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    塩基発生剤、該塩基発生剤を含有する塩基反応性組成物および塩基発生方法
    1.
    发明专利
    塩基発生剤、該塩基発生剤を含有する塩基反応性組成物および塩基発生方法 有权
    基发生器，碱反应性组合物含有所述碱产生和碱产生方法

    公开(公告)号：JPWO2014208632A1

    公开(公告)日：2017-02-23

    申请号：JP2015524100

    申请日：2014-06-25

    申请人： 和光純薬工業株式会社 ,  学校法人東京理科大学

    发明人： 信彦 酒井 ,  康佑 簗場 ,  晃二 有光

    IPC分类号： C07C59/84 ,  C07C65/28 ,  C07C279/26 ,  C07D209/48 ,  C07D311/86 ,  C09K3/00

    CPC分类号： C07C279/26 ,  C07C59/84 ,  C07C65/28 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/24 ,  C07D209/48 ,  C07D311/86 ,  G03F7/0045

    摘要： 汎用されている有機溶剤への溶解性が高く、エポキシ系化合物等の塩基反応性化合物に直接溶解させることができ、さらには高耐熱性と低求核性の両方の性能を備える、強塩基を発生する塩基発生剤、当該塩基発生剤と塩基反応性化合物を含有する塩基反応性組成物、ならびに塩基発生方法等を提供することを課題とする。本発明は、一般式(A)で示される化合物、当該化合物を含んでなる塩基発生剤、当該塩基発生剤および塩基反応性化合物を含有することを特徴とする塩基反応性組成物、ならびに塩基発生方法等に関する。(式中、R1〜R5はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいアリールアルキル基を表し、R6は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいアリールアルキル基を表し、R7は、水素原子、アミノ基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいアリールアルキル基を表し、Z−は、特定構造のカルボン酸由来のアニオンを表す。)

    摘要翻译： 其中广泛环氧化合物的有机溶剂，如碱性反应性化合物的溶解性高，可以直接溶解，还包括高的耐热性和低亲核性二者的性能，强碱 基发生器，用于产生含有碱性反应性组合物中的碱产生和碱性反应性化合物，而且它是一个目的是提供一种碱生成方法等。 本发明是包含该化合物，其特征在于含有基生成和碱性反应性的化合物，以及可产生碱的碱性反应性组合物由式（A），产碱表示的化合物 方法和等。 （式中，R1至R5分别独立地表示氢原子，烷基，可以具有任选取代的芳基或任选取代的芳基烷基，R 6是氢 原子，其可以具有取代基的烷基，烯基，炔基，其可具有任选取代的芳基或任选取代的芳烷基，R 7是 氢原子，可具有氨基，其可具有任选取代的芳基或取代基的芳烷基的烷基，Z-是羧酸特定结构 它代表来自酸衍生的阴离子。）

    チオキサンテン系化合物、塩基増殖剤及び当該塩基増殖剤を含有する塩基反応性樹脂組成物
    2.
    发明专利
    チオキサンテン系化合物、塩基増殖剤及び当該塩基増殖剤を含有する塩基反応性樹脂組成物 有权
    噻吨化合物，基极放大器和含有碱增殖剂的反应性基的树脂组合物

    公开(公告)号：JPWO2014185303A1

    公开(公告)日：2017-02-23

    申请号：JP2015517037

    申请日：2014-05-02

    申请人： 和光純薬工業株式会社 ,  学校法人東京理科大学

    发明人： 信彦 酒井 ,  晃二 有光

    IPC分类号： C07D335/12 ,  C08G59/40 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038

    CPC分类号： C07D335/12 ,  G03F7/0382

    摘要： 【課題】エポキシ系化合物等の架橋反応に用いることができ、塩基の存在によって新たな塩基を発生可能であり、かつ、有機溶剤に対する溶解性が高く、さらには従来の塩基増殖剤よりも耐熱性が高いことから、塩基反応性化合物に含有させた場合に、塩基増殖反応が効率的に進行する塩基増殖剤及び当該塩基増殖剤を含有する塩基反応性樹脂組成物を提供すること。本発明は、式(A)で表されるチオキサンテン系化合物、塩基増殖剤及び当該塩基増殖剤を含有する塩基反応性樹脂組成物に関する。

    摘要翻译： A可以在交联反应中使用诸如环氧树脂化合物能够通过在碱存在下，和在有机溶剂中的高溶解度生成新碱，比传统的碱增殖剂更耐热 因为高，当它被包含在所述基反应性化合物，以提供碱反应树脂组合物碱增殖反应中含有碱增殖剂和碱增殖剂可有效地进行。 本发明中，由式（A）表示的噻吨化合物，并涉及一种含有碱的碱增殖剂剂和碱反应性树脂组合物相乘。

    ボレート系塩基発生剤および該塩基発生剤を含有する塩基反応性組成物
    4.
    发明专利
    ボレート系塩基発生剤および該塩基発生剤を含有する塩基反応性組成物 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2015111640A1

