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公开(公告)号：JP2018520495A
公开(公告)日：2018-07-26
申请号：JP2018503180
申请日：2016-07-21
Applicant: エルメス マイクロビジョン,インコーポレーテッド , HERMES MICROVISION INC.
IPC: H01J37/29 , H01J37/05 , H01J37/09 , H01J37/147 , H01J37/28
CPC classification number: H01J37/1474 , H01J37/06 , H01J37/10 , H01J37/1477 , H01J37/1478 , H01J37/28 , H01J2237/024 , H01J2237/0453 , H01J2237/0492 , H01J2237/103 , H01J2237/1205 , H01J2237/1516 , H01J2237/1534 , H01J2237/1536
Abstract: 【課題】試料を高解像度および高スループットで観察するためのマルチビーム装置を提案する。 【解決手段】本装置においては、ソース変換ユニットが、ひとつの単一電子ソースの複数の平行な像を、そこからの平行な一次電子ビームの複数のビームレットを偏向することによって形成し、ひとつの対物レンズが、複数の偏向されたビームレットを試料表面上に収束させて複数のプローブスポットを形成する。可動コンデンサレンズが、一次電子ビームを平行化し、複数のプローブスポットの電流を変化させるために使用され、プレビームレット形成手段が一次電子ビームのクーロン効果を弱め、ソース変換ユニットが対物レンズとコンデンサレンズの軸外収差を最小化し補償することによって複数のプローブスポットのサイズを最小化する。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2016219577A
公开(公告)日：2016-12-22
申请号：JP2015101953
申请日：2015-05-19
Applicant: 株式会社ニューフレアテクノロジー
Inventor： 松井 秀樹
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: H01J37/1472 , H01J37/3174 , H01J2237/043 , H01J2237/103 , H01J2237/2485 , H01J2237/31715
Abstract: 【課題】セトリング時間を短縮し、スループットを向上させることができる荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 【解決手段】本実施形態による描画装置100の記憶部142は、偏向器216を制御するDACアンプ136のセトリング時間、及び偏向器216によるビーム偏向量を変えながら評価基板上に描画された各評価パターンの描画位置の設計位置からの位置ずれ量と前記セトリング時間との対応関係を示す近似式を記憶する。ショット位置補正部52は、各ショットの偏向量に基づく前記DACアンプのセトリング時間と、前記近似式とから、このセトリング時間における偏向量とショット位置ずれ量との関係を示す補正式を作成し、このショットの偏向量と前記補正式とを用いて位置補正量を求め、ショットデータで定義されるショット位置を補正する。描画部150は、ショット位置が補正されたショットデータを用いて描画を行う。 【選択図】図1
Abstract translation: 甲缩短稳定时间，以提供带电粒子束描绘设备和带电粒子束写入方法能够提高生产率。 根据本实施例中，DAC放大器136的稳定时间来控制偏转器216，并且当由所述偏转器216改变光束偏转量的评价基板上所绘制的评价的描绘装置100的存储单元142中 存储的近似表达式表示从该图案的描绘位置的设计位置的位置偏差量和整定时间之间的关系。 拍摄位置校正单元52创建基于每个镜头的偏转量的DAC放大器的稳定时间，从所述近似方程，示出了在建立时间偏转量和拍摄位置偏移量之间的关系的校正方程， 通过使用镜头的偏转量确定的位置校正量和所述校正公式校正由拍摄数据中定义的拍摄位置。 渲染单元150个执行通过使用拍摄数据的拍摄位置呈现已被校正。 点域1
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公开(公告)号：JP2011526063A
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：JP2011516285
申请日：2009-06-23
Applicant: アクセリス テクノロジーズ, インコーポレイテッド
Inventor： ヴァンダーバーグ，ボ , サカセ，タカオ , スミック，セオドア , ファーリー，マーヴィン , ライディング，ジェフリー
IPC: H01J37/317 , H01J49/46
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/05 , H01J2237/0492 , H01J2237/103 , H01J2237/1405 , H01J2237/1501 , H01J2237/1523 , H01J2237/153 , H01J2237/21 , H01J2237/24528 , H01J2237/31705
Abstract: A system and method for magnetically filtering an ion beam during an ion implantation into a workpiece is provided, wherein ions are emitted from an ion source and accelerated the ions away from the ion source to form an ion beam. The ion beam is mass analyzed by a mass analyzer, wherein ions are selected. The ion beam is then decelerated via a decelerator once the ion beam is mass-analyzed, and the ion beam is further magnetically filtered the ion beam downstream of the deceleration. The magnetic filtering is provided by a quadrapole magnetic energy filter, wherein a magnetic field is formed for intercepting the ions in the ion beam exiting the decelerator to selectively filter undesirable ions and fast neutrals.
