キャリア付銅箔、積層体、積層体の製造方法、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法

    公开(公告)号:JP2018111850A

    公开(公告)日:2018-07-19

    申请号:JP2017002173

    申请日:2017-01-10

    Inventor: 宮本 宣明

    Abstract: 【課題】レーザー穴開け性及び回路形成性が共に良好なキャリア付銅箔を提供する。 【解決手段】キャリアと、中間層と、極薄銅層とをこの順に有するキャリア付銅箔であって、キャリア付銅箔を極薄銅層側からビスマレイミドトリアジン樹脂基板に圧力20kgf/cm 2 、220℃で2時間の条件下で加熱プレスすることで貼り合わせた後、極薄銅層からキャリアを剥がしたとき、 (1)極薄銅層のキャリア側表面において、MD方向の光沢度GMDとTD方向の光沢度GTDとの平均値が390以下であり、MD方向の光沢度GMD及びTD方向の光沢度GTDのうち小さい方の数値が40以上であり、且つ、 (2)キャリアの極薄銅層側表面において、MD方向の光沢度GMDとTD方向の光沢度GTDとのいずれか小さい方の値/MD方向の光沢度GMDとTD方向の光沢度GTDとのいずれか大きい方の値が0.4以上1.0以下であるキャリア付銅箔。 【選択図】図1

    表面処理銅箔、銅張積層板及びプリント配線板

    公开(公告)号:JP2019210521A

    公开(公告)日:2019-12-12

    申请号:JP2018108008

    申请日:2018-06-05

    Abstract: 【課題】絶縁基材との接着性に優れると共に、ファインピッチ化に適した高エッチングファクタの回路パターンを形成することが可能な表面処理銅箔及び銅張積層板を提供する。 【解決手段】銅箔2と、銅箔2の一方の面に形成された第一表面処理層3とを有する表面処理銅箔1である。この表面処理銅箔1の第一表面処理層3は、JIS B0631:2000に基づく粗さモチーフの平均長さARが6〜20μmである。また、銅張積層板10は、表面処理銅箔1と、表面処理銅箔1の第一表面処理層3に接着された絶縁基材11とを備える。 【選択図】図1

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