-
公开(公告)号：JPWO2012111450A1
公开(公告)日：2014-07-03
申请号：JP2012557881
申请日：2012-02-02
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本発明は、有機溶媒現像用フォトレジスト組成物であって、[A]酸解離性基を有する重合体、[B]酸発生体、及び[C]水酸基、カルボキシル基、酸の作用によりカルボキシル基を生じる基及びラクトン構造を有する基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基と環構造とを有し、かつ分子量が1,000以下である化合物を含有することを特徴とする。[C]化合物の環構造は多環状の脂環式構造であることが好ましい。[C]化合物は下記式(1)〜(3)でそれぞれ表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることが好ましい。
-
公开(公告)号：JPWO2012046607A1
公开(公告)日：2014-02-24
申请号：JP2012537652
申请日：2011-09-28
CPC classification number: G03F7/20 , C08F20/28 , C08F2220/283 , G03F7/004 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325
Abstract: 本発明は液浸露光用として好適で、エッチング耐性がより向上し、感度、断面形状、解像性等のレジスト膜の一般的特性に優れるトレンチパターン及び/又はホールパターンの形成方法並びに感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明は、(1)感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布するレジスト膜形成工程、(2)露光工程、及び(3)現像工程を含むトレンチパターン及び/又はホールパターン形成方法であって、上記(3)現像工程における現像液中に有機溶媒を50質量%以上含有し、上記感放射線性樹脂組成物が、[A]酸解離性基及び脂環式基を有する構造単位(I)を含み、この脂環式基が酸の作用により分子鎖から解離しない重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有することを特徴とするトレンチパターン及び/又はホールパターン形成方法である。
-
公开(公告)号：JPWO2012101942A1
公开(公告)日：2014-06-30
申请号：JP2012554648
申请日：2011-12-21
IPC: G03F7/038 , C08F220/10 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0041 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38
Abstract: 本発明は、(1)感放射線性樹脂組成物を用いるレジスト被膜形成工程、(2)露光工程、及び(3)有機溶媒が80質量%以上の現像液を用いる現像工程を有するレジストパターン形成方法であって、上記感放射線性樹脂組成物が、[A]酸解離性基を有する重合体を含む重合体成分、及び[B]感放射線性酸発生体を含有し、[A]重合体成分が、同一又は異なる重合体中に、炭化水素基(a1)を有する構造単位(I)及び炭化水素基(a2)を有する構造単位(II)を含み、炭化水素基(a1)が、置換されていてもよい炭素数8以下の分岐鎖状基又は置換されていてもよい環炭素数3〜8の単環の脂肪族環式基であり、炭化水素基(a2)が、アダマンタン骨格を有し、炭化水素基(a1)に対する炭化水素基(a2)のモル比が1未満であり、かつ[A]重合体成分における水酸基を有する構造単位の含有割合が5モル%未満であることを特徴とする。
-
公开(公告)号：JPWO2012053396A1
公开(公告)日：2014-02-24
申请号：JP2012518672
申请日：2011-10-11
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/004 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325
Abstract: 本発明は、(1)感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布するレジスト膜形成工程、(2)露光工程、及び(3)有機溶媒を80質量%以上含有する現像液を用いる現像工程を含むレジストパターン形成方法であって、上記感放射線性樹脂組成物が、[A]酸解離性基を有するベース重合体、[B][A]重合体よりフッ素原子含有率が高い重合体、[C]感放射線性酸発生体、[D]溶媒、及び[E][D]溶媒の比誘電率よりも15以上大きい比誘電率を有する化合物を含有し、上記[E]化合物が、[A]重合体100質量部に対して、10質量部以上200質量部以下含有することを特徴とするレジストパターン形成方法である。
-
公开(公告)号：JPWO2012114963A1
公开(公告)日：2014-07-07
申请号：JP2013500981
申请日：2012-02-15
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/325