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公开(公告)号：JPWO2008136130A1
公开(公告)日：2010-07-29
申请号：JP2009512858
申请日：2007-04-24
Applicant: キヤノンアネルバ株式会社
IPC: C23C14/32
CPC classification number: H01J37/08 , C23C14/081 , C23C14/28 , H01J37/04 , H01J37/1472 , H01J37/3053 , H01J37/3178 , H01J2237/061 , H01J2237/083 , H01J2237/103 , H01J2237/152 , H01J2237/3132 , H01J2237/3146
Abstract: プラズマガンから収束コイルにより引き出したプラズマビーム(25)を、プラズマビームの進行方向に対して直交する方向に延び、対向して互いに平行に配置されて対になっている永久磁石からなるマグネット(27)によって形成される磁場の中に通過させて、ビーム断面を偏平化させる。偏平化ビーム28幅Wtに対しビーム強度の半減値幅をWiとすると、0.7≦Wi/Wtであるプラズマビームを用いたプラズマ装置が提供される。ビーム中心での反発磁場強度がより強いマグネットが少なくとも一つ含まれている。
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公开(公告)号：JP2018514050A
公开(公告)日：2018-05-31
申请号：JP2017539270
申请日：2016-03-24
IPC: H01J37/05 , H01J37/09 , H01J37/12 , H01J37/147 , H01J37/153 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J37/305 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3007 , H01J29/62 , H01J29/70 , H01J31/24 , H01J37/3005 , H01J37/3053 , H01J2237/103 , H01J2237/2802
Abstract: 本発明は、荷電粒子線の軌道を偏向させる円筒形静電レンズを対称に配列し、その間にエネルギーエネルギー選択絞り(Energy selection aperture)を配置することで、指定されたエネルギー範囲の荷電粒子線を選択することが可能な荷電粒子線装置に関し、モノクロメーターの中央電極および前記中央電極を中心に前方部および後方部に配列される複数の電極が絶縁体を介して互いに固定される一体化構造を取ることから、前方部および後方部にそれぞれのレンズを別途に設ける場合に比べて、光軸に対してオフセットを調整する機構が簡素化されるという利点を有し、光学系の対称性によって出射面における二次収差が相殺される。【選択図】図1
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2015068669A1
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：JP2015546632
申请日：2014-10-31
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/22
CPC classification number: H01J37/222 , H01J37/10 , H01J37/22 , H01J37/261 , H01J37/263 , H01J2237/045 , H01J2237/103 , H01J2237/221 , H01J2237/248 , H01J2237/2602
Abstract: 制限視野絞りの位置調整作業における作業性を向上する。電子顕微鏡において、制限視野絞り挿入前の観察視野をマップ画像として撮影する撮影手段と、前記マップ画像を記憶する記憶手段と、前記絞り挿入後の観察視野を撮影して前記絞りの輪郭線を抽出する抽出手段と、前記マップ画像に前記輪郭線を描画する描画手段と、前記描画手段によって描画された画像を表示する表示手段とを備えた。
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公开(公告)号：JP5336496B2
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：JP2010526310
申请日：2008-09-26
Applicant: イオン・ビーム・アプリケーションズ・エス・アー
Inventor： ミシェル・アブ , ザイモン・ザレムバ , ウィレム・クリーヴェン
IPC: H01J37/147 , A61L2/08 , G01N23/225 , H01J35/30 , H01J37/12
CPC classification number: H01J37/10 , A61L2/087 , A61L2202/122 , A61N5/1043 , A61N2005/1087 , G21K1/08 , G21K5/04 , G21K5/10 , H01J37/147 , H01J37/1474 , H01J37/3002 , H01J37/3005 , H01J37/304 , H01J37/3045 , H01J37/317 , H01J2237/103 , H01J2237/12 , H01J2237/14 , H01J2237/2602 , H01J2237/30 , H01J2237/31701 , H05G2/00
Abstract: An apparatus for transporting a charged particle beam is provided. The apparatus may include: means for scanning the charged particle beam on a target, a dipole magnet arranged upstream of the means for scanning, at least three quadrupole lenses arranged between the dipole magnet and the means for scanning, and means for adjusting the field strength of at least three quadrupole lenses in function of the scanning angle of the charged particle beam. The apparatus can be made at least single achromatic.
