公开(公告)号：JP6008519B2

公开(公告)日：2016-10-19

申请号：JP2012051636

申请日：2012-03-08

Applicant: 国立大学法人東京工業大学 ,  昭和電工株式会社

Inventor： 和田 雄二 ,  陳 智 ,  望月 大 ,  内田 博 ,  篠崎 研二 ,  冨田 浩幸

IPC: B22F1/00 ,  B22F9/24 ,  H01B5/00 ,  H01B1/22 ,  H01B1/00 ,  H01B13/00 ,  C09D11/00 ,  B22F1/02

公开(公告)号：JP2021107388A

公开(公告)日：2021-07-29

申请号：JP2020215408

申请日：2020-12-24

Applicant: 国立研究開発法人産業技術総合研究所 ,  昭和電工株式会社

Inventor： 佐藤 一彦 ,  中島 裕美子 ,  田中 真司 ,  内田 博 ,  石原 吉満

IPC: C07D231/12

Abstract: 【課題】ハロゲンを含む化合物を用いることなく、ブロックイソシアナト基およびヒドロキシ基を有する化合物を製造できるヒドロキシアルキルカルボキサミド化合物の製造方法を提供する。 【解決手段】溶媒の存在下で、カルバミン酸エステルとカルバミン酸エステルの環化体のいずれか一方または両方と、ピラゾール環を含むブロック化剤とを反応させることにより、化合物を合成する第1工程を含むヒドロキシアルキルカルボキサミド化合物の製造方法とする。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2020183348A

公开(公告)日：2020-11-12

申请号：JP2019086722

申请日：2019-04-26

Applicant: 国立大学法人九州大学 ,  昭和電工株式会社

Inventor： 徳永 信 ,  村山 美乃 ,  山本 英治 ,  森 陽暉 ,  奥村 吉邦 ,  板垣 真太朗 ,  今田 涼子 ,  内田 博

IPC: C07C255/17 ,  C07C253/30

Abstract: 【課題】不均一触媒の存在下で反応させることによりシアノアルデヒド化合物が得られる製造方法を提供する。 【解決手段】水素ガスと一酸化炭素ガスとを含む混合ガスと、下記一般式(1)で表される不飽和ニトリル化合物とを、周期表第4周期の第4族〜第14族の元素の酸化物からなる担体に、周期表第5周期または第6周期の8族〜11族の金属または金属酸化物が担持された不均一触媒の存在下で反応させるシアノアルデヒド化合物の製造方法とする(式(1)中、R 1 、R 2 はそれぞれ、水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基から選ばれるいずれか)。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6779253B2

