公开(公告)号：JP2014194534A

公开(公告)日：2014-10-09

申请号：JP2014030830

申请日：2014-02-20

申请人： Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

发明人： KATAOKA SHOHEI ,  SHIBUYA AKINORI ,  FUKUHARA TOSHIAKI ,  FURUYA SO ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07C311/51 ,  C08F20/18 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/038 ,  C07C25/18 ,  C07C233/04 ,  C07C235/88 ,  C07C311/03 ,  C07C311/06 ,  C07C311/51 ,  C07C311/53 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D333/76 ,  C07D411/06 ,  C08F220/26 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/325 ,  H01L21/0275

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method, a photosensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film and a compound, a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device, which exhibit high roughness performance and defocusing performance in the formation of an ultrafine pattern (particularly a trench pattern or a hole pattern in a size of 50 nm or less), and excellent resolution and exposure latitude.SOLUTION: The pattern forming method includes steps of (1) forming a film comprising the following photosensitive or radiation-sensitive resin composition, (2) exposing the film, and (3) developing the film with an organic solvent-containing developer to form a negative pattern. The photosensitive or radiation-sensitive resin composition comprises a compound (A) expressed by general formula (I-1), a compound (B) which is different from the compound (A) and generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation, and a resin (P) which does not react with an acid generated from the compound (A) but shows decrease in the solubility with an organic solvent-containing developer by an action of an acid from the compound (B). Also disclosed are the photosensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film, the compound (A), a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device.

摘要翻译： 要解决的问题：为了提供图案形成方法，感光性或辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜和化合物，电子器件的制造方法和电子器件，其具有高的粗糙度性能和散焦性能 超细图案（特别是50nm以下的沟槽图案或孔图案）的形成，以及优异的分辨率和曝光宽容度。图案形成方法包括以下步骤：（1）形成包含以下 感光或辐射敏感性树脂组合物，（2）曝光该膜，和（3）用含有机溶剂的显影剂显影该膜以形成负型图案。 光敏或辐射敏感性树脂组合物包含由通式（I-1）表示的化合物（A），与化合物（A）不同的化合物（B）），并通过用光化射线或辐射照射产生酸， 和不与化合物（A）产生的酸反应的树脂（P），但是通过化合物（B）的酸作用，与含有机溶剂的显影剂的溶解度降低。 还公开了光敏或辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜，化合物（A），电子器件的制造方法和电子器件。

公开(公告)号：JP2014232310A

公开(公告)日：2014-12-11

申请号：JP2014077794

申请日：2014-04-04

申请人： 富士フイルム株式会社 ,  Fujifilm Corp

发明人： FURUYA SO ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  GOTO AKIYOSHI ,  KOJIMA MASASHI

IPC分类号： G03F7/32 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322

摘要： 【課題】本発明は、微細なラインアンドスペースパターンやホールパターンの形成に好適に適用でき、膜べりが抑制されたパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する樹脂を少なくとも含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に膜を形成する工程(1)と、膜を露光する工程(2)と、露光された膜を現像して、パターンを形成する工程(3)とを備え、工程(3)が、水を含む現像液による工程A、及び、有機溶剤を含む現像液による工程Bのうちいずれか一方の工程を実施して、その後他方の工程を実施する工程であり、有機溶剤を含む現像液中に、イオン結合、水素結合、化学結合および双極子相互作用のうちの少なくとも1つの相互作用を、極性基と形成する添加剤が含まれる、パターン形成方法。【選択図】なし

摘要翻译： 要解决的问题：提供适合于形成微细线间距图案或孔图案并抑制薄膜变薄的图案形成方法。解决方案：图案形成方法包括：步骤（1） 通过使用至少包含通过酸作用分解产生极性基团的树脂的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物在基材上形成膜; 曝光胶片的步骤（2）; 以及通过显影曝光的膜形成图案的步骤（3）。 在步骤（3）中，进行用含有显影液的显影液显影薄膜的步骤A或用含有机溶剂的显影液显影薄膜的步骤B，然后进行另一步骤。 包含有机溶剂的显影溶液含有与极性基团一起形成至少一种选自离子键，氢键，化学键和偶极相互作用的相互作用的添加剂。