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8.发明专利Deflector and manufacturing method of the same, and charged particle exposing device 审中-公开其相应的偏转器和制造方法以及带电粒子曝光装置
公开(公告)号：JP2003031172A
公开(公告)日：2003-01-31
申请号：JP2001214792
申请日：2001-07-16
Applicant: Nikon Corp , 株式会社ニコン
Inventor： NAKANO KATSUSHI
IPC: G03F7/20 , H01B13/00 , H01F7/06 , H01F7/20 , H01J3/14 , H01J37/147 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC classification number: B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01F5/003 , H01F7/20 , H01F7/202 , H01F2041/0711 , H01J37/147 , H01J37/1475 , H01J37/3174 , H01J2237/103 , H01J2237/1405 , H01J2237/1526 , H01J2237/1534 , Y10T29/4902
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a deflector forming a storing deflection field with small current which is stable against the temperature variation, slightly affected by eddy current, with small aberration depending on a geometric accuracy of a coil and a core, and to provide a manufacturing method of the same. SOLUTION: A magnetic tape lamination body is used as a core of a deflector. The positioning of a coil and the magnetic tape lamination body is carried out by using light formation method and electroforming. Further, the magnetic tape lamination body is positioned by using a resist pattern formed by lithography.
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种偏转器，其形成具有小的电流的存储偏转场，该电流对于受到涡流稍微影响的温度变化是稳定的，具有取决于线圈和芯的几何精度的小的像差，并且提供 制造方法相同。 解决方案：磁带层压体用作偏转器的核心。 线圈和磁带层压体的定位通过使用光形成方法和电铸来进行。 此外，通过使用通过光刻形成的抗蚀剂图案来定位磁带层压体。
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公开(公告)号：JP6200514B2
公开(公告)日：2017-09-20
申请号：JP2015546632
申请日：2014-10-31
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/22
CPC classification number: H01J37/222 , H01J37/10 , H01J37/22 , H01J37/261 , H01J37/263 , H01J2237/045 , H01J2237/103 , H01J2237/221 , H01J2237/248 , H01J2237/2602
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公开(公告)号：JP2017054632A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2015176553
申请日：2015-09-08
Applicant: 株式会社日立ハイテクサイエンス
IPC: H01J27/26 , H01J37/08 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/08 , H01J37/10 , H01J37/12 , H01J2237/0805 , H01J2237/083 , H01J2237/103 , H01J37/18
Abstract: 【課題】従来技術よりコンデンサレンズの収差を小さくしてより小さなビーム径を実現でき、かつ集束イオンビームの安定性を向上させることができる集束イオンビーム装置を提供することを目的とする。 【解決手段】集束イオンビーム装置は、イオンビームを放出するイオン源と、イオン源のエミッタの先端からイオンを引き出す引出電極と、引出電極との電位差によって、引出電極によって引き出されたイオンを集束させるコンデンサレンズを構成する第1レンズ電極と、を備え、引出電極と第1レンズ電極との間に強いレンズ作用を発生させて、イオン源から放出させたイオンの全てを集束させることにより、第一電極を含むコンデンサレンズを通過させる。 【選択図】図3
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