公开(公告)号：JP4494734B2

公开(公告)日：2010-06-30

申请号：JP2003193836

申请日：2003-07-08

Applicant: キヤノン株式会社 ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 洋也 太田 ,  真人 村木

IPC: H01L21/027

公开(公告)号：JP4150547B2

公开(公告)日：2008-09-17

申请号：JP2002225984

申请日：2002-08-02

Applicant: キヤノン株式会社 ,  株式会社アドバンテスト ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 理 上村 ,  義則 中山 ,  中村　　元 ,  洋也 太田 ,  康成 早田 ,  真人 村木 ,  真樹 高桑

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4090303B2

公开(公告)日：2008-05-28

申请号：JP2002231208

申请日：2002-08-08

Applicant: キヤノン株式会社 ,  株式会社アドバンテスト ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 義則 中山 ,  洋也 太田 ,  ▲徳▼郎 斉藤 ,  康成 早田 ,  真人 村木 ,  真樹 高桑

IPC: G01T1/29 ,  H01J37/04 ,  G03F7/20 ,  H01J37/244 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01J37/244 ,  H01J2237/24405 ,  H01J2237/31774

公开(公告)号：JP4795736B2

公开(公告)日：2011-10-19

申请号：JP2005198095

申请日：2005-07-06

Applicant: キヤノン株式会社 ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 孝 前田 ,  公明 安藤 ,  真人 村木 ,  正道 桑原 ,  知之 森田 ,  勇 瀬戸

IPC: H01L21/027 ,  H01J37/305

公开(公告)号：JP4738822B2

公开(公告)日：2011-08-03

申请号：JP2005017696

申请日：2005-01-26

Applicant: キヤノン株式会社 ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 治人 小野 ,  太 廣瀬 ,  康成 早田 ,  真人 村木 ,  恭宏 染田 ,  兼一 長永

IPC: H01L21/027 ,  H01J37/12 ,  H01J37/305

公开(公告)号：JP4559137B2

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：JP2004194772

申请日：2004-06-30

Applicant: キヤノン株式会社 ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 真人 村木 ,  恭宏 染田 ,  真人 根岸 ,  真希 細田 ,  浩一 脇坂 ,  昌和 菅谷

IPC: H01J37/305 ,  H01J37/16 ,  H01J37/18 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01J37/3007 ,  H01J9/18 ,  H01J37/04 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/151 ,  H01J2237/166 ,  H01J2237/31774 ,  Y10T403/32713

公开(公告)号：JP4183454B2

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：JP2002225973

申请日：2002-08-02

Applicant: キヤノン株式会社 ,  株式会社アドバンテスト ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 理 上村 ,  義則 中山 ,  康成 早田 ,  真人 村木 ,  真樹 高桑

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01J37/04 ,  H01J37/147 ,  H01J37/304 ,  H01J37/305 ,  H01J37/317

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/043 ,  H01J2237/24405

Abstract: The present invention intends to improve the writing accuracy in an electron beam writing system using discrete multi beams in which the interval of the beams is larger than the size of the beams. In electron beam writing equipment which uses means generating multi electron beams; means on/off controlling each of the multi electron beams according to pattern data that should be written; and means deflecting the multi electron beams together, thereby performing writing on a wafer, one side of a unit writing area of the multi electron beams is larger than substantially twice the interval of the electron beams or substantially an integral multiple thereof.

公开(公告)号：JP4738723B2

公开(公告)日：2011-08-03

申请号：JP2003206223

申请日：2003-08-06

Applicant: キヤノン株式会社 ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 義則 中山 ,  晴夫 依田 ,  洋也 太田 ,  徳郎 斎藤 ,  真人 村木

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01J37/04 ,  H01J37/304 ,  H01J37/305 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/304 ,  H01J37/317

公开(公告)号：JP4477436B2

公开(公告)日：2010-06-09

申请号：JP2004194775

申请日：2004-06-30

Applicant: キヤノン株式会社 ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 理 上村 ,  真人 村木 ,  真希 細田

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01J37/04 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J37/045 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/31774

公开(公告)号：JP4356064B2

公开(公告)日：2009-11-04

申请号：JP2003193834

申请日：2003-07-08

Applicant: キヤノン株式会社 ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 理 上村 ,  真人 村木

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/153 ,  H01J37/305 ,  H01L21/027