公开(公告)号：JP2014149409A

公开(公告)日：2014-08-21

申请号：JP2013017949

申请日：2013-01-31

申请人： Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

发明人： YAMAGUCHI SHUHEI ,  TOMIGA TAKAMITSU ,  YOSHINO FUMIHIRO ,  FURUYA SO ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  FUJITA MITSUHIRO

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C311/48 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/16 ,  C07D409/02 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/325

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method by which excellent roughness performance, local pattern dimension uniformity and exposure latitude are achieved and film reduction in a pattern part can be suppressed, and to provide a compound, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the method, and a method for manufacturing an electronic device.SOLUTION: An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a resin having a group that is decomposed under the action of an acid, and generating a polar group, (C1) a compound having a group generating a first acidic functional group by the application of an active ray or a radiation ray, and a group generating a second acidic functional group different from the first acidic functional group by the application of an active ray or a radiation ray, and (C2) a compound having two or more groups selected from groups generating a structure represented by general formulae (a), (b), (c), and (d) by the application of an active ray or a radiation ray.

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种图案形成方法，通过该图案形成方法能够实现优异的粗糙度性能，局部图案尺寸均匀性和曝光宽容度，并且可以抑制图案部分中的膜还原，并提供化合物，光化射线敏感或辐射 敏感性树脂组合物和用于该方法的抗蚀剂膜以及电子器件的制造方法。解决方案：光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物含有（A）具有在动作下分解的基团的树脂 的酸，并且产生极性基团，（C1）具有通过施加活性射线或辐射线产生第一酸性官能团的基团的化合物，以及产生与第一酸性官能团不同的第二酸性官能团的基团 通过施加活性射线或放射线的官能团，和（C2）具有两个或更多个选自产生由基因表示的结构的基团的基团的化合物 （a），（b），（c）和（d）通过施加活性射线或放射线。

公开(公告)号：JP2017116880A

公开(公告)日：2017-06-29

申请号：JP2015255178

申请日：2015-12-25

申请人： 富士フイルム株式会社 ,  Fujifilm Corp

发明人： TANAKA TAKUMI ,  FURUYA SO ,  GOTO AKIYOSHI

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F20/18 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

摘要： 【課題】本発明の目的は、ラフネス特性に優れ、且つ、塗布欠陥の発生を抑制可能である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、それを用いたパターン形成方法を提供することにある。【解決手段】感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、(A)少なくとも2つのラクトン構造を有する繰り返し単位を含有する樹脂、及び、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物であり、前記化合物のフッ素原子の含有率は、前記化合物に含まれる全原子の質量の合計に対して、0以上0.20以下である化合物を含有している。【選択図】なし

公开(公告)号：JP2015055844A

公开(公告)日：2015-03-23

申请号：JP2013190735

申请日：2013-09-13

申请人： 富士フイルム株式会社 ,  Fujifilm Corp

发明人： ENOMOTO YUICHIRO ,  UEHA RYOSUKE ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  FURUYA SO ,  GOTO AKIYOSHI ,  KOJIMA MASASHI

IPC分类号： G03F7/32 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/405 ,  G03F7/20 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0273

摘要： 【課題】パターンに処理剤を作用させる(いわゆる、シュリンク工程を実施する)ことによりパターンの微細化を図るパターン形成方法において、上記パターンの微細化に優れることにより、超微細のスペース幅(例えば60nm以下)を有するラインアンドスペースパターンを確実に形成でき、かつ、該ラインアンドスペースパターンを、シュリンク工程が適用された後におけるラフネス性能が優れた状態で形成可能なパターン形成方法及びそれに用いられる処理剤、並びに、電子デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】 (1)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて、膜を形成する工程、(2)前記膜を、活性光線又は放射線により露光する工程、(3)前記膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像して被処理パターンを形成する工程、及び、(4)前記被処理パターンに対し、1級アミノ基及び2級アミノ基の少なくともいずれかを有する化合物(x)を含む処理剤を作用させて、処理済パターンを得る工程を含む、パターン形成方法、及びそれに用いられる処理剤、並びに、電子デバイスの製造方法。【選択図】なし