Abstract: 本発明の課題は、有機溶媒を現像液に用いるネガ型パターン形成方法であって、現像後の露光部表面のラフネスを抑制することができると共に、所望の微細パターンを高感度で形成することができるネガ型パターン形成方法、及びそれに用いられるフォトレジスト組成物を提供することである。本発明は、(1)[A]酸発生能を有する構造単位(I)を含む重合体、及び[F]有機溶媒を含有するフォトレジスト組成物を用い、基板上にレジスト膜を形成する工程、(2)上記レジスト膜に露光する工程、及び(3)上記露光されたレジスト膜を、有機溶媒を含む現像液で現像する工程を有するネガ型パターン形成方法である。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2012105417A1
公开(公告)日：2014-07-03
申请号：JP2012555828
申请日：2012-01-26
IPC: G03F7/039 , C08F20/18 , C08F220/22 , G03F7/004 , G03F7/038
CPC classification number: G03F7/038 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F224/00 , C08F2220/283 , C08F2220/382 , G03F7/004 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325
Abstract: 本発明は、有機溶媒を現像液に用いるパターン形成法において、現像後のミッシングコンタクトホール、及び露光部表面のラフネスの発生を抑制できると共に、解像度、円形性等のリソグラフィー特性に優れるフォトレジスト組成物を提供することを課題とする。上記課題を解決するためになされた発明は、有機溶媒現像用フォトレジスト組成物であって、[A]酸解離性基を有する構造単位(a1)を含むベース重合体、[B]酸解離性基を有する構造単位(b1)を含み、フッ素原子含有率が[A]重合体より高い重合体、及び[C]酸発生体を含有し、かつ上記構造単位(b1)が下記式(1)又は式(2)で表されるフォトレジスト組成物である。
-
公开(公告)号：JPWO2012053527A1
公开(公告)日：2014-02-24
申请号：JP2012539740
申请日：2011-10-18
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/038 , C07C381/12 , C08F220/10 , C08F220/24 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/325 , Y10S430/114 , Y10S430/115
Abstract: 本発明の目的は、現像後の露光部表面のラフネス及びミッシングコンタクトホールの発生を抑制すると共に、解像度、円形性等のリソグラフィー特性に優れるパターン形成方法及びこのパターン形成方法に最適な感放射線性組成物を提供することである。本発明は、(1)感放射線性組成物を用いて基板上にレジスト膜を形成する工程、(2)露光工程、及び(3)現像工程を含むパターン形成方法であって、上記(3)現像工程における現像液が有機溶媒を80質量%以上含有し、上記感放射線性組成物が、[A]酸解離性基を有する構造単位を含む重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含む2以上の成分を含有し、上記感放射線性組成物中のいずれかの成分が下記式(1)で表される基を有することを特徴とするパターン形成方法である。
-
公开(公告)号：JPWO2011034007A1
公开(公告)日：2013-02-14
申请号：JP2011531910
申请日：2010-09-10
IPC: G03F7/039 , C08F20/12 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0035
Abstract: レジストパターン形成方法において、感放射線性樹脂組成物として使用される、下記一般式(1−1)〜(1−4)(但し、R1は、水素原子、トリフルオロメチル基、又は炭素数1〜3のアルキル基を示し、R2は、それぞれ独立に、水素原子又は水酸基を示し、R3は、ヒドロキシアルキル基を示し、Aは、アルキレン基を示し、Bは、エステル結合、アミド結合、カルボニル基、又はアミノ基を示す。)で表される繰り返し単位からなる群より選択される少なくとも一種の繰り返し単位、及び酸不安定基を有する繰り返し単位を含有する重合体(A)、感放射線性酸発生剤(B)、並びに溶剤(C)を含む感放射線性樹脂組成物を提供する。
-
公开(公告)号：JPWO2006121162A1
公开(公告)日：2008-12-18
申请号：JP2007528342
申请日：2006-05-12
IPC: G03F7/26 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/16 , G03F7/26
Abstract: ポリアミド系樹脂フィルターおよびポリエチレン系樹脂フィルターが直列に連結されたフィルターを備えたフィルター装置を用い、感放射線性樹脂組成物の予備組成物を前記フィルター装置内で循環させ、前記予備組成物を前記フィルターに複数回通過させることにより濾過を行い、前記予備組成物中の異物を除去する工程を含む感放射線性樹脂組成物の製造方法。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
14
records
(took 0.024 seconds)
