公开(公告)号：JPWO2011010599A1

公开(公告)日：2012-12-27

申请号：JP2011523620

申请日：2010-07-15

申请人： 日立化成工業株式会社

发明人： 小川　宜伸 ,  宜伸 小川 ,  及川　太 ,  太 及川 ,  宏政 河合 ,  宏政 河合

IPC分类号： C08F290/06 ,  B32B27/16 ,  B32B27/30 ,  C08F2/44 ,  C08F265/06 ,  C08G18/67

CPC分类号： C08F2/48 ,  C08F265/06 ,  C08F290/067 ,  C08F290/147 ,  C08G18/10 ,  C08G18/283 ,  C08G18/672 ,  C08G18/755 ,  C08G18/757 ,  C08G2170/40 ,  C08L33/10 ,  C08L75/16 ,  C09J133/066 ,  C09J175/16 ,  Y10T428/1059 ,  Y10T428/31551 ,  C08G18/8175 ,  C08G18/48 ,  C08F220/06 ,  C08F220/18 ,  C08F2220/1833 ,  C08F2220/1858 ,  C08F220/20 ,  C08L33/066

摘要： 表示部材と前面光学部材との貼合に使用可能であり、かつ広範な温度環境下において、各部材の膨張や収縮に由来する応力や貼合時の残留応力による内部応力の発生が少なく、表示ムラを抑制することができる粘着シート及びその材料を提供すること。(A)ポリオキシアルキレン構造を有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーと、(B)(メタ)アクリル系ポリマーと、(C)(メタ)アクリル系モノマーと、(D)光重合開始剤とを含有する光硬化性樹脂組成物において、(a1)ポリオキシアルキレンポリオールと、(a2)ポリイソシアネートと、(a3)水酸基含有モノ(メタ)アクリレート化合物を含むモノマー成分から構成され、その合計質量n1と、全モノマー成分におけるアクリロイル基の合計等量数n2との関係N(=n1/n2)が4000以上である、未反応イソシアネート基を実質的に含まないオリゴマーを成分(A)として使用する。

公开(公告)号：JP4462379B1

公开(公告)日：2010-05-12

申请号：JP2009003026

申请日：2009-01-09

申请人： 東洋インキ製造株式会社

发明人： 剛 北本 ,  由照 大島 ,  智史 鷲尾

IPC分类号： B41J2/01 ,  B41M5/00 ,  C08F2/24 ,  C08F220/26 ,  C09D11/00 ,  C09D11/023 ,  C09D11/037 ,  C09D11/10 ,  C09D11/106 ,  C09D11/107 ,  C09D11/322 ,  C09D11/324

CPC分类号： C09D11/30 ,  C08F2/24 ,  C08F220/06 ,  C08F220/14 ,  C08F230/08 ,  C08F2220/1833 ,  C09D11/322 ,  C09D11/324

摘要： 【課題】 本発明の目的は、ノズルでの目詰まりをせずに安定な吐出を与える顔料タイプの水性インクジェット記録液であって、インクジェット記録液として要求される物性、特にＯＤ値、耐磨耗性に優れる水性インクジェット記録液を提供することにある。
【解決手段】 特定量のアルコキシシリル基を有するラジカル重合性不飽和モノマー（ａ２）を必須とするラジカル重合性不飽和モノマー（ａ）を、特定量の乳化剤、水及び水性重合開始剤を用いて、ラジカル重合してなるポリマーエマルションであって、動的光散乱法では粒子径が０．５μｍ以上の粗大粒子が観察されず、個数カウント法では、０．５μｍ以上の粗大粒子が観察され、固形分濃度０．１％換算におけるポリマーエマルション中の１．５μｍ以上の超粗大粒子数が５．０×１０
5 個／ｃｍ
3 以下のポリマーエマルション及び顔料を含有することを特徴とする水性インクジェット記録液。
【選択図】 なし

公开(公告)号：JP2010032994A

公开(公告)日：2010-02-12

申请号：JP2008317487

申请日：2008-12-12

申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ,  東京応化工業株式会社

发明人： SHIONO HIROHISA ,  DAZAI NAOHIRO ,  FURUYA SANAE ,  HIRANO TOMOYUKI ,  MORI YOSHITAKA

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F12/20 ,  C08F20/22 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07C69/653 ,  C07C69/67 ,  C07C69/712 ,  C07C69/757 ,  C07C2603/00 ,  C07C2603/84 ,  C07C2603/86 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/32 ,  C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  C09D125/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/1833 ,  C08F212/32 ,  C08F2220/185 ,  C08F2220/283 ,  C08F220/06

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition suitable for immersion exposure, a method of forming a resist pattern using the resist composition, and a fluorine-containing compound useful as an additive used in the resist composition. SOLUTION: The resist composition for immersion exposure includes a base component (A) that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, and a fluorine-containing compound (C) represented by general formula (c-1) that is decomposable in an alkali developing solution, wherein R 1 represents an organic group which may contain a polymerizable group, with the proviso that the polymerizable group has a carbon-carbon multiple bond, and the carbon atoms forming the multiple bond are not directly bonded to the carbon atom within the -C(=O)- group in the general formula (c-1); and R 2 represents an organic group having a fluorine atom. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：提供适用于浸渍曝光的抗蚀剂组合物，使用该抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法和用作抗蚀剂组合物中使用的添加剂的含氟化合物。 解决方案：浸渍曝光用抗蚀剂组合物包括在酸作用下在碱性显影液中显示出改变的溶解性的基础组分（A），暴露时产生酸的酸产生剂组分（B）和含氟 在碱性显影液中可分解的由通式（c-1）表示的化合物（C），其中R 1 表示可含有可聚合基团的有机基团，条件是可聚合基团 具有碳 - 碳多键，并且形成多重键的碳原子不直接键合在通式（c-1）中的-C（= O） - 基团中的碳原子上; R SP 2表示具有氟原子的有机基团。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP6345250B2

