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公开(公告)号：JP2021114545A
公开(公告)日：2021-08-05
申请号：JP2020006856
申请日：2020-01-20
Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ
IPC: H01L21/306
Abstract: 【課題】 処理液中に形成する不活性ガスの気泡によって基板の処理の均一性を向上することができる基板処理装置を提供する。 【解決手段】処理槽18の底部に複数の液供給管31と複数の気泡管部37とが配されている。液供給管31には、下方内向きと下方外向きに処理液を吐出する液吐出孔31a、31bが形成されている。気泡管部37には、下方内向き窒素ガスを吐出するガス吐出孔37aが形成されている。気泡管部37のそれぞれは、基板11の配列範囲のほぼ中央で仕切り板40によって第1吐出部41と第2吐出部42とに区分されている。各気泡管部37の第1吐出部41及び第2吐出部42は、それらにそれぞれ接続された流量調整部52によって流量が独立に調整される窒素ガスが供給される。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP2020120011A
公开(公告)日：2020-08-06
申请号：JP2019010345
申请日：2019-01-24
Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ
IPC: H01L21/302 , H01L21/3065 , H01L21/306 , H01L21/304 , H01L21/027
Abstract: 【課題】レジスト膜の高い除去レートを得ることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 【解決手段】ハウジング12内の回転テーブル21には、基板11の処理面S1が固定プレート17の上面と所定の間隔だけ離れ、処理面S1を下向きにした姿勢で固定される。基板11は、回転テーブル21と一体に回転する。基板11の回転中に、固定プレート17の中央部に設けた吐出部16から、オゾンガスとオゾン水を混合した気液二相流体を、処理面S1と上面との間に形成された流路に流す。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2020107555A
公开(公告)日：2020-07-09
申请号：JP2018247211
申请日：2018-12-28
Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ , 小池産業株式会社 , プライムアースEVエナジー株式会社
Abstract: 【課題】電解液注液孔の直径が1.5mm以上の二次電池に適応できる二次電池の製造方法及び二次電池の製造装置を提供する。 【解決手段】電解液注液孔26が設けられた蓋板16を含む電池ケース12と、前記電解液注液孔26を封止している封止部材28と、を備えた二次電池10の製造方法であって、前記電解液注液孔26は、前記蓋板16の前記電池ケース12外面側に向けて拡径するテーパ面34を有し、前記電解液注液孔26から前記電池ケース12に電解液が注入された後に、前記電解液注液孔26に前記封止部材28が配置されたセル13を準備する準備工程と、前記封止部材28に接触させたホーン64から、圧入荷重と、圧入方向に平行な周波数20kHz以上の超音波振動とを付与しながら、前記封止部材28を前記電解液注液孔26に圧入する圧入工程と、を備える。 【選択図】図6
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公开(公告)号：JP6533333B1
公开(公告)日：2019-06-19
申请号：JP2018247211
申请日：2018-12-28
Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ , 小池産業株式会社 , プライムアースEVエナジー株式会社
IPC: H01M2/36
Abstract: 【課題】電解液注液孔の直径が1.5mm以上の二次電池に適応できる二次電池の製造方法及び二次電池の製造装置を提供する。 【解決手段】電解液注液孔26が設けられた蓋板16を含む電池ケース12と、前記電解液注液孔26を封止している封止部材28と、を備えた二次電池10の製造方法であって、前記電解液注液孔26は、前記蓋板16の前記電池ケース12外面側に向けて拡径するテーパ面34を有し、前記電解液注液孔26から前記電池ケース12に電解液が注入された後に、前記電解液注液孔26に前記封止部材28が配置されたセル13を準備する準備工程と、前記封止部材28に接触させたホーン64から、圧入荷重と、圧入方向に平行な周波数20kHz以上の超音波振動とを付与しながら、前記封止部材28を前記電解液注液孔26に圧入する圧入工程と、を備える。 【選択図】図6
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公开(公告)号：JP6507433B2
公开(公告)日：2019-05-08
申请号：JP2015123893
申请日：2015-06-19
Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6231249B2
公开(公告)日：2017-11-15
申请号：JP2017525212
申请日：2016-06-13
Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/304 , H01L21/306
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公开(公告)号：JP5271060B2
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：JP2008307837
申请日：2008-12-02
Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ
IPC: H01L21/304 , G02F1/13 , G02F1/1333
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate treatment apparatus capable of preventing the re-adhesion of contaminant and the like and improving a cleaning treatment effect. SOLUTION: The treatment apparatus includes a treatment tank where each substrate to be treated is erected and stored in a clearance between a pair of confronted first and second erection walls erected by leaving a prescribed interval, a treatment liquid is supplied and the surface treatment of the substrate to be treated is performed. In the first and second erection walls 2b and 3, a first fluid control means is arranged on an inner wall face of either confronted wall. The first fluid control means is formed of dimples a 1 to a n changing a flow of the treatment liquid between an inner wall face side where the fluid control means is arranged and a substrate face side of the substrate W to be treated. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
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公开(公告)号：JP4637741B2
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：JP2005377026
申请日：2005-12-28
Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ
IPC: H01L21/304
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公开(公告)号：JP2021136069A
公开(公告)日：2021-09-13
申请号：JP2020028797
申请日：2020-02-21
Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ , 積水化学工業株式会社
IPC: H01M50/172 , H01M50/10 , H01M10/04
Abstract: 【課題】溶着不良が生じにくい超音波溶着装置を提供する。 【解決手段】超音波ホーン21は、その圧接面21aをラミネートシート15,16の周縁部に圧接した状態でX方向に移動することによりラミネートシート15,16の周縁部を超音波溶着する。超音波ホーン21の圧接面21aは、圧接する向きに突出する円弧形状になっている。圧接面21aは、それとの間にラミネートシート15、16を挟む載置面との間隔が、溶着時に超音波ホーン21が移動方向の先端から後端側に向かって連続的に漸減している。この圧接面21aにより、円滑にラミネートシート15、16が密着される。 【選択図】図5
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