公开(公告)号：JP2021102604A

公开(公告)日：2021-07-15

申请号：JP2020207558

申请日：2020-12-15

Applicant: 国立研究開発法人産業技術総合研究所 ,  東京応化工業株式会社

Inventor： 陶 究 ,  片岡 ▲祥▼ ,  吉越 裕介 ,  稲荷 宇俊 ,  新井 雅俊 ,  前橋 貴哉 ,  小室 嘉崇 ,  川名 大助

IPC: G03F7/004 ,  C07C53/122 ,  C07C57/04 ,  C01G25/02 ,  G03F7/20 ,  B82Y30/00 ,  C07F7/00

Abstract: 【課題】簡易な方法で製造でき、感度を高めることができる有機修飾金属酸化物ナノ粒子を提供する。 【解決手段】有機修飾金属酸化物ナノ粒子は、コアと、第一修飾基と、第二修飾基とを備えている。コアは、複数個の金属原子と、前記複数個の金属原子に共有結合した複数の酸素原子とを有している。第一修飾基(A1)は、コアに配位結合している、カルボン酸カルボキシレート、スルホン酸スルホネートおよびホスホン酸ホスホネートからなる群より選択される配位子である。第二修飾基(A2)は、コアに配位結合し、第一修飾基(A1)と構造の異なる配位子および/または無機陰イオンである。コア同士は、少なくとも第一修飾基(A1)によって配位結合により架橋された構造を有する。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021117264A

公开(公告)日：2021-08-10

申请号：JP2020008755

申请日：2020-01-22

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 山崎 晃義 ,  川名 大助 ,  小室 嘉崇 ,  新井 雅俊 ,  道林 信弘 ,  稲荷 宇俊

IPC: G03F7/20 ,  C08F8/12 ,  C08F8/14 ,  C08F220/36 ,  C08F212/04 ,  G03F7/039

Abstract: 【課題】リソグラフィー特性が良好なレジストパターン形成方法の提供。 【解決手段】一般式(Pre−1a)で表される第1の高分子化合物前駆体を得る工程と、一般式(p1)で表される高分子化合物を得る工程と、前記高分子化合物と、有機溶剤とを混合してレジスト組成物を調製する工程等を含む、レジストパターン形成方法。式中、Rp 01 及びRp 04 は、水素原子等である。Vp 01 は、単結合又は2価の連結基である。Rp 02 及びRp 03 は、それぞれ炭化水素基である。Rp 05 は、アルキル基等である。Rp 06 は、脂肪族炭化水素基である。n 1 は0〜4の整数である。Ra 001 、Ra 002 及びRa 003 は、それぞれ独立に炭化水素基である。 [化1] 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021116318A

公开(公告)日：2021-08-10

申请号：JP2020008739

申请日：2020-01-22

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 大内 誠 ,  呉 東泳 ,  山崎 晃義 ,  川名 大助 ,  小室 嘉崇 ,  新井 雅俊 ,  道林 信弘 ,  稲荷 宇俊

IPC: C08F220/10 ,  C08F212/14 ,  C08F8/12 ,  C08F8/14 ,  C08F220/52

Abstract: 【課題】レジスト組成物用の基材として用いられる高分子化合物を製造するのに有用な交互共重合体の提供。 【解決手段】下式で表される構成(a0−1)と構成(a0−2)とを有する交互共重合体。式中、Rp 01 は、水素原子等である。Vp 01 は、単結合又は2価の連結基である。Rp 02 及びRp 03 は、それぞれ独立に置換基を有してもよい炭化水素基であるか、又は相互に結合して環を形成していてもよい。Rp 04 は、水素原子、C1−C5アルキル基又はC1−C5ハロゲン化アルキル基である。Rp 05 は、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、シアノ基又は水酸基である。Rp 06 は、直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基である。n 1 は0〜4の整数である。 【選択図】なし