公开(公告)号：JP2021102604A

公开(公告)日：2021-07-15

申请号：JP2020207558

申请日：2020-12-15

Applicant: 国立研究開発法人産業技術総合研究所 ,  東京応化工業株式会社

Inventor： 陶 究 ,  片岡 ▲祥▼ ,  吉越 裕介 ,  稲荷 宇俊 ,  新井 雅俊 ,  前橋 貴哉 ,  小室 嘉崇 ,  川名 大助

IPC: G03F7/004 ,  C07C53/122 ,  C07C57/04 ,  C01G25/02 ,  G03F7/20 ,  B82Y30/00 ,  C07F7/00

Abstract: 【課題】簡易な方法で製造でき、感度を高めることができる有機修飾金属酸化物ナノ粒子を提供する。 【解決手段】有機修飾金属酸化物ナノ粒子は、コアと、第一修飾基と、第二修飾基とを備えている。コアは、複数個の金属原子と、前記複数個の金属原子に共有結合した複数の酸素原子とを有している。第一修飾基(A1)は、コアに配位結合している、カルボン酸カルボキシレート、スルホン酸スルホネートおよびホスホン酸ホスホネートからなる群より選択される配位子である。第二修飾基(A2)は、コアに配位結合し、第一修飾基(A1)と構造の異なる配位子および/または無機陰イオンである。コア同士は、少なくとも第一修飾基(A1)によって配位結合により架橋された構造を有する。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021033026A

公开(公告)日：2021-03-01

申请号：JP2019152373

申请日：2019-08-22

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 大西 行志 ,  新井 雅俊 ,  小室 嘉崇

IPC: C08F20/26 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039

Abstract: 【課題】感度が良好で、かつ、ラフネスが改善されたレジスト組成物、レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、レジスト組成物の樹脂成分として有用な高分子化合物、及び高分子化合物を製造するために有用な化合物の提供。 【解決手段】一般式(a0)で表される構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)を含む、レジスト組成物(式中、Ya 0 は炭素原子である。Xa 0 は、Ya 0 と共に単環式の炭化水素基を形成する基である。Ra 00 は炭化水素基である。ただし、Xa 0 及びRa 00 の少なくとも一つは、Ya 0 のα位に、炭素−炭素不飽和結合を構成する炭素原子を有している)。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2020132694A

公开(公告)日：2020-08-31

申请号：JP2019024619

申请日：2019-02-14

Applicant: 東京応化工業株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学

Inventor： 早川 晃鏡 ,  山崎 星奈 ,  山崎 晃義 ,  川名 大助 ,  小室 嘉崇 ,  前橋 貴哉 ,  小田島 凛

IPC: B05D1/36 ,  B05D7/24 ,  H01L21/312 ,  C08G77/442

Abstract: 【課題】自己組織化リソグラフィにより複雑な構造が形成できるブロック共重合体、相分離構造を含む構造体の製造方法の提供。 【解決手段】ケイ素原子を含まない構成単位(u1)の繰り返し構造を有する重合体からなる第1ブロック、及び、ケイ素原子を含む構成単位(u2)の繰り返し構造を有する重合体からなる第2ブロックを備え、第2ブロックは、一般式(u2−1)で表される構成単位(u21)の繰り返し構造を有する重合体からなるブロック(b21)を含み、ブロック共重合体を構成する全ブロックに対する第1ブロックの体積比は、42〜44体積%である、ブロック共重合体(R P211 は、極性基を有する有機基、アルキル基、ハロゲン化アルキル基又はHであり、R P21 2 は、SHR t1 で表される化合物から誘導される基である。R t1 は、置換基を有してもよい炭素数1〜5の炭化水素基である)。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6715375B2

公开(公告)日：2020-07-01

申请号：JP2019094831

申请日：2019-05-20

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 山崎 広人 ,  小室 嘉崇 ,  新井 雅俊 ,  川名 大助 ,  鈴木 健太 ,  藤井 達也

IPC: G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  C08F220/56 ,  C08F220/30 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP6670555B2

公开(公告)日：2020-03-25

申请号：JP2015120482

申请日：2015-06-15

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 平山 拓 ,  川名 大助 ,  小室 嘉崇 ,  新井 雅俊 ,  松丸 省吾 ,  鈴木 健太 ,  神園 喬 ,  藤井 達也

IPC: C08F220/28 ,  C08F220/58 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039

公开(公告)号：JP6646990B2

公开(公告)日：2020-02-14

申请号：JP2015192666

申请日：2015-09-30

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 新井 雅俊 ,  小室 嘉崇 ,  高木 大地

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  C08F220/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/038

公开(公告)号：JP6442370B2

公开(公告)日：2018-12-19

申请号：JP2015128335

申请日：2015-06-26

Applicant: サンアプロ株式会社 ,  東京応化工業株式会社

Inventor： 池田 卓也 ,  高嶋 祐作 ,  安井 誠治 ,  小室 嘉崇 ,  山崎 広人 ,  新井 雅俊

IPC: G03F7/004 ,  C07C381/12

公开(公告)号：JP6317095B2

公开(公告)日：2018-04-25

申请号：JP2013248662

申请日：2013-11-29

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 小室 嘉崇

IPC: G03F7/038 ,  C08F22/20 ,  G03F7/039

公开(公告)号：JP6317012B2

公开(公告)日：2018-04-25

申请号：JP2017103131

申请日：2017-05-24

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 小室 嘉崇 ,  海保 貴昭 ,  波戸 利明 ,  川上 晃也 ,  土屋 純一 ,  内海 義之

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C69/14 ,  C07C69/753 ,  C07C59/125 ,  C07D327/04 ,  C07D307/33 ,  C07D307/00 ,  C07D493/18 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP2018004778A

公开(公告)日：2018-01-11

申请号：JP2016128162

申请日：2016-06-28

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 鈴木 一生 ,  矢萩 真人 ,  福村 友貴 ,  海老澤 和明 ,  小室 嘉崇 ,  高山 寿一 ,  神園 喬 ,  藤井 達也

IPC: G03F7/039 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C211/63 ,  C07D333/76 ,  C07D327/02 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08L51/08 ,  C07C381/12 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20 ,  C08F220/22 ,  C08F220/26 ,  C08F220/30 ,  C08F220/38 ,  C08F220/40 ,  C08F220/58 ,  C08F2220/281 ,  C08F2220/282 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/301 ,  C08F2220/302 ,  C08F2220/303 ,  C08L53/005 ,  C08L67/04 ,  C08L87/005 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/38 ,  H01L21/0274

Abstract: 【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 【解決手段】露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式(b1)で表される酸発生剤と、を含有することを特徴とする。式(b1)中、R b1 は、置換基として炭素数3以上のアルキル基を少なくとも1つ有する芳香族炭化水素基を表す。Y b1 は、エステル結合(−C(=O)−O−又は−O−C(=O)−)を含む2価の連結基を表す。V b1 は、アルキレン基、フッ素化アルキレン基又は単結合を表す。mは1以上の整数であって、M m+ はm価の有機カチオンを表す。 [化1] 【選択図】なし