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    欠陥観察装置
    62.
    发明专利
    欠陥観察装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2020177835A

    公开(公告)日：2020-10-29

    申请号：JP2019079938

    申请日：2019-04-19

    Applicant: 株式会社日立ハイテク

    Inventor： 伊藤 晟 ,  原田 実 ,  嶺川 陽平 ,  平井 大博

    IPC: H01J37/28 ,  H01L21/66 ,  H01J37/22

    Abstract: 【課題】第1の撮像条件下の画像における欠陥座標を用いて第2の撮像条件下の画像における欠陥座標を算出できるようにして、欠陥観察のスループットを向上させる。 【解決手段】荷電粒子顕微鏡と、この荷電粒子顕微鏡を制御する制御部と記憶部と演算部とを有するコントローラとを備える欠陥観察装置において、制御部で,荷電粒子顕微鏡を第1の条件で制御して試料の観察対象領域の第1の画像を取得し、演算部において、取得した第1の画像から観察対象領域の第1の位置情報を抽出し、制御部で、荷電粒子顕微鏡を第2の条件で制御して試料の観察対象領域の第2画像を取得し、演算部において、取得した第2の画像の画質を記憶部に記憶しておいた画質変換処理パラメータを用いて第1の画像の像質に合わせる像質変換処理を行い、像質変換処理を施した第2の画像を処理するように欠陥観察装置を構成した。 【選択図】図3

    荷電粒子線装置
    63.
    发明专利
    荷電粒子線装置 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2019058440A1

    公开(公告)日：2020-10-22

    申请号：JP2017033854

    申请日：2017-09-20

    Applicant: 株式会社日立ハイテク

    Inventor： 尾方 智彦 ,  長谷川 正樹 ,  小貫 勝則 ,  兼岡 則幸 ,  村越 久弥

    IPC: H01J37/29 ,  H01J37/28 ,  H01J37/05 ,  H01J37/244 ,  H01J37/22

    Abstract: 試料直上で荷電粒子を反転させて観察する荷電粒子線装置において、欠陥コントラストを最適化する。荷電粒子源(20)と、荷電粒子源に第1の電圧を印加する電子銃制御装置(41)と、試料(30)に第2の電圧を印加する基板電圧制御装置(44)と、試料の方向から入射する荷電粒子を結像する結像レンズ(22)を含む結像光学系と、荷電粒子を検出するカメラ(32)を含む検出器と、検出信号を処理する画像処理装置(45)とを備え、結像光学系は試料より放出された二次電子を結像しないように構成されると共に、第1及び第2の電圧の電位差により試料上に形成された電界に跳ね返されたミラー電子による像を形成する。画像処理装置(45)は、取得信号に基づいて電位差を制御する制御信号を生成、ミラー電子の反射面を制御して欠陥コントラストを最適化する。

    電子ビーム検査方法
    65.
    发明专利
    電子ビーム検査方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2020170792A

    公开(公告)日：2020-10-15

    申请号：JP2019071493

    申请日：2019-04-03

    Applicant: 株式会社ニューフレアテクノロジー

    Inventor： 吉武 秀介

    IPC: G01N23/2251 ,  H01J37/20 ,  H01J37/22 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  H01L21/66

    Abstract: 【目的】基板上に除電ムラが生じてしまう場合でも、図形パターンを認識することが可能な方法を提供する。 【構成】本発明の一態様の電子ビーム検査方法は、図形パターンが形成された基板上を電子ビームでスキャンして、基板から放出される2次電子を用いて、図形パターンの2次電子画像を取得する工程と、2次電子画像から図形パターンの認識が困難な第1の領域を特定する工程と、特定された第1の領域を含む第2の領域について、スキャン速度を速めて、電子ビームでスキャンして、基板から放出される2次電子を用いて、再度、図形パターンの2次電子画像を取得する工程と、再度、取得された2次電子画像を用いて、図形パターンの検査を行い、結果を出力する工程と、を備えたことを特徴とする。 【選択図】図3

    二次顕微鏡検出器からの画像を使用した一次顕微鏡検出器からのラベル付き画像の自動生成
    66.
    发明专利
    二次顕微鏡検出器からの画像を使用した一次顕微鏡検出器からのラベル付き画像の自動生成 审中-公开

    公开(公告)号：JP2020170702A

    公开(公告)日：2020-10-15

    申请号：JP2020067169

    申请日：2020-04-03

    Applicant: エフ イー アイ カンパニ ,  FEI COMPANY

    Inventor： レイナー ルイス ウォーショー

    IPC: G06T7/174 ,  H01J37/252 ,  H01J37/28 ,  H01J37/22

    Abstract: 【課題】二次顕微鏡検出器からの画像を使用した一次顕微鏡検出器からのラベル付き画像の自動生成を提供する。 【解決手段】STEMシステム106は、集束荷電ビーム123をサンプルに印加することと、第1の顕微鏡検出器102を使用して、サンプルに入射する集束荷電ビームから生じる放射を検出し、第1の顕微鏡検出器からの検出器データを使用して、第1のラベル付き画像を自動的に生成する。第1のラベル付き画像を自動的に生成することは、検出器データに基づいてサンプルの一部に関する組成情報を判定することと、その後、対応する組成情報によってサンプルの一部に関連付けられた第1の画像の領域を自動的にラベル付けする。サンプルの第2の画像は、異なるモダリティの第2の顕微鏡検出器システムからの検出器データを使用して生成され、その後、第1のラベル付き画像が使用され、対応する組成情報によって第2の画像の領域を自動的にラベル付けする。 【選択図】図1

    粒子線分析装置
    68.
    发明专利
    粒子線分析装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2020169926A

    公开(公告)日：2020-10-15

    申请号：JP2019072172

    申请日：2019-04-04

    Applicant: 株式会社島津製作所

    Inventor： 小野 卓男

    IPC: H01J37/252 ,  H01J37/28 ,  G01N23/225

    Abstract: 【課題】試料ステージ上の試料の設置位置が変更されたときにポジションリスト中の座標情報の修正に係る手間を軽減する。 【解決手段】試料ステージ4上に載置された試料5上の、複数の分析対象位置の座標情報を記憶しておく位置情報記憶部22と、試料ステージ4上に載置されている試料5において、位置情報記憶部22に記憶されている複数の分析対象位置の中の一つを探索し、その一つの分析対象位置の最新の座標情報を取得する最新情報取得部24と、一つの分析対象位置の最新の座標情報と該分析対象位置の位置情報記憶部22に記憶されている座標情報とから位置ずれ情報を算出する位置ずれ情報算出部25と、位置情報記憶部22に記憶されている複数の分析対象位置の座標情報の全てを位置ずれ情報を用いて修正して新たな座標情報を算出する座標情報算出部25と、位置情報記憶部22に記憶されている、複数の分析対象位置の座標情報の全てを、新たな座標情報に書き換える記憶情報更新部26と、を備える。 【選択図】図1

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