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公开(公告)号：JP2021069990A
公开(公告)日：2021-05-06
申请号：JP2019198781
申请日：2019-10-31
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 【課題】耐薬品性が高く、長期安定性に優れるフッ素系ポリマーをガス分離性ポリマー素材として用いながら、分離係数及び透過係数の高い、ガス分離膜を提供すること。 【解決手段】多孔性支持体と、前記多孔性支持体上に配置されたガス分離活性層とを有するガス分離膜であって、前記ガス分離活性層が、テトラフルオロエチレンとパーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソールとのコポリマーであるポリマーA、及びフッ素原子と水素原子とを含むポリマーBを含む、ガス分離膜。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2021190714A
公开(公告)日：2021-12-13
申请号：JP2021090662
申请日：2021-05-28
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 【課題】直線性に優れた金属配線を有する構造体及びその製造方法を提供する。 【解決手段】基材と、前記基材上に配置された金属配線とを有する構造体であって、前記金属配線の表面に、0.3μm 2 以上700μm 2 以下の開口面積を有する孔が存在し、前記金属配線の表面の面積に対する、前記0.3μm 2 以上700μm 2 以下の開口面積を有する孔の面積割合が0.5%以上70%以下である構造体、及び当該構造体の製造方法が提供される。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2021190594A
公开(公告)日：2021-12-13
申请号：JP2020095645
申请日：2020-06-01
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 【課題】均一な抵抗値の金属配線を容易に得ることができる構造体、金属配線の製造方法、及び金属配線製造装置を提供する。 【解決手段】一態様において、基材と、前記基材が構成する面の上に配置された金属及び/又は金属酸化物を含む膜とを含み、前記金属及び/又は金属酸化物を含む膜に波長532nmの光線を照射したときの光線の侵入長が0.25μm以上10.00μm以下である、構造体が提供される。また、一態様において、金属及び/又は金属酸化物を含む膜に侵入長0.25μm以上10.00μm以下で光線を照射することを含む、金属配線の製造方法、及び金属配線製造装置が提供される。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2021180303A
公开(公告)日：2021-11-18
申请号：JP2021071714
申请日：2021-04-21
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 【課題】低抵抗で再現性が良好な配線を製造可能であるとともに、配線製造時の省スペース化及び低コスト化を可能とする、配線の製造方法及び配線製造装置の提供。 【解決手段】基材に金属及び/又は金属酸化物を含む塗布液を塗布する塗布工程と、前記塗布液が塗布された基材を乾燥して金属及び/又は金属酸化物を含む膜を形成する乾燥工程と、前記金属及び/又は金属酸化物を含む膜が形成された基材を、窓部を有する試料室に収容する収容工程と、前記試料室に不活性ガスを導入するガス導入工程と、前記試料室の前記窓部を介してレーザ光を照射することによって、前記金属及び/又は金属酸化物を含む膜の少なくとも一部を焼成して配線を形成する焼成工程と、を含む、配線の製造方法。 【選択図】図1
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2019118860A
公开(公告)日：2019-07-22
申请号：JP2017253942
申请日：2017-12-28
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 【課題】高純度の希ガスを効率的に製造するための希ガス分離膜の提供。 【解決手段】多孔質膜の上に分離活性層が配置された希ガス分離膜であって、該分離活性層が、Co、Cu、Zn、及びAlから成る群から選ばれる少なくとも一種の金属を含有するMOF(Metal Organic Framework)を含有することを特徴とする希ガス分離膜、該希ガス分離膜を含む分離膜ユニットを具備する希ガス精製装置を用いて、50%以上99%以下の純度の希ガスを含む原料ガスを、純度99.9%以上の希ガスに精製する方法、並びに該方法により得られる純度99.995%以上のヘリウムガス。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2021069985A
公开(公告)日：2021-05-06
申请号：JP2019198654
申请日：2019-10-31
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 【課題】分離係数を低下させることなく、透過係数が向上された、ガス分離膜を提供すること。 【解決手段】多孔性支持体10と、多孔性支持体10の表面上のガス分離活性層20とを有するガス分離膜100であって、ガス分離活性層20には2種のポリマーが含まれており、これら2種のポリマーは、弾性率が異なり、弾性率が低い低弾性率ポリマ及び弾性率が高い高弾性率ポリマーから成り、低弾性率ポリマーと高弾性率ポリマーとの合計を100質量%とし、ガス分離活性層20を、表面側から、厚みtの0%以上50%未満の範囲の上側部分20aと、厚みtの50%以上100%以下の範囲の下側部分20bとに2分割したとき、上側部分20aに含まれる低弾性率ポリマーの比率U1(質量%)と下側部分20bに含まれる低弾性率ポリマーの比率L1(質量%)との比で表される弾性率偏在度(U1/L1)が、0.7以下又は1.3以上である、ガス分離膜100。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2019118859A
公开(公告)日：2019-07-22
申请号：JP2017253925
申请日：2017-12-28
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 【課題】高純度の希ガスを製造するための希ガス分離膜の提供。 【解決手段】多孔質膜の上に分離活性層を配置する希ガス分離膜であって、該分離活性層が、Zr、Fe、Cr、Zn、Cu、及びPdから成る群から選ばれる少なくとも一種の金属を含有するMOF(Metal Organic Framework)を含有することを特徴とする希ガス分離膜、及び希ガス分離膜を用いた実用に適用可能な純度のキセノンの製造方法。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2019013885A
公开(公告)日：2019-01-31
申请号：JP2017133452
申请日：2017-07-07
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: B01D53/22 , B01D69/10 , B01D71/32 , B01D71/34 , B01D71/60 , B01D69/08 , B01D71/08 , B01D71/82 , B01D63/00
Abstract: 【課題】複数の基材膜の端部の固定において、該基材膜の表面の被覆材と同一の被覆材で接着部を被覆することにより接着部の耐久性を向上せしめた分離膜モジュールの提供。 【解決手段】複数の基材膜の端部が接着部により固定された分離膜モジュールであって、該基材膜の表面と該接着部の表面がいずれも同一の被覆層で覆われていることを特徴とする前記分離膜モジュール、及び該分離膜モジュールを用いた気体分離システム。 【選択図】図1
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