公开(公告)号：JP6407371B2

公开(公告)日：2018-10-17

申请号：JP2017146151

申请日：2017-07-28

申请人： 財團法人工業技術研究院 ,  INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE

发明人： 王 邱董 ,  蔡 麗端 ,  蔡 政修 ,  李 旋維 ,  蘇 秋琿 ,  陳 銘洲

IPC分类号： C08J5/22 ,  C08J3/24 ,  H01M8/10 ,  H01B1/06 ,  C08F212/14

CPC分类号： C08F226/06 ,  C02F1/46104 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C08J3/24 ,  C08J5/2231 ,  C08J2325/18 ,  C08J2339/04 ,  C08J2353/00 ,  C25B13/08 ,  H01M2/1653 ,  H01M8/0239 ,  H01M8/1023

公开(公告)号：JPWO2017119422A1

公开(公告)日：2018-09-20

申请号：JP2017000076

申请日：2017-01-05

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 中村 翔一

IPC分类号： C09B67/22 ,  C09B67/46 ,  C09B67/08 ,  G02B5/20 ,  H01L27/146 ,  G09F9/30 ,  C09B67/20

CPC分类号： G02B5/223 ,  C08F212/14 ,  C08F220/06 ,  C08F220/34 ,  C08F220/36 ,  C08F222/1006 ,  C09B67/0013 ,  C09B67/0034 ,  C09B67/0035 ,  C09B67/0085 ,  C09B67/009 ,  C09D133/14 ,  G02B5/20 ,  G02B5/201 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/105 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

摘要： 耐光性に優れた膜などを製造可能な着色組成物、着色組成物の製造方法、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置を提供する。この着色組成物は、黄色顔料の表面の少なくとも一部が樹脂で被覆された被覆顔料と、ハロゲン化フタロシアニン顔料と、酸価が40mgKOH/g以上である分散剤と、硬化性化合物とを含む。

公开(公告)号：JP2018087971A

公开(公告)日：2018-06-07

申请号：JP2017217416

申请日：2017-11-10

申请人： 信越化学工業株式会社

发明人： 畠山 潤

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/028 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/38 ,  C08F2220/281 ,  C08F2220/282 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/301 ,  C08F2220/302 ,  C08F2220/303 ,  C08K5/19 ,  C08L25/04 ,  C08L33/08 ,  C08L33/10 ,  C08L41/00 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  C08F2220/1841 ,  C08F2220/382 ,  C08F212/32

摘要： 【課題】増感効果が高く、酸拡散を抑える効果を有し、解像性、LWR、CDUが良好なレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。 【解決手段】4級アンモニウムヨージド、4級アンモニウムジブロモヨージド、4級アンモニウムブロモジヨージド及び4級アンモニウムトリヨージドから選ばれる4級アンモニウム塩を含むクエンチャー、及び酸発生剤を含む化学増幅レジスト材料。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6333947B2

公开(公告)日：2018-05-30

申请号：JP2016504163

申请日：2015-02-19

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 柏木 大助 ,  安藤 豪 ,  山田 悟 ,  河邉 保雅 ,  留場 恒光

IPC分类号： G03F7/039 ,  G02B5/20 ,  G02B5/22 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02 ,  H05B33/22 ,  G02F1/1335 ,  C08F220/26 ,  H01L27/14 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/038 ,  C08F212/14 ,  C08F220/16 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/36 ,  C08F2220/281 ,  C08F2220/365 ,  G02B1/04 ,  G02B5/206 ,  G02B5/208 ,  G02B5/223 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/322 ,  G03F7/40 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14623 ,  H01L27/14685 ,  H01L27/322 ,  H01L51/004 ,  H01L51/0043 ,  H01L51/5284 ,  H01L51/56

公开(公告)号：JP6326492B2

公开(公告)日：2018-05-16

申请号：JP2016529200

申请日：2015-05-26

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 土村 智孝

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0382 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F12/30 ,  C08F212/14 ,  C08F220/06 ,  C08F220/58 ,  C08F2220/301 ,  C08F2220/303 ,  C08F2220/382 ,  C09D125/18 ,  G03F1/20 ,  G03F1/22 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/162 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/322 ,  C08F212/32 ,  C08F244/00 ,  C08F212/08

