公开(公告)号：EP4386808A1

公开(公告)日：2024-06-19

申请号：EP22213194.8

申请日：2022-12-13

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： PEIJSTER, Jerry, Johannes, Martinus

IPC分类号： H01J37/02 ,  H01J37/15 ,  H01J37/16

CPC分类号： H01J37/023 ,  H01J37/16 ,  H01J37/15 ,  H01J37/32889 ,  H01J2237/06120130101 ,  H01J2237/06320130101

摘要： The present disclosure relates to modular assembly for engaging modules of an apparatus together. The assembly comprising two modules configured to be mutually engageable to adjoin each other. The modules each having a body 71; 72 and multiple engagers 81; 82 that are each configured to engage with a corresponding engager 82; 81 of another of the modules and to complete a corresponding verification circuit. Each verification circuit is configured to be closed on engagement of an engager of one of the modules with a corresponding engager of the other of the modules. The engager is configured to be electrically isolated from the body of the one of the two modules, and the corresponding engager is configured to be electrically connected to the body of the other of the two modules.

公开(公告)号：EP3166126B1

公开(公告)日：2018-09-19

申请号：EP16196946.4

申请日：2016-11-02

申请人： JEOL LTD.

发明人： KAWAI, Shuji

IPC分类号： H01J37/20 ,  H01J37/244 ,  H01J37/02

CPC分类号： H01J37/023 ,  G01N23/20091 ,  H01J37/10 ,  H01J37/20 ,  H01J37/244 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/2445

摘要： There is provided a charged particle beam system in which a detector can be placed in an appropriate analysis position. The charged particle beam system (100) includes: a charged particle source (11) for producing charged particles; a sample holder (20) for holding a sample (S); a detector (40) for detecting, in the analysis position, a signal produced from the sample (S) by impingement of the charged particles on the sample (S); a drive mechanism (42) for moving the detector (40) into the analysis position; and a controller (52) for controlling the drive mechanism (42). The controller (52) performs the steps of: obtaining information about the type of the sample holder (20); determining the analysis position on the basis of the obtained information about the type of the sample holder (20); and controlling the drive mechanism (42) to move the detector (40) into the determined analysis position.

公开(公告)号：EP3146374A1

公开(公告)日：2017-03-29

申请号：EP15730863.6

申请日：2015-05-22

申请人： Delmic B.V.

发明人： NARVAEZ, Angela Carolina ,  LIV HAMARAT, Nalan ,  KRUIT, Pieter ,  HOOGENBOOM, Jacob Pieter

IPC分类号： G02B21/00 ,  G02B21/24 ,  G02B21/26 ,  H01J37/02 ,  H01J37/22

CPC分类号： G02B21/0004 ,  G02B21/002 ,  G02B21/241 ,  G02B21/26 ,  H01J37/023 ,  H01J37/228 ,  H01J2237/216

摘要： The invention relates to a method for positioning a focal plane of a light imaging device at a surface of a substrate, wherein the substrate emits light when irradiated with charged particles. The method comprises the steps of: i. irradiating the substrate with a beam of charged particles having a set charged particle beam energy; ii. moving the focal plane of the light imaging device at least in a direction towards or away from the substrate and measuring an intensity of the emitted light as a function of the position of said focal plane with respect to the substrate; and iii. setting the focal plane at a focal position with respect to the substrate, said focal position being determined using the measured dependence of the intensity of the light signal as a function of the position. Preferably the method steps are subsequently repeated using a reduced charged particle beam energy.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于在基板的表面定位的光成像装置的焦平面，worin发光当与带电粒子照射的基片的方法。 该方法包括以下步骤：i。 与具有粒子束能量带电组带电粒子的束照射所述衬底; II。 在朝向或远离基板和所发射的光作为所述焦平面相对于基板上的位置的函数的强度的测量离开的方向至少移动光成像装置的焦平面; 和iii。 在相对于基板的焦点位置设定焦平面，所述焦点位置被确定使用所测量的光信号作为位置的函数的强度的依赖性开采。 优选使用的是降低带电粒子束的能量随后重复所述方法步骤。

