公开(公告)号：JPWO2012105417A1

公开(公告)日：2014-07-03

申请号：JP2012555828

申请日：2012-01-26

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 宏和 榊原 ,  宏和 榊原 ,  拡 宮田 ,  拡 宮田 ,  泰一 古川 ,  泰一 古川 ,  亘史 伊藤 ,  亘史 伊藤

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/18 ,  C08F220/22 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038

CPC classification number: G03F7/038 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F224/00 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

Abstract: 本発明は、有機溶媒を現像液に用いるパターン形成法において、現像後のミッシングコンタクトホール、及び露光部表面のラフネスの発生を抑制できると共に、解像度、円形性等のリソグラフィー特性に優れるフォトレジスト組成物を提供することを課題とする。上記課題を解決するためになされた発明は、有機溶媒現像用フォトレジスト組成物であって、[A]酸解離性基を有する構造単位(a1)を含むベース重合体、[B]酸解離性基を有する構造単位(b1)を含み、フッ素原子含有率が[A]重合体より高い重合体、及び[C]酸発生体を含有し、かつ上記構造単位(b1)が下記式(1)又は式(2)で表されるフォトレジスト組成物である。

公开(公告)号：JP5333227B2

公开(公告)日：2013-11-06

申请号：JP2009534394

申请日：2008-09-26

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 幸生 西村 ,  拡 宮田

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/2041

Abstract: A radiation-sensitive composition includes a polymer (A) which includes a repeating unit (1) shown by the following formula (1) and a repeating unit (2) shown by the following formula (2), and a radiation-sensitive acid generator (B). wherein R1 is a methyl group, R2 is a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and R3 is a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is an integer from 1 to 5. The composition is useful as a chemically-amplified resist having excellent resolution performance and exhibiting low LWR, low PEB temperature dependency, excellent pattern collapse resistance, and low defect-incurring properties.

公开(公告)号：JP5381508B2

公开(公告)日：2014-01-08

申请号：JP2009197358

申请日：2009-08-27

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 拡 宮田 ,  紀浩 夏目 ,  慶友 保田

IPC: G03F7/004 ,  C08G77/04 ,  C08G77/50 ,  G03F7/075 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP5487728B2

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：JP2009129656

申请日：2009-05-28

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 拡 宮田 ,  隼人 生井 ,  紀浩 夏目 ,  慶友 保田

IPC: G03F7/038 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  H01L21/312 ,  H01L21/316 ,  H01L21/768

公开(公告)号：JP5077355B2

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：JP2009536026

申请日：2008-09-26

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 幸生 西村 ,  拡 宮田

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/10 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

公开(公告)号：JP5035466B1

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：JP2011202133

申请日：2011-09-15

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 亘史 伊藤 ,  泰一 古川 ,  拡 宮田 ,  宏和 榊原

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/32

CPC classification number: G03F7/20 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

Abstract: 【課題】本発明の目的は、感度を十分に満足し、かつＥＬ、ＤＯＦ、ＣＤＵ及びＭＥＥＦに優れる感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、有機溶媒が８０質量％以上の現像液を用いるレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物であって、上記感放射線性樹脂組成物が、［Ａ］酸解離性基を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有し、かつ上記有機溶媒で現像した場合のレジスト感度曲線から算出されるコントラスト値γが、５．０以上３０．０以下であることを特徴とするレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物である。 上記有機溶媒は、炭素数３〜７のカルボン酸アルキルエステル及び炭素数３〜１０のジアルキルケトンからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒であることが好ましい。
【選択図】図１