特殊構造パターンを創出するブロック共重合体の製造方法

    公开(公告)号:JP2020132694A

    公开(公告)日:2020-08-31

    申请号:JP2019024619

    申请日:2019-02-14

    Abstract: 【課題】自己組織化リソグラフィにより複雑な構造が形成できるブロック共重合体、相分離構造を含む構造体の製造方法の提供。 【解決手段】ケイ素原子を含まない構成単位(u1)の繰り返し構造を有する重合体からなる第1ブロック、及び、ケイ素原子を含む構成単位(u2)の繰り返し構造を有する重合体からなる第2ブロックを備え、第2ブロックは、一般式(u2−1)で表される構成単位(u21)の繰り返し構造を有する重合体からなるブロック(b21)を含み、ブロック共重合体を構成する全ブロックに対する第1ブロックの体積比は、42〜44体積%である、ブロック共重合体(R P211 は、極性基を有する有機基、アルキル基、ハロゲン化アルキル基又はHであり、R P21 2 は、SHR t1 で表される化合物から誘導される基である。R t1 は、置換基を有してもよい炭素数1〜5の炭化水素基である)。 【選択図】なし

    下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法
    5.
    发明专利
    下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 审中-公开
    包含相分离结构的基板代理和制造方法

    公开(公告)号:JP2016108444A

    公开(公告)日:2016-06-20

    申请号:JP2014247108

    申请日:2014-12-05

    Abstract: 【課題】ブロックコポリマーの相分離性能が高められ、簡便に用いることができる下地剤、及びこれを用いた相分離構造を含む構造体の製造方法を提供する。 【解決手段】基板上に形成した、疎水性ポリマーブロック(b11)と親水性ポリマーブロック(b21)とが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分は、疎水性ポリマーブロック(b12)の構成単位、又は親水性ポリマーブロック(b22)の構成単位を有し、かつ、主鎖の少なくとも一つの末端部にチオール基(−SH)を有することを特徴とする下地剤。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种提高嵌段共聚物的相分离性能并能够简单使用的底物,以及含有使用其的相分离结构的结构体的制造方法。溶液:提供了用于 含有形成在基材上的疏水性聚合物嵌段(b11)和亲水性聚合物嵌段(b21)的嵌段共聚物的层的相分离,含有具有疏水性聚合物嵌段(b12)的结构单元的树脂成分, 或亲水性聚合物嵌段(b22)的结构单元,并且在主链的至少一个末端部分上具有硫醇基(-SH)。选择图:无

    下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法
    6.
    发明专利
    下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 有权
    包含相分离结构的基板代理和制造方法

    公开(公告)号:JP2016108436A

    公开(公告)日:2016-06-20

    申请号:JP2014246812

    申请日:2014-12-05

    Abstract: 【課題】ブロックコポリマーの相分離性能が高められ、簡便に用いることができる下地剤、及びこれを用いた相分離構造を含む構造体の製造方法を提供する。 【解決手段】基板上に形成した、複数種類のブロックが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分は、式(u1−1)で表される置換基を有するポリスチレン誘導体である下地剤。 [RはH、C1〜5のアルキル基又はC1〜5のハロゲン化アルキル基;R 1 はハロゲン原子、又はO、ハロゲン原子或いはケイ素原子を含んでいてもよいC1〜20の直鎖状、分岐鎖状、環状或いはこれらの組み合わせによる炭化水素基;pは1〜5の整数] 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种提高嵌段共聚物的相分离性能并能够简单使用的底物,以及含有使用其的相分离结构的结构体的制造方法。溶液:提供了用于 包含嵌段共聚物的层的相分离,其中在基材上形成的几种嵌段结合,其含有具有由式(u1-1)表示的取代基的聚苯乙烯衍生物的树脂组分。 (u1-1),其中R是H,C1至5的烷基或C1至5的卤代烷基,R是卤素原子或O,C1至20的直链,支链,环状或组合的烃基,其可以含有 卤素原子或硅原子,p为1〜5的整数。选择图示:无

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