摘要翻译： 要解决的问题：为了提供用于该方法的图案形成方法和处理剂，通过该图案形成方法和处理剂，可以在图案对处理剂的作用进行图案化处理（可以进行所谓的“ 所谓收缩处理），从而可以获得更细的图案，从而可以可靠地形成具有超微细空间宽度（例如60nm以下）的线间距图案，并且经受 可以形成具有优异的粗糙度性能的收缩工艺，并提供一种电子器件的制造方法。解决方案：图案形成方法包括以下步骤：（1）通过使用光化学敏感或辐射敏感的膜形成膜 树脂组合物，其包含通过酸的作用显示极性增加的树脂和与含有机溶剂的显影液的溶解度降低的树脂组合物; （2）将膜暴露于光化射线或辐射; （3）通过使用含有有机溶剂的显影液形成通过显影膜来处理的图案; 和（4）使含有具有伯氨基和仲氨基中的至少一种的化合物（x）的处理剂作用于待处理的图案上，以获得处理图案。 处理剂以上述图案形成方法使用; 并且电子设备的制造方法包括上述图案形成方法。

公开(公告)号：JP2015045836A

公开(公告)日：2015-03-12

申请号：JP2014007907

申请日：2014-01-20

申请人： 富士フイルム株式会社 ,  Fujifilm Corp

发明人： ENOMOTO YUICHIRO ,  UEHA RYOSUKE ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  FURUYA SO ,  GOTO AKIYOSHI ,  KOJIMA MASASHI

IPC分类号： G03F7/38 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/26 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  G03F7/405 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/0274

摘要： 【課題】パターントップ部の平坦性や二重現像時のパターン残存性に優れたパターンを形成できるパターン形成方法及びそれに用いられる表面処理剤、並びに、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。【解決手段】 (1)酸の作用により分解して極性基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物により感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程、(2)前記感活性光線性又は感放射線性膜を露光する工程、(4A)前記感活性光線性又は感放射線性膜に対して、露光後の樹脂が有する極性基と相互作用する化合物を含有する表面処理剤を作用させる工程、及び、(5A)有機溶剤を含む現像液を用いて前記感活性光線性又は感放射線性膜を現像する工程、をこの順に含むパターン形成方法。【選択図】図1

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种图案形成方法，通过该图案形成方法可以形成具有优异的图案顶部的平坦度和双重显影中的图案残留特性的图案，用于该方法的表面处理剂，电子装置的制造方法， 和电子器件。解决方案：图案形成方法按以下顺序包括：（1）从含有树脂的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成光化射线敏感或辐射敏感膜的步骤 其被酸的作用分解以产生极性基团; （2）曝光光化射线敏感或辐射敏感膜的步骤; （4A）使曝光后的光化射线敏感膜或放射线敏感膜受到包含与包含在树脂中的极性基团相互作用的化合物的表面处理剂的作用的步骤; 和（5A）通过使用含有机溶剂的显影液来显影光化射线敏感性或辐射敏感性膜的步骤。

公开(公告)号：JP2014235179A

公开(公告)日：2014-12-15

申请号：JP2013114502

申请日：2013-05-30

申请人： 富士フイルム株式会社 ,  Fujifilm Corp

发明人： FURUYA SO ,  GOTO AKIYOSHI ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  YOSHITOME MASAHIRO

