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公开(公告)号：JP6402272B1
公开(公告)日：2018-10-10
申请号：JP2018096408
申请日：2018-05-18
Applicant: 大塚電子株式会社
Abstract: 【課題】一対のプローブ間に配置された基板の厚みを測定する厚み測定装置において、その測定精度の向上を図る。 【解決手段】本開示の厚み測定装置は、測定対象の表面までの距離に関する第1の測定信号を出力する第1のプローブと、測定対象の裏面までの距離に関する第2の測定信号を出力する第2のプローブと、第1のプローブと第2のプローブとの間に配置された測定試料の厚みを算出する演算部と、を含む。演算部は、第1のプローブと第2のプローブとの間に基準試料が配置された状態で、第1の測定信号に基づき第1の距離を算出し、第2の測定信号に基づき第2の距離を算出し、第1のプローブと第2のプローブとの間に測定試料が配置された状態で、第1の測定信号に基づき第3の距離を算出し、第2の測定信号に基づき第4の距離を算出し、基準試料の厚み、第1の距離、及び第2の距離を加算要素とし、第3の距離、及び第4の距離を減算要素として、測定試料の厚みを算出する。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP6371926B1
公开(公告)日：2018-08-08
申请号：JP2018012204
申请日：2018-01-29
Applicant: 大塚電子株式会社
Abstract: 【課題】様々なサンプルの膜厚の面内分布をより高速かつ高精度に測定可能な光学測定装置および光学測定方法を提供する。 【解決手段】光学測定装置は、測定対象に対して所定の波長範囲を有する測定光を直線状に照射する照射光学系と、測定光の照射により測定対象から生じる透過光または反射光である直線状の測定干渉光を受光する測定光学系と、処理装置とを含む。測定光学系は、測定干渉光を当該測定干渉光の長手方向とは直交する方向に波長展開する回折格子と、回折格子により波長展開された測定干渉光を受光して2次元画像を出力する撮像部とを含む。処理装置は、測定光が照射される測定対象の各測定点に対応する2次元画像上の領域に関連付けて、各測定点から測定光学系への入射角に応じた補正要素を算出する第1の算出手段と、2次元画像に含まれる各ピクセル値に対して対応する補正要素を適用した上で、測定対象の光学特性を算出する第2の算出手段とを含む。 【選択図】図12
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公开(公告)号：JPD1603613S
公开(公告)日：2018-05-14
申请号：JPD201721533
申请日：2017-09-29
Applicant: 大塚電子株式会社
Designer： 長沢 広也 若山 育央 亀川 和義
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2018040764A
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：JP2016176777
申请日：2016-09-09
Applicant: 大塚電子株式会社
CPC classification number: G01J3/027 , G01J3/0218 , G01J3/0221 , G01J3/0264 , G01J3/28 , G01J3/2803 , G01J2003/2876 , G01N21/274 , G01N21/359
Abstract: 【課題】測定時に要する校正の手間を低減しつつ、出力直線性の精度を高めた光学測定方法および光学測定装置を提供する。 【解決手段】少なくとも近赤外領域に検出感度を有する検出器120を用いた光学測定方法が提供される。光学測定方法は、任意のサンプル光を任意の露光時間xで検出器120により測定したときの出力値Sig−Darkを取得するステップと、出力値を取得したときの露光時間が第2の範囲x>ts内にあれば、出力値に応じた補正量で出力値を補正するステップとを含む。補正量は、第2の範囲内の露光時間で検出器により測定したときに得られる出力値が第1の範囲x≦ts内の露光時間で検出器により測定したときに得られる出力直線性に対してどの程度ずれているのかを示す係数と、露光時間の2乗との積を含む。 【選択図】図8
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公开(公告)号：JP6285597B1
公开(公告)日：2018-02-28
申请号：JP2017111043
申请日：2017-06-05
Applicant: 大塚電子株式会社
IPC: G01B11/06
CPC classification number: G01B11/06 , G01B9/02024 , G01B9/02041 , G01B9/02043
Abstract: 【課題】様々なサンプルの膜厚の面内分布をより高速かつ高精度に測定可能な光学測定装置および光学測定方法を提供する。 【解決手段】光学測定装置は、測定対象に対して所定の波長範囲を有する測定光を直線状に照射する照射光学系と、測定光の照射により測定対象から生じる透過光または反射光である直線状の測定干渉光を受光する測定光学系と、処理装置とを含む。測定光学系は、測定干渉光を当該測定干渉光の長手方向とは直交する方向に波長展開する回折格子と、回折格子により波長展開された測定干渉光を受光して2次元画像を出力する撮像部とを含む。処理装置は、測定光が照射される測定対象の各測定点に対応する2次元画像上の領域に関連付けて、各測定点から測定光学系への入射角に応じた補正要素を算出する第1の算出手段と、2次元画像に含まれる各ピクセル値に対して対応する補正要素を適用した上で、測定対象の光学特性を算出する第2の算出手段とを含む。 【選択図】図12
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公开(公告)号：JP6255380B2
公开(公告)日：2017-12-27
申请号：JP2015502961
申请日：2014-02-26
Applicant: 大塚電子株式会社
CPC classification number: G01J3/0264 , G01J1/44 , G01J3/02 , G01J3/0232 , G01J3/0262 , G01J3/2803 , G01J3/42 , G01J2001/4406 , G01J2001/444 , G01J2001/448
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公开(公告)号：JP2017133869A
公开(公告)日：2017-08-03
申请号：JP2016012152
申请日：2016-01-26
Applicant: 大塚電子株式会社
IPC: G01B11/06
Abstract: 【課題】試料の厚みを正確に測定することが可能な厚み測定装置および厚み測定方法を提供する。 【解決手段】厚み測定装置は、第1の参照面を有する第1の透過部材と、前記第1の透過部材と対向して設けられ、第2の参照面を有する第2の透過部材と、光源からの光を前記第1の参照面を介して前記第1の透過部材および前記第2の透過部材の間に位置する試料へ照射するための第1の投光部と、前記第1の参照面からの反射光を受光し、かつ前記試料からの反射光を前記第1の参照面を介して受光するための第1の受光部と、光源からの光を前記第2の参照面を介して前記試料へ照射するための第2の投光部と、前記第2の参照面からの反射光を受光し、かつ前記試料からの反射光を前記第2の参照面を介して受光するための第2の受光部と、前記第1の受光部によって受光された反射光、および前記第2の受光部によって受光された反射光を分光するための分光部とを備える。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP6154153B2
公开(公告)日：2017-06-28
申请号：JP2013026571
申请日：2013-02-14
Applicant: 大塚電子株式会社
CPC classification number: G01J1/08 , G01J1/42 , G01J2001/061 , G01J2001/4252
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