公开(公告)号：JP5641536B2

公开(公告)日：2014-12-17

申请号：JP2011056727

申请日：2011-03-15

申请人： 日本パーカライジング株式会社 ,  栃木住友電工株式会社

发明人： 宏志 清水 ,  宏志 清水 ,  森　和彦 ,  和彦 森 ,  大吾 金澤 ,  大吾 金澤 ,  松岡　映史 ,  映史 松岡 ,  山下　健一 ,  健一 山下

IPC分类号： B24D11/00 ,  B24D3/02 ,  B24D3/06 ,  C25D15/00

CPC分类号： C25D3/12 ,  C25D13/02 ,  C25D13/22

公开(公告)号：JP5571938B2

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：JP2009261794

申请日：2009-11-17

申请人： 日本パーカライジング株式会社

发明人： 雅矢 宮崎 ,  和彦 森 ,  均 石井 ,  隆臣 中山

IPC分类号： C23C22/34 ,  B32B15/06

CPC分类号： H05K3/383 ,  C23C22/34 ,  H05K3/385 ,  H05K2201/0355 ,  H05K2203/0796

公开(公告)号：JP5433224B2

公开(公告)日：2014-03-05

申请号：JP2008317896

申请日：2008-12-15

申请人： 日本パーカライジング株式会社

发明人： 信介 大木 ,  和彦 森

IPC分类号： C23C22/03

公开(公告)号：JP5258928B2

公开(公告)日：2013-08-07

申请号：JP2011102696

申请日：2011-05-02

申请人： 日本パーカライジング株式会社

发明人： 正昭 別府 ,  英久 作田 ,  和彦 森

IPC分类号： C23C28/04 ,  C21D1/06 ,  C21D1/10 ,  C21D9/00 ,  C21D9/28 ,  C21D9/32 ,  C23C8/26 ,  C23C8/38 ,  C23C8/50

CPC分类号： Y02P10/253

公开(公告)号：JP4911451B2

公开(公告)日：2012-04-04

申请号：JP2006151896

申请日：2006-05-31

申请人： 島根県 ,  日本パーカライジング株式会社

发明人： 英久 作田 ,  和彦 森 ,  信幸 金山

IPC分类号： C23C8/22 ,  C21D1/06 ,  C23C8/32 ,  C23C8/38 ,  C23C16/26 ,  C23C16/56

公开(公告)号：JP4571793B2

公开(公告)日：2010-10-27

申请号：JP2003392733

申请日：2003-11-21

申请人： 日本パーカライジング株式会社

发明人： 和彦 森

IPC分类号： B01J27/16 ,  C09D1/00 ,  B01J35/02 ,  C09D5/00 ,  C09D5/02 ,  C09D7/12

公开(公告)号：JP4201813B2

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：JP2006514160

申请日：2005-08-05

申请人： 日本パーカライジング株式会社

发明人： 信明 吉岡 ,  充宏 奥畑 ,  昌利 山下 ,  和彦 森 ,  芳宏 池田

IPC分类号： C25D11/02 ,  C04B35/119 ,  C04B35/488 ,  C25D11/04 ,  C25D11/06 ,  C25D11/30

CPC分类号： C04B35/119 ,  C04B35/4885 ,  C04B2235/3201 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3244 ,  C04B2235/44 ,  C04B2235/442 ,  C04B2235/447 ,  C04B2235/449 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/76 ,  C04B2235/762 ,  C04B2235/765 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/963 ,  C25D7/10 ,  C25D11/024 ,  C25D11/026 ,  C25D11/04 ,  C25D11/26 ,  C25D11/30

公开(公告)号：JP3573574B2

公开(公告)日：2004-10-06

申请号：JP17124596

申请日：1996-07-01

申请人： 日本パーカライジング株式会社

发明人： 和彦 森

IPC分类号： C01G23/047 ,  B01J21/06 ,  B01J35/02 ,  C25D9/08 ,  C25D13/02

公开(公告)号：JP3529328B2

公开(公告)日：2004-05-24

申请号：JP2000185251

申请日：2000-06-20

申请人： クリナップ株式会社 ,  新日本製鐵株式会社 ,  日本パーカライジング株式会社

发明人： 充 中村 ,  和彦 森 ,  昭秀 金子 ,  道郎 金子

IPC分类号： B05D7/14 ,  B05D7/24 ,  B32B9/00 ,  B32B15/04 ,  C09D1/00 ,  C09D5/16 ,  C22C38/00 ,  C23C26/00

公开(公告)号：JPWO2013157574A1

公开(公告)日：2015-12-21

申请号：JP2014511233

申请日：2013-04-17

申请人： 日本パーカライジング株式会社

发明人： 森　和彦 ,  和彦 森 ,  宏志 清水 ,  宏志 清水 ,  雅矢 宮崎 ,  雅矢 宮崎 ,  淳一 南 ,  淳一 南

IPC分类号： C23C22/34 ,  C23C22/52

CPC分类号： C09D5/086 ,  C23C22/34 ,  C23C22/83

摘要： 本発明は、密着性・耐食性・電気的特性に優れた皮膜を自己析出により銅材料上に形成しうる、液安定性に優れる自己析出型銅用表面処理剤を提供することを目的とする。本発明の自己析出型銅用表面処理剤は、1〜60質量部の水溶性または水分散性ポリマーと、30〜99質量部の水を主体とする溶媒と、0.01〜5質量部の銅錯化剤とを含み、pH3.0のときの酸化還元電位が−500〜+200mV(vs.SHE)の範囲にある。

摘要翻译： 本发明是可以通过自沉积被形成在铜材料具有优异的密合性和耐腐蚀性和电特性的薄膜，本发明的一个目的是提供具有优异的液体稳定性的自析出铜表面处理剂。 重量的水溶性或水分散性聚合物，以及主要由水30组成的99重量份，0.01〜5重量份溶剂自动沉积在本发明的铜表面处理剂，1〜60重量份的铜络合物的 和还原剂，在该范围的-500的氧化还原电位〜+ 200mV的（vs.SHE）当pH 3.0。