    公开(公告)日：2017-03-23

    申请号：JP2015559097

    申请日：2015-01-22

    申请人： 和光純薬工業株式会社

    发明人： 信彦 酒井 ,  信彦 酒井 ,  康佑 簗場 ,  康佑 簗場

    IPC分类号： C07F5/02 ,  C07C279/26 ,  C07F9/24 ,  C09K3/00

    CPC分类号： C07F9/22 ,  C07C229/26 ,  C07C279/26 ,  C07C2601/14 ,  C07D233/50 ,  C07D487/04 ,  C07F5/027 ,  C07F9/065 ,  C07F9/5337 ,  C07F9/5721 ,  C07F9/6584 ,  C07F9/65848 ,  G03F7/0045

    摘要： エポキシ系化合物等の塩基反応性化合物と混合した状態で長期間保存した場合でも、該塩基反応性化合物と反応することがなく、保存安定性の高い組成物とすることができ、かつ、光(活性エネルギー線)の照射や加熱により強塩基(グアニジン類、ビグアニド類、ホスファゼン類またはホスホニウム類)を発生することのできる化合物、これらを含んでなる塩基発生剤および当該塩基発生剤と塩基反応性化合物を含有する塩基反応性組成物を提供することを課題とする。本発明は、一般式(A)で示される化合物、当該化合物を含んでなる塩基発生剤、当該塩基発生剤および塩基反応性化合物を含有することを特徴とする塩基反応性組成物等に関する。(式中、R1は、アルキル基;ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、もしくはアルキルチオ基で置換されていてもよいアリールアルキニル基;アルケニル基;2−フリルエチニル基;2−チオフェニルエチニル基;または2,6−ジチアニル基を表し、R2〜R4はそれぞれ独立して、アルキル基;ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、もしくはアルキルチオ基で置換されていてもよいアリールアルキニル基;ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、もしくはアルキルチオ基で置換されていてもよいアリール基;フラニル基;チエニル基;またはN−アルキル置換ピロリル基を表し、Z+は、グアニジニウム基、ビグアニジウム基またはホスファゼニウム基を有するアンモニウムカチオン、あるいはホスホニウムカチオンを表す。)

    酸およびラジカル発生剤、ならびに酸およびラジカル発生方法
    6.
    发明专利
    酸およびラジカル発生剤、ならびに酸およびラジカル発生方法 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2015076395A1

    公开(公告)日：2017-03-16

    申请号：JP2015549216

    申请日：2014-11-21

    申请人： 和光純薬工業株式会社

    发明人： 信彦 酒井 ,  信彦 酒井 ,  康佑 簗場 ,  康佑 簗場

    IPC分类号： C07C317/24 ,  C07C317/44 ,  C07D335/16 ,  C09K3/00 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C317/14 ,  C07C317/24 ,  C07C317/44 ,  C07C2603/24 ,  C07D335/16 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031

    摘要： 波長300〜450nm付近の活性エネルギー線に対して高い感度を有し、なおかつ高い酸発生能とラジカル発生能の両方の性能を発揮でき、さらには耐熱性を備える酸およびラジカル発生剤、ならびに酸およびラジカル発生方法を提供することを課題とする。本発明は、一般式(A)で示される化合物、当該化合物を含む酸およびラジカル発生剤、ならびに酸およびラジカル発生方法に関する。(式中、n個のR1はそれぞれ独立して、特定の官能基を鎖中に有していてもよいし、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基;ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基;ハロゲン原子、アルキル基もしくはハロアルキル基で置換されていてもよいアリール基またはアリールオキシ基;あるいはハロゲン原子、アルキル基もしくはハロアルキル基で置換されていてもよいアリールアルキル基またはアリールアルキルオキシ基を表し、n個のR2およびR3はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアルコキシカルボニル基を表し、R4〜R7はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、ジアルキルアミノ基またはニトロ基を表し、Yは酸素原子、硫黄原子またはカルボニル基を表し、n個のZはそれぞれ独立して、スルホニル基またはアルコキシホスホリル基を表し、nは、1または2を表す。)

    光塩基発生剤
    9.
    发明专利
    光塩基発生剤 有权

    公开(公告)号：JPWO2010064632A1

    公开(公告)日：2012-05-10

    申请号：JP2010541323

    申请日：2009-12-01

    申请人： 和光純薬工業株式会社

    发明人： 信彦 酒井 ,  信彦 酒井 ,  絢子 蔵本 ,  絢子 蔵本 ,  洋治 浦野 ,  洋治 浦野

    IPC分类号： C07D335/16 ,  C07D409/12

    CPC分类号： C07D335/16 ,  C07D409/12

    摘要： 長波長の光(活性エネルギー線)の照射により容易に塩基を発生する新規な化合物、これらの化合物を含んでなる光塩基発生剤及び塩基発生方法を提供することを目的とし、本発明は、一般式[1]で示される化合物、これらの化合物を含んでなる光塩基発生剤及び塩基発生方法に関する。(式中、R1及びR2は夫々独立して、水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキル基を表すか、或いはこれらが結合している窒素原子と共に、置換基を有していてもよい炭素数3〜8の含窒素脂肪族環又は含窒素芳香環を形成するものを表し、R3及びR4は夫々独立して、水素原子、炭素数1〜10の直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表し、R5、R6、R7及びR8は夫々独立して、水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキル基を表す。)