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公开(公告)号:JP4994238B2
公开(公告)日:2012-08-08
申请号:JP2007534374
申请日:2006-09-01
Applicant: 旭化成イーマテリアルズ株式会社 , 株式会社ピーアイ技術研究所
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/022 , G03F7/40
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公开(公告)号:JP5193446B2
公开(公告)日:2013-05-08
申请号:JP2006236514
申请日:2006-08-31
Applicant: 旭化成イーマテリアルズ株式会社 , 株式会社ピーアイ技術研究所
IPC: G03F7/023 , G03F7/004 , H01L21/027
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公开(公告)号:JPWO2007029614A1
公开(公告)日:2009-03-19
申请号:JP2007534374
申请日:2006-09-01
Applicant: 旭化成エレクトロニクス株式会社 , 株式会社ピーアイ技術研究所
IPC: G03F7/023 , C08G73/10 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/022 , G03F7/40
Abstract: 本発明によれば、1又は2以上のテトラカルボン酸二無水物と、互いにオルト位にあるアミノ基及びフェノール性水酸基を有する1又は2以上の芳香族ジアミンとが、脱水縮合した構造を有する(A)重縮合物100質量部に対して、(B)感光性ジアゾナフトキノン化合物1〜100質量部を含み、(A)重縮合物の重量平均分子量が3000〜70000である、感光性樹脂組成物が提供される。
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公开(公告)号:JP5290686B2
公开(公告)日:2013-09-18
申请号:JP2008248842
申请日:2008-09-26
Applicant: 旭化成イーマテリアルズ株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/027 , G03F7/40 , H01L21/027
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition capable of forming a surface protection film and an inter-layer insulation film with excellent flatness owing to a high film remaining ratio after a heat treatment. SOLUTION: The photosensitive resin composition contains (a) 100 pts.mass of an alkaline soluble resin having at least one repeating unit selected from the group consisting of formula (1) and a specific polyamide residue having a hydroxy group, (b) 0.01-20 pts.mass of a compound to generate an acid by irradiation with radiation, (c) 0.1-50 pts.mass of a compound having a group crosslinkable by an acid, and (d) 10-500 pts.mass of a compound having a (meth)acryloyl group. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
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公开(公告)号:JP4937745B2
公开(公告)日:2012-05-23
申请号:JP2006529021
申请日:2005-07-11
Applicant: 旭化成イーマテリアルズ株式会社
CPC classification number: G03F7/0757 , C08G73/14 , G03F7/0387 , G03F7/0388
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6.
公开(公告)号:JP4646068B2
公开(公告)日:2011-03-09
申请号:JP2005286893
申请日:2005-09-30
Applicant: 国立大学法人東京工業大学 , 旭化成イーマテリアルズ株式会社
IPC: G03F7/039
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