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公开(公告)号：JP2020172909A
公开(公告)日：2020-10-22
申请号：JP2019076188
申请日：2019-04-12
Applicant: 株式会社荏原製作所
Abstract: 【課題】ケーシング内の液の漏れ流れを抑制し、かつ部品の摩耗を少なくできる回転式機械およびその部品を提供する。 【解決手段】回転式機械100は、回転軸1を有する回転構造体10と、回転構造体10を収容するケーシング3と、回転構造体10とケーシング3との間における液Lの流れを制限する部品4と、を備える。回転構造体10とケーシング3のうち少なくとも一方は、部品4に対面する対面領域を有する。部品4と前記対面領域のうち少なくとも一方に、ポリマーブラシ層50が形成されている。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2020170800A
公开(公告)日：2020-10-15
申请号：JP2019071877
申请日：2019-04-04
Applicant: 株式会社荏原製作所
Inventor： 宮▲崎▼ 充
IPC: H01L21/304 , H01L21/683
Abstract: 【課題】従前とは異なる手法により、支持部の状態を把握する技術を提供する。 【解決手段】基板支持装置は、基板Wを支持するための支持部10と、支持部10に当接し、支持部10を軸線方向に沿って移動させるための移動部50と、少なくとも一部が移動部50内に設けられ、移動部50が支持部10に当接するときに、支持部10によって流出口61が覆われる流体が流れる流体管60と、流体の状態を検知する検知部90と、を有する。 【選択図】図6
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公开(公告)号：JP2020170764A
公开(公告)日：2020-10-15
申请号：JP2019070492
申请日：2019-04-02
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/683
Abstract: 【課題】支持部が減耗しても基板を当初と同様の態様で支持できる基板支持装置等を提供する。 【解決手段】基板支持装置は、基板Wの周縁部に当接し、前記基板Wを回転させる複数の支持部10と、複数の支持部10が設けられた一対の被駆動部30と、一方の被駆動部31と他方の被駆動部32とを連結する連結部20と、前記連結部20の少なくとも一部を移動させることで、前記被駆動部30の各々を第一方向に沿って直線状で近接又は離隔させる駆動部40と、を有する。 【選択図】図1
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：JP2020161847A
公开(公告)日：2020-10-01
申请号：JP2020112458
申请日：2020-06-30
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/677 , H01L21/304
Abstract: 【課題】 スループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。 【解決手段】 基板処理装置は、基板を研磨する研磨部と、研磨前の基板を前記研磨部へ搬送する搬送部と、研磨後の基板を洗浄する洗浄部と、を備える。洗浄部は、上下二段に配置された第1洗浄ユニットおよび第2洗浄ユニットを有している。第1洗浄ユニットおよび第2洗浄ユニットは、それぞれ、直列に配置された複数の洗浄モジュールを有している。搬送部は、第1洗浄ユニットと第2洗浄ユニットとの間に配置され、研磨前の基板を複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って搬送するスライドステージを有している。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JP2020159261A
公开(公告)日：2020-10-01
申请号：JP2019058460
申请日：2019-03-26
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: F04D29/70
Abstract: 【課題】ポンプ運転補助装置への異物の絡みつきを防止することによって、安定したポンプ運転を可能にし、維持管理性を向上させることができるポンプを提供する。 【解決手段】ポンプは、鉛直方向に延びる主軸32と、主軸32に固定された羽根車31と、内部に主軸32および羽根車31が配置された流路構造体53と、流路構造体53の外側に配置されたポンプ運転補助装置51と、ポンプ運転補助装置51に対して回転可能に構成された異物除去装置55とを備える。流路構造体53は、内部に羽根車31を収容するポンプケーシング27を備え、異物除去装置55は、ポンプ運転補助装置51の一部を囲むように配置されている。 【選択図】図1
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