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    感放射線性樹脂組成物
    2.
    发明专利
    感放射線性樹脂組成物 审中-公开
    对辐射敏感的树脂组合物

    公开(公告)号：JPWO2013058250A1

    公开(公告)日：2015-04-02

    申请号：JP2013539650

    申请日：2012-10-16

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

    Inventor： 一樹 笠原 ,  一樹 笠原 ,  一雄 中原 ,  一雄 中原 ,  拡 宮田 ,  拡 宮田 ,  永井　智樹 ,  智樹 永井

    IPC: G03F7/004 ,  C08F20/28 ,  C08F20/38 ,  C08K5/41 ,  C08L33/14 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

    CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08K5/42 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  C08L33/14 ,  C08F2220/1841 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/382 ,  C08F220/42 ,  C08F220/22 ,  C08F2220/1875 ,  C08L33/16

    Abstract: 本発明は、[A]下記式(1)で表される化合物、並びに[B]ラクトン骨格を含む(メタ)アクリレート由来の構造単位、環状カーボネート骨格を含む(メタ)アクリレート由来の構造単位、スルトン骨格を含む(メタ)アクリレート由来の構造単位、及び極性基を有する(メタ)アクリレート由来の構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を有するベース重合体を含有する感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、R1は、環状エステル構造又は環状ケトン構造を有する1価の環状有機基である。R2は、単結合又は−CH2−である。Xは、−O−*、−COO−*、−O−CO−O−*又は−SO2−O−*である。但し、*は、R3との結合部位を示す。R3は、炭素数1〜5の2価の鎖状炭化水素基である。M+は、1価のカチオンである。

    Abstract translation: 本发明中，[A]下述式（1），和[B]含有内酯骨架的（甲基）丙烯酸酯衍生的结构单元，包括环状碳酸酯骨架的（甲基）丙烯酸酯衍生的结构单元，磺内酯表示的化合物 它是含有具有至少一个选自含有从（甲基）丙烯酸酯衍生的主链的结构单元组成的组中，和含极性基团的（甲基）基础聚合物的丙烯酸酯衍生的结构单元的放射线敏感性树脂组合物 。 在下面的式（1）中，R1是具有环状酯结构或环状酮结构的一价环状有机基团。 R 2为单键或-CH 2 - 。 X是，-O - *， - COO - *， - O-CO-O- *或-SO 2-O- *是。 然而，*表示R3的结合位点。 R 3是具有1至5个碳原子的二价链烃基。 M +是一价阳离子。

    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
    3.
    发明专利
    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 有权
    光致抗蚀剂组合物，抗蚀剂图案形成方法，所述聚合物和化合物

    公开(公告)号：JPWO2013133230A1

    公开(公告)日：2015-07-30

    申请号：JP2014503845

    申请日：2013-03-04

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

    Inventor： 恭彦 松田 ,  恭彦 松田 ,  憲彦 池田 ,  憲彦 池田 ,  拡 宮田 ,  拡 宮田

    IPC: G03F7/039 ,  C07C69/54 ,  C08F120/16

    CPC classification number: C07C69/54 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F2220/1891 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    Abstract: 本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位を有する重合体、及び[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R1は、炭素数4〜20の2価の多環の脂環式炭化水素基である。R2は、炭素数3〜20の1価の単環又は多環の脂環式炭化水素基である。R3は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。[A]重合体は、ラクトン構造、環状カーボネート構造及びスルトン構造からなる群より選ばれる少なくとも1種の構造を含む構造単位をさらに有することが好ましい。[A]重合体は、下記式(2)で表される構造単位をさらに有することが好ましい。

    Abstract translation: 本发明是一种含有聚合物[B]具有由[A]下式（1）表示的结构单元酸产生光致抗蚀剂组合物，和。 在下面的式（1）中，R1为碳原子数4〜20的二价多环的脂环式烃基。 R2为单价单环或碳原子数3〜20的多环脂环族烃基。 R3是氢原子，氟原子，甲基或三氟甲基。 [A]所述的聚合物，内酯结构，还具有包含选自优选的环状碳酸酯结构和磺内酯结构组成的组中的至少一种结构的结构单元。 [A]聚合物优选进一步具有下述式（2）表示的结构单元。

    感放射線性組成物
    4.
    发明专利
    感放射線性組成物 有权

    公开(公告)号：JPWO2009044668A1

    公开(公告)日：2011-02-03

    申请号：JP2009536026

    申请日：2008-09-26

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

    Inventor： 西村　幸生 ,  幸生 西村 ,  拡 宮田 ,  拡 宮田

    IPC: G03F7/039 ,  C08F220/10 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