公开(公告)日：2018-06-20

申请号：JP2016538176

申请日：2015-05-13

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 土橋 徹 ,  二橋 亘 ,  椿 英明

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C08F212/04 ,  C08F220/26 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20 ,  C08F220/34 ,  C08F2220/1816 ,  C08F2220/1833 ,  C08F2220/1841 ,  C08F2220/302 ,  C08F2220/382 ,  C08F2800/10 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2059 ,  G03F7/32 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  C08F2220/1891

公开(公告)号：JP6218924B2

公开(公告)日：2017-10-25

申请号：JP2016508086

申请日：2014-04-08

申请人： エボニック オイル アディティヴス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ,  Evonik Oil Additives GmbH

发明人： ボリス アイゼンベアク ,  トアステン シュテーア

IPC分类号： C10M143/10 ,  C10M143/06 ,  C10N20/02 ,  C10N20/04 ,  C10N30/06 ,  C10N40/04 ,  C10M145/14

CPC分类号： C10M149/06 ,  C08F220/18 ,  C08F290/048 ,  C10M145/14 ,  C10M169/04 ,  C08F212/08 ,  C08F220/14 ,  C08F2220/1816 ,  C08F2220/1833 ,  C10M2203/1025 ,  C10M2205/04 ,  C10M2205/06 ,  C10M2209/084 ,  C10M2209/086 ,  C10M2217/022 ,  C10M2217/024 ,  C10N2220/021 ,  C10N2220/022 ,  C10N2220/024 ,  C10N2220/028 ,  C10N2220/032 ,  C10N2230/02 ,  C10N2230/06 ,  C10N2230/54 ,  C10N2230/68 ,  C10N2240/04 ,  C10N2240/042

公开(公告)号：JP6105589B2

公开(公告)日：2017-03-29

申请号：JP2014530891

申请日：2012-09-14

申请人： ベンズ リサーチ アンド ディベロップメント コーポレーション

发明人： ルブール アダム ,  ベンズ パトリック エイチ

IPC分类号： A61F2/16 ,  A61L27/16

CPC分类号： A61F2/1659 ,  A61F2/16 ,  A61F2/1613 ,  A61L27/00 ,  A61L27/16 ,  C08F126/06 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/36 ,  G02B1/043 ,  A61F2002/16905 ,  A61F2002/16965 ,  A61F2240/001 ,  A61L2430/16 ,  C08F2220/1833

公开(公告)号：JP6005148B2

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：JP2014513969

申请日：2012-05-08

申请人： ビーエイエスエフ・ソシエタス・エウロパエア ,  BASF SE

发明人： マクシミリアン・アンゲル ,  ペーター・ヘッセル

IPC分类号： C08F220/18 ,  A61K8/81 ,  A61Q5/02 ,  C08F2/22

CPC分类号： C08F220/18 ,  A61K8/8152 ,  A61Q5/006 ,  A61Q5/02 ,  A61Q5/12 ,  C08F2/001 ,  C08F2/22 ,  C08F220/06 ,  C08F2220/1833 ,  C08F2220/286

公开(公告)号：JP5989085B2

公开(公告)日：2016-09-07

申请号：JP2014502650

申请日：2012-03-23

申请人： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア ,  BASF SE

发明人： ユージーン スキャンロン ,  ケヴィン デサンティス ,  ヴィルジニー ベット ,  ヨヘン ペッツォルト

IPC分类号： C10N20/02 ,  C10N20/04 ,  C10N30/02 ,  C10N40/04 ,  C10N40/08 ,  C10N40/20 ,  C10N40/25 ,  C10N50/10 ,  C10M145/14

CPC分类号： C10M145/14 ,  C08F220/18 ,  C10M149/04 ,  C08F220/14 ,  C08F2220/1833 ,  C10M2209/084 ,  C10N2220/021 ,  C10N2230/02 ,  C10N2230/08 ,  C10N2270/00

公开(公告)号：JP5863773B2

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：JP2013509982

申请日：2012-04-13

申请人： デンカ株式会社

发明人： 比舎 佑基 ,  依田 公彦

IPC分类号： C08F2/48 ,  C08K5/54 ,  C08L21/00 ,  C08F220/18 ,  B29C65/48 ,  C09J4/02 ,  C09J11/06 ,  C09J109/00 ,  C08L33/04

CPC分类号： C09J133/066 ,  B29C65/1406 ,  B29C65/1409 ,  B29C65/4845 ,  B29C65/485 ,  B29C65/8215 ,  B29C66/1122 ,  B29C66/21 ,  B29C66/43 ,  B29C66/71 ,  B29C66/949 ,  C09J115/00 ,  C09J4/06 ,  G01N19/04 ,  B29C65/52 ,  C08C19/02 ,  C08F220/20 ,  C08F2220/1833

公开(公告)号：JP5843533B2

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：JP2011197524

申请日：2011-09-09

申请人： 日東電工株式会社

发明人： 泉谷 誠治 ,  福岡 孝博 ,  長崎 国夫 ,  杉野 裕介 ,  土井 浩平

IPC分类号： H01L23/36 ,  H05K7/20 ,  C08J7/04 ,  H01L23/373

CPC分类号： C08J7/02 ,  C09D4/00 ,  C09D7/1216 ,  H01L23/3737 ,  C08F220/06 ,  C08F2220/1833 ,  C08J2333/02 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T156/10