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322

摘要： 【課題】線幅バラツキ(LWR)が小さく、更には膜べりが低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、この方法に好適に用い得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び感活性光線性又は感放射線性膜を提供すること。また、このパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供すること。【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解度が減少する樹脂、溶剤、及び、前記樹脂中の極性基とイオン結合を形成する成分を発生する化合物を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布して感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程、前記感活性光線性又は感放射線性膜を露光する工程、及び、有機溶剤を含む現像液を用いて露光した前記感活性光線性又は感放射線性膜を現像し、ネガ型パターンを形成する工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。【選択図】なし

摘要翻译： 要解决的问题：为了提供一种图案形成方法，通过该图案形成方法可以以较小的线宽波动范围（LWR）和较小的膜还原程度形成图案，以提供光化学敏感或辐射敏感树脂 组合物和适用于上述方法的光化射线敏感或辐射敏感膜，以及提供一种包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法和电子器件。解决方案：图案形成方法包括以下步骤： ：通过在基材上施加光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，形成光化射线敏感或辐射敏感膜，其包含通过酸，溶剂的作用显示出与有机溶剂的溶解度降低的树脂 和在树脂中产生与极性基团形成离子键的成分的化合物; 暴露光化射线敏感或辐射敏感膜; 以及通过使用包含有机溶剂的显影剂显影曝光的光化射线敏感或辐射敏感膜以形成负型图案。

公开(公告)号：JP2014219487A

公开(公告)日：2014-11-20

申请号：JP2013097185

申请日：2013-05-02

申请人： 富士フイルム株式会社 ,  Fujifilm Corp

发明人： KOJIMA MASASHI ,  GOTO AKIYOSHI ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  FURUYA SO ,  SHIBUYA AKINORI

IPC分类号： G03F7/32 ,  C08F20/18 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/2053

摘要： 【課題】本発明は、微細かつ高アスペクト比のパターンを形成した際にもパターンの倒れが抑制されたパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を少なくとも含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に膜を形成する工程と、膜を露光する工程と、露光された膜を、有機溶剤を含む現像液で現像して、ネガ型パターンを形成する工程とを備え、現像液が、オニウム塩、オニウム塩を有するポリマー、窒素原子を3つ以上含む含窒素化合物、塩基性ポリマー、及び、リン系化合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物Aを含む、パターン形成方法。【選択図】なし

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种图案形成方法，即使在形成细长和高纵横比图案时也能抑制图案的塌陷。解决方案：图案形成方法包括：在基板上形成膜的步骤，使用 至少含有树脂的主动射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其极性由于酸的作用而增加，并且其对包含有机溶剂的显影剂的溶解性降低;以及当用活性射线或辐射照射时产生酸的化合物 ; 揭露电影的一个步骤; 以及通过使用含有有机溶剂的显影剂显影曝光膜来形成负型图案的步骤。 显影剂包括至少一种选自由鎓盐，含有鎓盐的聚合物，含有三个以上氮原子的含氮化合物组成的组中的化合物A，碱性聚合物和磷化合物。

公开(公告)号：JP2015179256A

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：JP2015023657

申请日：2015-02-09

申请人： FUJIFILM CORP

发明人： FURUYA SO ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  GOTO AKIYOSHI ,  KOJIMA MASASHI

IPC分类号： G03F7/38 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

摘要： 【課題】現像時間のパターン形成性に対する影響が抑制され、かつ、現像液を所定期間保管した後でも保管前と同様のパターン形成性を示すパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する樹脂を少なくとも含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に膜を形成する工程(1)と、膜を露光する工程(2)と、露光された膜を実質的に溶解させずに、露光された膜中に生じる極性基とイオン結合、水素結合、化学結合および双極子相互作用のうちのいずれかの相互作用をする成分と、露光された膜とを接触させる工程(3)と、露光された膜を有機溶剤を含む現像液を用いて現像し、膜中の露光量の少ない領域を除去して、パターンを形成する工程(4)と、をこの順で有する、パターン形成方法。【選択図】なし