公开(公告)日：2020-11-04

申请号：JP2018089389

申请日：2018-05-07

Applicant: 昭和電工株式会社

Inventor： 内田 博 ,  篠崎 研二 ,  岡▲崎▼ 恵理 ,  大籏 英樹 ,  宮村 泰直

IPC: B05D3/06 ,  B05D7/24 ,  H01B5/14 ,  H05K3/12 ,  H01B13/00

公开(公告)号：JP6690925B2

公开(公告)日：2020-04-28

申请号：JP2015229572

申请日：2015-11-25

Applicant: 国立大学法人大阪大学 ,  昭和電工株式会社

Inventor： 菅沼 克昭 ,  能木 雅也 ,  菅原 徹 ,  酒 金▲てい▼ ,  古賀 大尚 ,  内田 博 ,  原 真尚 ,  中澤 恵理

IPC: B32B3/24 ,  B32B15/02 ,  G06F3/041 ,  H01B13/00

公开(公告)号：JP2020026435A

公开(公告)日：2020-02-20

申请号：JP2019147436

申请日：2019-08-09

Applicant: 学校法人神奈川大学 ,  昭和電工株式会社

Inventor： 上田 渉 ,  石川 理史 ,  内田 博 ,  上田 祥之 ,  李 建燦 ,  渋谷 彰 ,  齋藤 信

IPC: C07C233/09 ,  B01J23/34 ,  B01J23/26 ,  B01J23/75 ,  B01J23/755 ,  B01J23/06 ,  C07C231/12

Abstract: 【課題】気相反応によりN,N−二置換α,β−不飽和カルボン酸アミドを製造できる製造方法を提供する。 【解決手段】N,N−二置換カルボン酸アミドとアルデヒド類とを、触媒の存在下で気相反応させることにより、N,N−二置換α,β−不飽和カルボン酸アミドを製造する方法であり、前記触媒が、周期表第2族の金属元素である第1の金属元素の酸化物と、Mn、Cr、Co、Ni、Znからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属元素である第2の金属元素の酸化物とを含み、前記第1の金属元素と前記第2の金属元素の合計モル数に対する前記第2の金属元素のモル比が0.01〜0.20である方法とする。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2020019736A

公开(公告)日：2020-02-06

申请号：JP2018143522

申请日：2018-07-31

Applicant: 昭和電工株式会社

Inventor： 上田 祥之 ,  渋谷 彰 ,  宮田 英雄 ,  内田 博

IPC: C07C233/05 ,  B01J29/40 ,  B01J29/46 ,  B01J29/14 ,  B01J23/72 ,  C07C231/06

Abstract: 【課題】液相反応でも気相反応でもニトリルとアルコールとの反応によりN,N−二置換アミドが得られ、反応後に得られた目的物と触媒との分離が容易であるN,N−二置換アミドの製造方法を提供する。 【解決手段】ニトリルとアルコールとを触媒の存在下で反応させて、N,N−二置換アミドを製造するN,N−二置換アミドの製造方法であり、前記触媒が、担体と、前記担体に担持された金属酸化物とからなる不均一触媒であって、担体が、ゼオライト、シリカおよびアルミナから選択される少なくとも一種であり、金属酸化物に含まれる金属が、銅とモリブデンから選択される少なくとも一種を含むN,N−二置換アミドの製造方法とする。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6630091B2

公开(公告)日：2020-01-15

申请号：JP2015170120

申请日：2015-08-31

Applicant: 国立大学法人大阪大学 ,  昭和電工株式会社

Inventor： 古賀 大尚 ,  菅沼 克昭 ,  能木 雅也 ,  内田 博 ,  大籏 英樹

IPC: H01G11/36 ,  H01G11/86

公开(公告)号：JPWO2018021224A1

公开(公告)日：2019-05-09

申请号：JP2017026644

申请日：2017-07-24

Applicant: 昭和電工株式会社

Inventor： 鳥羽 正彦 ,  ドウ クン ,  山下 千佳 ,  石橋 圭孝 ,  内田 博

IPC: C08F2/50 ,  C08F290/06 ,  C08F299/04 ,  C08G59/16

Abstract: 【課題】導電パターンにマイグレーションが発生しにくい保護膜の材料となるエポキシ(メタ)アクリレート化合物及びこれを含有する硬化性組成物を提供する。 【解決手段】 以下の一般式(1)で表されることを特徴とするエポキシ(メタ)アクリレート化合物であって、不純物であるハロゲン原子の含有量が100質量ppm以下である。また、このエポキシ(メタ)アクリレート化合物に(メタ)アクリロイル基を含有する、モノマーやオリゴマーの少なくとも一種、並びに光重合開始剤を混合して導電パターンの保護膜形成用の硬化性組成物とする。 【化1】 (R 1 〜R 5 の内の少なくとも一つは、下記式(2)で示す構造を有し、残りのR 1 〜R 5 は、各々独立して水素原子、炭素原子数が1〜6である、アルキル基およびアルコキシ基からなる群から選択されるいずれかである。R 6 は水素原子またはメチル基を表す。) 【化2】 (*は式(1)におけるR 1 〜R 5 が連結するベンゼン環を構成する炭素原子との連結部を示し、R 7 は水素原子またはメチル基を表す。) 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6478248B2

公开(公告)日：2019-03-06

申请号：JP2016544187

申请日：2015-08-12

Applicant: 昭和電工株式会社

Inventor： 石原 吉満 ,  ▲浜▼田 秀昭 ,  島田 茂 ,  佐藤 一彦 ,  五十嵐 正安 ,  内田 博

IPC: C01B33/04