    Abstract: 本発明の感放射線性組成物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となり、且つフッ素原子を含まない第一の重合体(A)と、下記一般式(1)で表される繰り返し単位(b1)及びフッ素原子を含有する繰り返し単位(b2)を含む第二の重合体(B)と、感放射線性酸発生剤(C)とを含有し、第二の重合体(B)を、第一の重合体(A)100質量部に対して0.1〜20質量部含有するものであり、液浸露光由来の欠陥であるウォーターマーク欠陥やバブル欠陥の発生を良好に抑制することができるレジスト膜を形成可能な感放射線性組成物である。(一般式(1)において、R1はメチル基等を示し、R2は炭素数1〜12の直鎖状又は分岐状のアルキル基等を示す。)

    フォトレジスト組成物
    5.
    发明专利
    フォトレジスト組成物 有权
    光刻胶组合物

    公开(公告)号：JPWO2013024756A1

    公开(公告)日：2015-03-05

    申请号：JP2013528980

    申请日：2012-08-07

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

    Inventor： 拡 宮田 ,  拡 宮田 ,  研 丸山 ,  研 丸山 ,  浩光 中島 ,  浩光 中島

    IPC: G03F7/004 ,  C08F20/38 ,  G03F7/039

    CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

    Abstract: 本発明の目的は、感度等の基本特性を十分に満足し、MEEF、DOF及びLWRに優れるフォトレジスト組成物を提供することである。本発明は、[A]酸発生基を有する重合体、並びに[B]ラクトン構造、環状カーボネート構造、スルトン構造及び脂環構造からなる群より選択される少なくとも1種の構造を有する酸発生剤を含有するフォトレジスト組成物である。また、[B]酸発生剤はラクトン構造及びスルトン構造からなる群より選択される少なくとも1種の構造を有することが好ましい。さらに、[A]重合体が、下記式(1)で表される構造単位(I)及び下記式(2)で表される構造単位(II)からなる群より選択される少なくとも1種の構造単位を含むとよい。

    Abstract translation: 本发明的目的，如灵敏度和完全满意的基本特征，是提供一种具有优异的MEEF，所述DOF和LWR光致抗蚀剂组合物。 另外，本发明具有的聚合物的[A]产生酸的基团，和[B]内酯结构，环状碳酸酯结构，选自磺内酯结构和脂环结构组成的组中具有至少一个结构的酸产生 含有光刻胶组合物。 此外，[B]酸生成剂优选具有选自内酯结构和磺内酯结构组成的组中的至少一种结构。 此外，[A]聚合物，选自由下述式（1）（I）和式表示的结构单元表示的结构单元组成的组中的至少一种结构（2）（II） 它可能包含单位。

    感放射線性組成物
    7.
    发明专利
    感放射線性組成物 有权

    公开(公告)号：JPWO2009041556A1

    公开(公告)日：2011-01-27

    申请号：JP2009534394

    申请日：2008-09-26

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

    Inventor： 西村　幸生 ,  幸生 西村 ,  拡 宮田 ,  拡 宮田

    IPC: G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/2041

    Abstract: 本発明の感放射線性組成物は、下記一般式(1)で表される繰り返し単位(1)及び下記一般式(2)で表される繰り返し単位(2)を有する重合体(A)と、感放射線性酸発生剤(B)とを含有するものであり、解像性能に優れるだけでなく、LWRが小さく、PEB温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れたレジスト膜を形成可能な感放射線性組成物である。(一般式(1)及び一般式(2)において、R1は互いに独立して、メチル基等を示し、R2は炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基等を示し、R3は炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。)

    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法及び重合体
    8.
    发明专利
    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法及び重合体 有权
    光致抗蚀剂组合物，抗蚀剂图案形成方法和聚合物

    公开(公告)号：JPWO2013141265A1

    公开(公告)日：2015-08-03

    申请号：JP2014506257

    申请日：2013-03-19

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

    Inventor： 拡 宮田 ,  拡 宮田

    IPC: G03F7/004 ,  C08F20/10 ,  C08F20/54 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

    CPC classification number: C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

    Abstract: 本発明は、[A]酸解離性基を有する重合体、[B]酸発生体、及び[C]下記式(1)で表される構造単位(I)を有し、フッ素原子を含む重合体を含有するフォトレジスト組成物である。式(1)中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。E1及びE2は、酸素原子、*1−CO−O−又は*1−CO−NH−である。Aは、連結鎖中に酸解離性基又はアルカリ解離性基を有する2価の基である。Gは、単結合又は(n+1)価の連結基である。nは、1〜3の整数である。

    Abstract translation: 重发明包括具有[A]酸解离性基团，[B]酸产生的聚合物，并具有[C]的结构由下式（1）（I）表示单元，氟原子 含有该聚合物的光致抗蚀剂组合物。 其中（1）中，R 1和R 2各自独立地为氢原子，甲基或三氟甲基。 E1和E2是氧原子，* 1-CO-O-或* 1-CO-NH-是。 A是具有酸解离性基团或连接链的碱解离基团的二价基团。 G是单键或第（n + 1）价连接基团。 n为1〜3的整数。

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