-
公开(公告)号：JP2015189839A
公开(公告)日：2015-11-02
申请号：JP2014067280
申请日：2014-03-27
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】レジスト組成物のブリッジ欠陥抑制性に優れる重合体を容易に製造することができるレジスト用重合体の製造方法の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、ラクトン構造を含む構造単位を有する第1重合体及び有機溶媒を含有する溶液を、多環のラクトン構造を含む構造単位を有しかつ比表面積が0.001m 2 /g以上100m 2 /g以下である第2重合体に接触させる工程を備えるレジスト用重合体の製造方法である。上記第2重合体におけるラクトン構造の環員数としては7以上20以下が好ましい。上記第1重合体におけるラクトン構造の環員数と上記第2重合体におけるラクトン構造の環員数との差としては5以下が好ましい。上記第1重合体におけるラクトン構造は多環であることが好ましい。上記第1重合体におけるラクトン構造と上記第2重合体におけるラクトン構造とは同一であることが好ましい。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供抗蚀剂用聚合物的制造方法，能够容易地制造抑制抗蚀剂组合物的桥接缺陷的优异的聚合物。解决方案：抗蚀剂用聚合物的制造方法包括： 使含有有机溶剂的溶液和具有含有内酯结构的结构单元的第一聚合物与具有包含多环内酯结构的结构单元并且比表面积为0.001m 2 / g以上且100以下的第二聚合物接触 m / g以下。 第二聚合物中的内酯结构的环成员的数目优选为7以上且20以下。 第一聚合物中的内酯结构体的数量与第二聚合物中的内酯结构的环成分的数量之间的差优选为5以下。 第一聚合物中的内酯结构优选为多环结构。 第一聚合物中的内酯结构和第二聚合物中的内酯结构优选相同。
-
公开(公告)号：JP2015148692A
公开(公告)日：2015-08-20
申请号：JP2014020843
申请日：2014-02-05
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 生井 準人
IPC: G03F7/038 , G03F7/039 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/004
Abstract: 【課題】LWR性能、解像性、断面形状の矩形性及び焦点深度に優れる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。 【解決手段】本発明は、酸解離性基を含む第1構造単位を有する重合体、及び第1感放射線性酸発生剤を含有し、上記第1感放射線性酸発生剤が、下記式(1)で表される化合物からなる感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、R 4 及びR 5 は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基又は炭素数1〜20の1価のフッ素化炭化水素基である。但し、R 4 及びR 5 のうちの少なくともいずれかはフッ素原子又はフッ素化炭化水素基である。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供LWR性能，分辨率，截面形状的矩形性和焦深度优异的辐射敏感性树脂组合物。溶液：本发明的辐射敏感性树脂组合物含有聚合物 具有含有酸解离基团的第一结构单元和第一辐射敏感性酸产生剂。 第一种辐射敏感酸产生剂包括由式（1）表示的化合物。 式（1）中，Rare Rare各自独立地为氢原子，氟原子，1-20C单价烃基或1-20C单价氟化烃基，条件是Rand Ris中的至少一个为氟原子或 氟化烃基。
-
公开(公告)号：JP2015148652A
公开(公告)日：2015-08-20
申请号：JP2014019876
申请日：2014-02-04
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 生井 準人
IPC: G03F7/039 , C07D231/54 , C07D209/02 , C07D487/08 , G03F7/004
Abstract: 【課題】LWR性能、CDU性能、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度、露光余裕度及びMEEF性能に優れる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び第1感放射線性酸発生体を含有し、上記第1感放射線性酸発生体が、下記式(1)で表される部分構造とSO 3 − 又はCOO − とを含むアニオン、及び感放射線性オニウムカチオンを有する化合物からなる感放射線性樹脂組成物である。式(1)中、R 1 は、炭素数1〜30の置換又は非置換のメタンジイル基である。P 1 及びP 2 は、それぞれ独立して、窒素原子又は炭素原子である。但し、P 1 及びP 2 のうちの少なくともいずれかは窒素原子である。R 1 としては置換エテニリデン基が好ましい。P 1 及びP 2 としては窒素原子が好ましい。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供LWR性能，CDU性能，分辨率，截面形状的矩形度，焦深，曝光宽容度和MEEF性能优异的辐射敏感性树脂组合物。解决方案：辐射敏感性 本发明的树脂组合物含有具有含有酸解离基团的结构单元的聚合物和第一辐射敏感性酸产生剂。 第一种辐射敏感酸产生剂包括具有阴离子的化合物，该阴离子含有由式（1）表示的部分结构和SOOR COO，以及辐射敏感的鎓阳离子。 在式（1）中，R 1为1-30C取代或未取代的甲二酰基; Pand各自独立地为氮原子或碳原子，条件是Pand Pis中的至少一个为氮原子; 优选取代的亚乙烯基; 和Pand Pare各自优选为氮原子。