公开(公告)号：EP2145717A1

公开(公告)日：2010-01-20

申请号：EP09008404.7

申请日：2009-06-26

申请人： All Welding Technologies AG

发明人： Vokurka, Franz

IPC分类号： B23K15/00 ,  B23K15/06 ,  H01J37/16 ,  H01J37/18

CPC分类号： B23K15/06 ,  B23K15/002 ,  H01J37/023 ,  H01J37/147 ,  H01J37/16 ,  H01J37/315 ,  H01J2237/0245 ,  H01J2237/1503 ,  H01J2237/166

摘要： Eine Kammeranordnung (10) für eine Elektronenstrahlbearbeitungsvorrichtung weist ein Kammergehäuse (12), das einen Kammerinnenraum (14) definiert und eine erste Öffnung (46) aufweist, einen Schlitten (52), der im Bereich der ersten Öffnung (46) bewegbar ist, einen Elektronenstrahlgenerator (42) zum Erzeugen eines Elektronenstrahls entlang einer Elektronenstrahlachse (45), wobei der Elektronenstrahlgenerator (42) an dem Schlitten (52) so angeordnet ist, dass bei einer Bewegung des Schlittens (52) im Bereich der ersten Öffnung (46) der Elektronenstrahl durch die erste Öffnung (46) hindurchgeht, und eine Scheibe (70) auf. Die Scheibe (70) ist zwischen dem Kammergehäuse (12) und dem Schlitten (52)angeordnet und ist um eine Drehachse (72), die senkrecht zu der ersten Öffnung (46) ist, wenigstens zwischen einer ersten Position und einer zweiten Position drehbar und weist eine zweite Öffnung (74) mindestens in einem Bereich der Scheibe (70), der sich in radialer Richtung von der Drehachse (72) der Scheibe (70) weg erstreckt, auf. Die Drehachse (72) der Scheibe (70) ist so angeordnet, dass sich die erste Öffnung (46) und die zweite Öffnung (74) bei einer Drehung der Scheibe (70) zwischen der ersten Position und der zweiten Position wenigstens im Bereich der Elektronenstrahlachse (45) überdecken.

摘要翻译： 腔室结构包括一个腔室壳体（12）那样定义的腔室内部区域（14）和具有第一开口（46），滑架（52）所做的是可动在所述第一开口的区域中，电子束发生器，用于产生 沿着电子束轴（45），一个帧的电子束，盘并在所述腔室壳体和滑架之间布置并且是可旋转的基座围绕旋转轴线做是垂直于该第一开口，在第一位置和第二位置之间。 该盘具有第二开口做在盘的旋转轴线的径向方向上延伸。 腔室结构包括一个腔室壳体（12）那样定义的腔室内部区域（14）和具有第一开口（46），滑架（52）所做的是可动在所述第一开口的区域中，电子束发生器，用于产生 沿着电子束轴（45），一个帧的电子束，盘并在所述腔室壳体和滑架之间布置并且是可旋转的基座围绕旋转轴线做是垂直于该第一开口，在第一位置和第二位置之间。 该盘具有第二开口做在盘的旋转轴线的径向方向上延伸。 盘的旋转轴被布置成做的第一位置和在电子束轴的区域中的第二位置之间的圆盘的旋转过程中，第一和第二开口重叠。 电子束发生器被布置在滑架如此做了电子束通过的雪橇的在第一开口的区域中的移动过程中所述第一开口。 所述第一开口是圆形的或狭缝形的，并且所述第二开口狭缝状。 凸缘装备上的电子束发生器。 密封在所述凸缘和所述第二开口的盘之间所包围和密封在盘和第一开口的腔室壳体之间包围。 所述凸缘与所述雪橇形成。 所述凸缘与所述滑架有两个分开的部分。 XY雪橇形成为雪橇。 电子束发生器包括喷射管，通过该圆盘旋转。 该盘是通过旋转驱动器驱动的。 所述第二开口包括长度所做的是较大的，则第一开口的一半长度加上喷射管的直径。 盘的旋转轴穿过所述第二开口延伸。 所述框架装备有扩展间隔彼此平行地和滑架是在延伸的两个侧表面可引导。 盘通过轴承可旋转地布置确实是帧之间以及在盘的外周存在。