公开(公告)号：JP2018055133A

公开(公告)日：2018-04-05

申请号：JP2017250955

申请日：2017-12-27

申请人： 日産化学工業株式会社 ,  公立大学法人兵庫県立大学

发明人： 後藤 耕平 ,  山之内 洋一 ,  南 悟志 ,  名木 達哉 ,  萬代 淳彦 ,  芦澤 亮一 ,  根木 隆之 ,  櫻葉汀 ダニエルアントニオ ,  森内 正人 ,  川野 勇太 ,  川月 喜弘 ,  近藤 瑞穂

IPC分类号： C08F20/30 ,  C08F12/22 ,  G02F1/1337

CPC分类号： C07D307/58 ,  C07D207/452 ,  C07D213/63 ,  C07D311/16 ,  C08F12/22 ,  C08F12/30 ,  C08F12/32 ,  C08F20/38 ,  C08F22/40 ,  C08F212/14 ,  G02F1/133711 ,  G02F2001/133715

摘要： 【課題】高効率で配向制御能が付与され、焼き付き特性に優れた横電界駆動型液晶表示素子の提供。 【解決手段】[I](A)所定の温度範囲で液晶性を発現する感光性の側鎖型高分子、及び(B)有機溶媒を含有する重合体組成物を、横電界駆動用の導電膜を有する基板上に塗布して塗膜を形成する工程;[II][I]で得られた塗膜に偏光した紫外線を照射する工程;及び[III][II]で得られた塗膜を加熱する工程;を有することによって配向制御能が付与された横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を得る、前記液晶配向膜を有する基板の製造方法により、上記課題を解決する。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6297992B2

公开(公告)日：2018-03-20

申请号：JP2015021393

申请日：2015-02-05

申请人： 信越化学工業株式会社

发明人： 荻原 勤 ,  渡辺 武 ,  前田 和規

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  G03F7/09 ,  C08G77/442 ,  H01L21/027 ,  C08F220/30

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F8/12 ,  C08F212/08 ,  C08F220/30 ,  C08F230/08 ,  C08F232/08 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/094 ,  G03F7/40 ,  H01L21/02123 ,  H01L21/0274 ,  C08F2220/301 ,  C08F212/14 ,  C08F2230/085

公开(公告)号：JP2018004778A

公开(公告)日：2018-01-11

申请号：JP2016128162

申请日：2016-06-28

申请人： 東京応化工業株式会社

发明人： 鈴木 一生 ,  矢萩 真人 ,  福村 友貴 ,  海老澤 和明 ,  小室 嘉崇 ,  高山 寿一 ,  神園 喬 ,  藤井 達也

IPC分类号： G03F7/039 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C211/63 ,  C07D333/76 ,  C07D327/02 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08L51/08 ,  C07C381/12 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20 ,  C08F220/22 ,  C08F220/26 ,  C08F220/30 ,  C08F220/38 ,  C08F220/40 ,  C08F220/58 ,  C08F2220/281 ,  C08F2220/282 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/301 ,  C08F2220/302 ,  C08F2220/303 ,  C08L53/005 ,  C08L67/04 ,  C08L87/005 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/38 ,  H01L21/0274

摘要： 【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 【解決手段】露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式(b1)で表される酸発生剤と、を含有することを特徴とする。式(b1)中、R b1 は、置換基として炭素数3以上のアルキル基を少なくとも1つ有する芳香族炭化水素基を表す。Y b1 は、エステル結合(−C(=O)−O−又は−O−C(=O)−)を含む2価の連結基を表す。V b1 は、アルキレン基、フッ素化アルキレン基又は単結合を表す。mは1以上の整数であって、M m+ はm価の有機カチオンを表す。 [化1] 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6209307B2

公开(公告)日：2017-10-04

申请号：JP2011218550

申请日：2011-09-30

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 井上 尚紀 ,  滝沢 裕雄 ,  平野 修史 ,  椿 英明

IPC分类号： C08F220/10 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/2002 ,  C08F212/14 ,  G03C1/733 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2039 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  C08F12/24

公开(公告)号：JP6195811B2

公开(公告)日：2017-09-13

申请号：JP2014148171

申请日：2014-07-18

申请人： 信越化学工業株式会社

发明人： 畠山 潤 ,  長谷川 幸士 ,  長澤 賢幸 ,  提箸 正義 ,  大橋 正樹

IPC分类号： C08F20/38 ,  C08F12/30 ,  C08F18/02 ,  C08F16/30 ,  C08F8/36

CPC分类号： C08F22/26 ,  B01J39/20 ,  B01J41/14 ,  C08F112/14 ,  C08F12/20 ,  C08F12/30 ,  C08F212/14 ,  C08F22/10