-
公开(公告)号：JP2015125200A
公开(公告)日：2015-07-06
申请号：JP2013268151
申请日：2013-12-25
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 生井 準人
IPC: G03F7/038 , C08F220/28 , C08F220/22 , C08F212/06 , G03F7/004 , G03F7/039
Abstract: 【課題】優れたMEEF性能、焦点深度及び露光余裕度を発揮し、LWR性能、CDU性能、解像性及び断面形状の矩形性に優れるレジストパターンを形成できる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、酸解離性基含有重合体、及び感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物であって、上記重合体が下記式(1)で表される基を含む第1構造単位を有し、上記感放射線性酸発生体がオニウム塩を含むことを特徴とする。式(1)中、Lは、炭素数1〜20の2価の有機基である。Mは、置換若しくは非置換の炭素数1〜20の2価の炭化水素基である。LとMとは互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3〜20の単環の脂環構造を形成してもよい。R 1 は、炭素数1〜20の1価の有機基である。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供表现出优异的MEEF（掩模误差增强因子）性能，焦深和曝光宽容度的辐射敏感性树脂组合物，并且可以形成LWR（线宽粗糙度）性能优异的抗蚀剂图案，CDU （临界尺寸均匀性）横截面形状的性能，分辨率和矩形度。解决方案：辐射敏感树脂组合物包含含酸解离基团的聚合物和辐射敏感性酸发生剂。 聚合物具有第一结构单元，包括由下式（1）表示的基团。 辐射敏感性酸产生剂含有鎓盐。 式（1）中，L表示碳原子数1〜20的二价有机基团， M表示取代或未取代的碳原子数为1〜20的二价烃基，L和M可以结合形成与L和M键合的碳原子一起形成3〜20元单环脂肪族结构; 并且R表示具有1至20个碳原子的一价有机基团。
-
公开(公告)号：JP2015064508A
公开(公告)日：2015-04-09
申请号：JP2013199048
申请日：2013-09-25
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F20/22 , C07C69/675 , G03F7/039
Abstract: 【課題】レジスト膜の現像前後の接触角変化が大きく、現像欠陥抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】下記式(1)で表される構造単位を有する第1重合体、及び感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、R 2 は、二重結合を含む炭素数5〜20の脂環式炭化水素基である。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供在抗蚀剂膜显影前后接触角变化大的辐射敏感性树脂组合物，具有优异的显影缺陷抑制性能。解决方案：辐射敏感性树脂组合物包含具有 由式（1）表示的结构单元和辐射敏感性酸产生剂。 在下式（1）中，R是含有双键的5-20C脂环族烃基。
-
Patent Agency Ranking
-
公开(公告)号：JP6631397B2
公开(公告)日：2020-01-15
申请号：JP2016095683
申请日：2016-05-11
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/20 , C07C51/41 , C07C59/21 , C07C67/313 , C07C69/34 , C07C303/40 , C07C311/06 , C07C303/30 , C07C309/70 , C07C315/04 , C07C317/44 , C07D317/72 , C07D307/33 , C07D307/60 , C07D207/408 , G03F7/004
-
公开(公告)号：JP6443000B2
公开(公告)日：2018-12-26
申请号：JP2014236049
申请日：2014-11-20
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 生井 準人
IPC: G03F7/038 , C08F20/28 , C07D307/94 , C07D311/96 , C07D307/32 , C07D307/93 , C07D493/08 , G03F7/039
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
149
records
(took 0.034 seconds)