公开(公告)号：EP0089621B1

公开(公告)日：1986-08-27

申请号：EP83102628.1

申请日：1983-03-17

申请人： COMMUNAUTE EUROPEENNE DE L'ENERGIE ATOMIQUE (EURATOM)

发明人： Causse d'Agraives, Bertrand François ,  Toornvliet, Jan

IPC分类号： F16J15/54 ,  G12B3/06 ,  H01J37/00

CPC分类号： G12B3/06 ,  F16J15/54 ,  H01J37/023 ,  H01J37/18

公开(公告)号：EP2884269B1

公开(公告)日：2018-09-12

申请号：EP14786438.3

申请日：2014-07-31

申请人： Tsinghua University ,  Nuctech Company Limited

发明人： KANG, Kejun ,  LI, Jianmin ,  GU, Jingyu ,  LI, Yuanjing ,  LI, Yulan ,  LIU, Yaohong ,  TAN, Zhen ,  WU, Yucheng ,  WANG, Weizhen

IPC分类号： G01N23/04 ,  G01V5/00

CPC分类号： G01V5/0066 ,  B64F5/60 ,  G01N23/04 ,  G01N23/10 ,  G01N2223/631 ,  G01V5/0016 ,  H01J37/023 ,  H01L27/14618

摘要： The present disclosure provides a system and method for inspecting an aircraft. A ray source and a detector locate at above and below of a fuselage of an aircraft, respectively. The ray source emits a beam of rays, which pass through the aircraft to be detected. The detector receives and converts the beam of rays that pass through the aircraft to an output signal, and generates a vertical transmission image in real time.

公开(公告)号：EP3007201A1

公开(公告)日：2016-04-13

申请号：EP14188029.4

申请日：2014-10-08

申请人： FEI COMPANY

发明人： Buijsse, Bart ,  Van Duinen, Gijs

IPC分类号： H01J37/26

CPC分类号： H01J37/023 ,  H01J37/153 ,  H01J37/26 ,  H01J37/261 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/1532 ,  H01J2237/1534 ,  H01J2237/2602 ,  H01J2237/2614

摘要： When preparing a Hole-Free Phase Plates (HFPP) a preferably featureless thin film should be placed with high accuracy in the diffraction plane of the TEM, or a plane conjugate to it. The invention discloses two related embodiments for accurately placing the thin film in said plane.
The first embodiment uses a Ronchigram of the thin film while the TEM is in imaging mode, and the magnification of the Ronchigram should be tuned so that the magnification in the middle of the Ronchigram is infinite.
The second embodiment makes use of electrons scattered by the thin film while the TEM is in diffraction mode. When the thin film does not coincide with the diffraction plane, electrons scattered by the thin film seem to originate from another location than the cross-over of the zero beam. This is observed as a halo. The absence of the halo is proof that the thin film coincides with the diffraction plane.
It is noted that the method is best performed without a sample in the sample holder.

摘要翻译： 当准备无孔相板（HFPP）时，应该在TEM的衍射平面或与其共轭的平面上以高精度放置优选无特征薄膜。 本发明公开了用于将薄膜准确地放置在所述平面中的两个相关实施例。 第一实施例在TEM处于成像模式时使用薄膜的Ronchigram，并且应该调整Ronchigram的放大倍率，使得Ronchigram中间的放大率是无限大的。 第二实施例利用在TEM处于衍射模式时被薄膜散射的电子。 当薄膜与衍射平面不一致时，由薄膜散射的电子似乎源自与零光束交叉的另一位置。 这被观察为光环。 光晕的不存在证明薄膜与衍射平面重合。 应注意，该方法最好在样品架中没有样品的情况下进行。

