成膜装置
    22.
    发明专利
    成膜装置 审中-公开

    公开(公告)号:JP2018024917A

    公开(公告)日:2018-02-15

    申请号:JP2016158011

    申请日:2016-08-10

    Abstract: 【課題】ガス通路の端部に生成される金属膜の脱落を促進できる成膜装置を提供する。 【解決手段】成膜装置は、ワーク100を収容する内部空間10Aを有する筒状の蒸発源10と、電極15と、蒸発源10の内部空間10Aへガスを供給するガス通路18とを備えている。成膜装置は、蒸発源10と電極15との間で発生するアーク放電によって蒸発源10から放出された金属イオンIをワーク100に堆積させて成膜する。ガス通路18は、蒸発源10の内部空間10A側に配置されている端部である導出路18Cが、第1素材によって構成されている第1部位としての電極15と、第2素材によって構成されている第2部位としての防着材14とを有し、第1素材及び第2素材は、互いに熱膨張係数の異なる素材である。 【選択図】図1

    アーク放電発生装置
    23.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2018021245A

    公开(公告)日:2018-02-08

    申请号:JP2016154800

    申请日:2016-08-05

    Abstract: 【課題】蒸発源の交換頻度を少なくすることができるアーク放電発生装置を提供する。 【解決手段】蒸発源21にストライカチップ41を接触させてから、該ストライカチップ41を蒸発源21から離間させることによって、蒸発源21の放電面22からアーク放電を発生させるアーク放電発生装置であって、アーク放電発生装置は、蒸発源21における放電面22に対する裏面23と放電面22とを接続する端面25にストライカチップ41を接触させるように該ストライカチップ41を移動させる駆動機構を備えている。そして、蒸発源21におけるストライカチップ41の移動方向D1の寸法L1が、蒸発源21における放電面22と裏面23との間の寸法L2よりも大きい。 【選択図】図4

    プラズマ化学気相成長装置
    24.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2017141490A

    公开(公告)日:2017-08-17

    申请号:JP2016022821

    申请日:2016-02-09

    Abstract: 【課題】反応炉内でのフレークの発生を抑制し、同反応炉内に設置されたワークへのフレークの付着を抑制することができるプラズマ化学気相成長装置を提供する。 【解決手段】プラズマ化学気相成長装置の反応炉内には、ワークの設置位置と同反応炉の内壁との間に付着抑制シート60が配設されている。この付着抑制シート60は、互いに異なる方向に延伸する第1の繊維束61と第2の繊維束62とを有する織物である。第1の繊維束61では、第2の繊維束62よりも表側に位置し、表に露出している表側部分611と、第2の繊維束62よりも裏側に位置し、表に露出していない裏側部分612とが第1の方向X1に交互に並ぶ。また、第2の繊維束62では、第1の繊維束61よりも表側に位置し、表に露出している表側部分621と、第1の繊維束61よりも裏側に位置し、表に露出していない裏側部分622とが第2の方向X2に交互に並ぶ。 【選択図】図3

    炭素皮膜の除去方法および皮膜除去用陽極
    25.
    发明专利
    炭素皮膜の除去方法および皮膜除去用陽極 审中-公开
    碳膜去除方法和薄膜去除阳极

    公开(公告)号:JP2016084519A

    公开(公告)日:2016-05-19

    申请号:JP2014219918

    申请日:2014-10-29

    Abstract: 【課題】プラズマCVDによりワークに炭素皮膜が成膜される際に、陰極の表面に付随的に成膜された炭素皮膜を、簡単かつ短時間で除去することができる炭素皮膜の除去方法および皮膜除去用陽極の提供。 【解決手段】陰極20の端面20aからその内部に形成された挿入孔22に挿入される軸部と、陰極20の端面20aと間隔を開けて端面20aの表面に沿って延在する放電部12とを備えた皮膜除去用陽極10Aを用いて、酸素ガス雰囲気下で皮膜除去用陽極10Aと陰極20との間に電圧を印加し、放電部12と陰極20の端面20aとの間に発生させた酸素プラズマPoによる炭素皮膜Cの除去方法。 【選択図】図3

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种碳膜去除方法和除膜阳极,当通过等离子体CVD将碳膜沉积在工件上时,能够在短时间内容易地去除阴极表面上的碳膜。 解决方案:一种碳膜去除方法包括:使用除膜阳极10A在氧气气氛中在膜去除阳极10A和阴极20之间施加电压,包括:插入在从端面形成的内部的插入孔22中的轴部 20a的阴极20; 以及从端面20a的表面以与阴极20的端面20a隔开的间隔延伸的排出部12; 并且在排出部分12和阴极20的端面20a之间产生氧等离子体Po,从而去除碳膜C.因此,图3

    成膜装置
    26.
    发明专利
    成膜装置 有权
    胶片装置

    公开(公告)号:JP2016020518A

    公开(公告)日:2016-02-04

    申请号:JP2014143532

    申请日:2014-07-11

    CPC classification number: H01J37/32559 C23C14/325 H01J37/32055 H01J37/34

    Abstract: 【課題】処理物を収容する内部空間を有する筒状の蒸発源と、内部空間を密閉する閉塞部材とを備え、アーク放電によって蒸発源から放出されたイオンを処理物の表面に堆積させて成膜する成膜装置において、放電を安定させ、閉塞部材に発生するジュール熱を抑制する。 【解決手段】蒸発源1の内部空間1Aの電子eが流入することのできる接地又は正電圧がかけられた補助電極3が、蒸発源1の内壁面1aに沿って備えられている。 【選択図】図2

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种成像装置,包括:圆筒形蒸发源,具有用于容纳加工品的内部空间; 以及用于封闭内部空间的封闭构件,其中通过电弧放电从蒸发源排出的离子沉积在加工产品的表面上,其中放电稳定以抑制在封闭构件中产生焦耳热。 解决方案:沿着蒸发源1的内壁面1a设置有一个辅助电极3的成膜装置,其上施加有能够使蒸发源1的内部空间1A的电子e的接地或正电压 流入图中。图2

    非晶質炭素皮膜の除膜方法
    28.
    发明专利
    非晶質炭素皮膜の除膜方法 有权
    去除非晶碳膜的方法

    公开(公告)号:JP2015077544A

    公开(公告)日:2015-04-23

    申请号:JP2013215311

    申请日:2013-10-16

    Abstract: 【課題】非晶質炭素皮膜が金属を含有した場合であっても、金属を含有した非晶質炭素皮膜を除膜することができる非晶質炭素皮膜の除膜方法を提供する。 【解決手段】金属を含有した非晶質炭素皮膜を除膜する方法であって、窒素ガスと、ハロゲン元素を含むガスとが混合された非酸化性ガスをプラズマ化し、該プラズマ化した非酸化性ガスを前記非晶質炭素皮膜に接触させることにより、前記非晶質炭素皮膜を除膜する。 【選択図】図2

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种除去无定形碳膜的方法,即使在无定形碳膜含有金属的情况下,含有金属的无定形碳也是可去除的。解决方案:除去含有金属的无定形碳膜的方法包括: 将含有卤素元素的氮气和气体的非氧化气体混合在一起; 并使等离子体的未氧化气体与无定形碳膜接触,以除去无定形碳膜。

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