剂的碱性化合物。 二氧化硅粒子的硅烷醇基的密度为1.5〜6.0个/ nm 2。 研磨用组合物的吸附率参数A为1.2以下，吸附率参数表示碱性化合物相对于二氧化硅粒子的吸附量的浓度依赖性，作为高浓度吸附量/低浓度吸附量 。

公开(公告)号：EP1996149B1

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：EP07752436.1

申请日：2007-03-07

申请人： Elevance Renewable Sciences, Inc.

发明人： BRAKSMAYER, Diza, Pearl ,  MURPHY, Timothy, A. ,  RUSSELL, Stephen, E. ,  TUPY, Michael, John ,  WALTERS, Scott, A.

IPC分类号： C11C3/00 ,  C07C69/34 ,  C07C69/52 ,  C07C69/593 ,  A61K8/37 ,  A61Q19/00 ,  A61Q1/04 ,  A61Q1/06 ,  C08K5/00 ,  C08K5/11 ,  C09D5/08 ,  C09J191/00 ,  A23D7/005 ,  A61K8/92 ,  A61K8/06 ,  C09D5/02 ,  C09D11/0235 ,  C08K5/103 ,  C09G1/18

CPC分类号： A61K8/37 ,  A23D7/0053 ,  A61K8/06 ,  A61K8/922 ,  A61Q1/06 ,  A61Q19/00 ,  C07C69/34 ,  C07C69/52 ,  C07C69/593 ,  C08K5/103 ,  C09D5/022 ,  C09D5/086 ,  C09D11/0235 ,  C09G1/18 ,  C11C3/00 ,  C11C3/02 ,  C11C3/126 ,  Y10S516/923

摘要： Disclosed are petrolatum-like compositions that comprise metathesized unsaturated polyol esters. Also disclosed are emulsions comprising metathesized unsaturated polyol esters. The petrolatum-like compositions may be used as substitutes for petroleum-based petrolatum. The emulsions may be water-in-oil or oil-in-water emulsions and may be suitable for a variety of end uses.

摘要翻译： 公开了包含复分解不饱和多元醇酯的凡士林样组合物。 还公开了包含易位的不饱和多元醇酯的乳液。 凡士林样组合物可以用作石油基凡士林的替代物。 乳液可以是油包水或水包油乳液，并且可以适用于各种最终用途。

公开(公告)号：EP2374852A1

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：EP11161123.2

申请日：2011-04-05

申请人： FUJIMI INCORPORATED

发明人： Hirano, Tatsuhiko ,  Tamada, Shuichi ,  Umeda, Takahiro

IPC分类号： C09G1/02 ,  H01L21/321

CPC分类号： B24C1/08 ,  C08G73/00 ,  C09G1/02 ,  C09G1/16 ,  C09G1/18 ,  C23F3/06 ,  H01L21/02074 ,  H01L21/3212

摘要： A polishing composition contains a polishing accelerator, a water-soluble polymer including a constitutional unit originating from a polymerizable compound having a guanidine structure such as dicyandiamide, and an oxidant. The water-soluble polymer may be a water-soluble polymer including a constitutional unit originating from dicyandiamide and a constitutional unit originating from formaldehyde, a diamine or a polyamine.

公开(公告)号：EP3099756A4

公开(公告)日：2017-08-02

申请号：EP15743237

申请日：2015-01-21

申请人： BASF SE

发明人： LAUTER MICHAEL ,  LANGE ROLAND ,  NOLLER BASTIAN MARTEN ,  SIEBERT MAX

IPC分类号： C09G1/18 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/321

CPC分类号： C09G1/02 ,  C09G1/18 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/31055 ,  H01L21/3212 ,  H01L21/76224

摘要： A chemical mechanical polishing (CMP) composition comprising (A) Colloidal or fumed inorganic particles or a mixture thereof, (B) a poly (amino acid) and or a salt thereof, and (M) an aqueous medium.

摘要翻译： 一种化学机械抛光（CMP）组合物，其包含（A）胶态或气相无机颗粒或其混合物，（B）聚氨基酸和/或其盐和（M）水性介质。

公开(公告)号：EP2812911B1

公开(公告)日：2017-06-28

申请号：EP13746024.2

申请日：2013-01-25

申请人： BASF SE ,  BASF Schweiz AG

发明人： LI, Yuzhuo ,  NOLLER, Bastian Marten ,  LAUTER, Michael ,  LANGE, Roland

IPC分类号： H01L21/304 ,  H01L21/302 ,  H01L21/463 ,  H01L21/461 ,  C09G1/00

CPC分类号： C09G1/02 ,  C09G1/18 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

公开(公告)号：EP2374852B1

公开(公告)日：2017-04-05

申请号：EP11161123.2

申请日：2011-04-05

申请人： FUJIMI INCORPORATED

发明人： Hirano, Tatsuhiko ,  Tamada, Shuichi ,  Umeda, Takahiro

IPC分类号： C09G1/02 ,  H01L21/321

CPC分类号： B24C1/08 ,  C08G73/00 ,  C09G1/02 ,  C09G1/16 ,  C09G1/18 ,  C23F3/06 ,  H01L21/02074 ,  H01L21/3212