公开(公告)号：EP2650901A1

公开(公告)日：2013-10-16

申请号：EP11847394.1

申请日：2011-11-30

申请人： Hitachi High-Technologies Corporation

发明人： NOMAGUCHI, Tsunenori ,  SEKIHARA, Isamu ,  AGEMURA, Toshihide

IPC分类号： H01J37/147 ,  H01J37/317

CPC分类号： H01J29/70 ,  H01J37/023 ,  H01J37/147 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/03

摘要： In order to provide a charged particle beam apparatus capable of irradiating a desired region in the surface of a sample with a charged particle beam from a wide range of angles, an electrode unit (204) comprising an electrode, the inclination angle of which (i.e. the angle of inclination relative to a plane orthogonal to the extension line of the center axis of the ion beam column (201a)) and the position of which (i.e. the position in the direction along the extension line of the center axis of the ion beam column (201a) and in directions orthogonal thereto) can be adjusted, is arranged within a sample chamber (203) of the charged particle beam apparatus. The charged particle beam apparatus is also configured so that a curved ion beam (201b) is irradiated onto a surface of a sample (202) by the electrode. This enables irradiation of the ion beam (201b) to a desired range within the surface of the sample (202), from a wide range of angles with respect to the sample surface.

摘要翻译： 为了提供一种带电粒子束装置，其能够从宽范围的角度用带电粒子束照射样品表面的期望区域;电极单元（204），包括电极，其倾斜角（即 相对于与离子束列（201a）的中心轴线的延伸线正交的平面的倾斜角度及其位置（即沿着离子束的中心轴线的延长线的方向的位置 列（201a）并且与其正交的方向）可以被调整，被布置在带电粒子束装置的样品室（203）内。 带电粒子束装置还被配置成使得弯曲的离子束（201b）通过电极照射到样品（202）的表面上。 这样可以使样品（202）的表面内的离子束（201b）照射到期望的范围内，从相对于样品表面的宽范围的角度。

公开(公告)号：EP2642506A1

公开(公告)日：2013-09-25

申请号：EP13160075.1

申请日：2013-03-20

申请人： FEI COMPANY

发明人： Rasmussen, Jorgen ,  Malinak, Kevin

IPC分类号： H01J37/02 ,  H01J37/16 ,  F16K11/00

CPC分类号： H01J37/3002 ,  B05B1/005 ,  B05B1/30 ,  F16K11/0716 ,  H01J37/02 ,  H01J37/023 ,  H01J37/16 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/317

摘要： A multi-positional valve is used to control the destination of gas flows from multiple gas sources. In one valve position the gases flow to an isolated vacuum system where the flow rate and mixture can be adjusted prior to introduction into a sample vacuum chamber. In another valve position the pre-mixed gases flow from the isolated vacuum chamber and through a needle into the sample vacuum chamber.

摘要翻译： 多位置阀用于控制来自多个气源的气流的目的地。 在一个阀门位置，气体流到隔离的真空系统，其中在引入样品真空室之前可以调节流速和混合物。 在另一个阀门位置，预混合气体从隔离的真空室流出并通过针头进入样品真空室。

公开(公告)号：EP2577706A1

公开(公告)日：2013-04-10

申请号：EP11723542.4

申请日：2011-04-29

申请人： Centre National de la Recherche Scientifique

发明人： KOCIAK, Mathieu ,  ZAGONEL, Luiz, Fernando ,  TENCE, Marcel ,  MAZZUCCO, Stefano

IPC分类号： H01J37/02 ,  H01J37/244 ,  H01J37/256

CPC分类号： H01J37/244 ,  H01J37/023 ,  H01J37/228 ,  H01J37/256 ,  H01J37/26 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/2482

摘要： The invention relates to a cathodoluminescence detection system comprising: a collecting optic (112) collecting light radiation (108) from a sample illuminated by a beam of charged particles and reflecting said radiation (108) onto analysis means, said collecting optic (112) being placed in a chamber, called a vacuum chamber, wherein the pressure is below atmospheric pressure; and means (316) for adapting the light radiation, placed downstream of the collecting optic (112) and designed to adapt said light radiation (108) at the inlet of the analysis means. Said system is characterized in that all or part of the adapting means (316) is placed in an environment where the pressure is higher than the pressure in said vacuum chamber.