公开(公告)号：JPWO2015079863A1

公开(公告)日：2017-03-16

申请号：JP2015550621

申请日：2014-10-30

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 虎彦 山口 ,  虎彦 山口 ,  石井　寛之 ,  寛之 石井 ,  猪俣　克巳 ,  克巳 猪俣

IPC: B32B27/18

CPC classification number: B32B7/06 ,  B32B7/12 ,  B32B27/08 ,  B32B27/18 ,  B32B27/308 ,  B32B27/36 ,  B32B37/1284 ,  B32B38/10 ,  B32B43/006 ,  B32B2037/268 ,  B32B2307/748 ,  B32B2457/14 ,  C08G2261/3324 ,  C08G2261/418 ,  C08L53/02 ,  C08L83/04 ,  C09J165/00 ,  H01L21/6835 ,  H01L21/6836 ,  H01L2221/68318 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2221/6834 ,  H01L2221/68381 ,  H01L2221/68386

Abstract: [課題]2層系等の多層系の仮固定材において、基材と接する層に含まれる離型剤が支持体と接する層等の他の層に移行することを防止し、支持体から基材を剥離した際に基材上に残存する仮固定材の量を低減する。[解決手段]支持体上に仮固定材を介して基材が仮固定された積層体であり、前記仮固定材が、前記基材における支持体側の面と接した仮固定材層(I)と、前記層(I)における支持体側の面上に形成された仮固定材層(II)とを有し、仮固定材層(I)が、重合体(A)と、前記重合体(A)と反応して化学結合を形成可能な官能基を有する離型剤(B)とを含有する仮固定用組成物から形成されてなることを特徴とする積層体。

公开(公告)号：JP5184059B2

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：JP2007300350

申请日：2007-11-20

Applicant: Jsr株式会社 ,  ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ.

Inventor： 浩史 宮沢 ,  寛之 石井 ,  孝彦 黒澤

IPC: C08F290/12 ,  G02B6/00

公开(公告)号：JP5107686B2

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：JP2007310056

申请日：2007-11-30

Applicant: Jsr株式会社 ,  ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ.

Inventor： 寛之 石井 ,  孝彦 黒澤 ,  理 加茂

IPC: C08F290/06 ,  G02B6/00

公开(公告)号：JP4232577B2

公开(公告)日：2009-03-04

申请号：JP2003298079

申请日：2003-08-22

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 敦 中村 ,  將史 山本 ,  基之 島 ,  大一 松田 ,  寛之 石井

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4076360B2

公开(公告)日：2008-04-16

申请号：JP2002083930

申请日：2002-03-25

Applicant: Jsr株式会社 ,  ジェイエスアール マイクロ インコーポレイテッド

Inventor： スレザック マーク ,  公康 佐野 ,  寛之 石井 ,  幸生 西村 ,  光雄 黒川

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4158825B2

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：JP2006280503

申请日：2006-10-13

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 英一 小林 ,  寛之 石井 ,  功 西村 ,  幸生 西村

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4144373B2

公开(公告)日：2008-09-03

申请号：JP2003042233

申请日：2003-02-20

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 基之 島 ,  晃雅 征矢野 ,  寛之 石井 ,  英光 石田 ,  幸生 西村

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4048824B2

公开(公告)日：2008-02-20

申请号：JP2002133816

申请日：2002-05-09

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 英一 小林 ,  寛之 石井 ,  功 西村 ,  幸生 西村

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/28 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045

公开(公告)号：JP3975751B2

公开(公告)日：2007-09-12

申请号：JP2002009936

申请日：2002-01-18

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 隆 宮松 ,  敦子 片岡 ,  寛之 石井

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/12 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency for radiation and excellent basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching durability and pattern profile. SOLUTION: The radiation sensitive resin composition contains the following resin (A) and (B) a radiation sensitive acid generator. The resin (A) is an alkali insoluble or alkali hardly soluble resin and changed into alkali-soluble by the action of an acid and the resin is, for example, a mevalonic lactone methacrylate/3-hydroxy-1-adamantyl methacrylate/1-methylcyclopentyl alkali methacrylate copolymer, a mevalonolactone methacrylate/3-hydroxyl-1-adamantyl methacrylate/[1-(2-methyl-2-norbornyl)ethoxycarbonyl]methacrylate copolymer. COPYRIGHT: (C)2003,JPO

公开(公告)号：JP3855770B2

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：JP2001399235

申请日：2001-12-28

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 公康 佐野 ,  英一 小林 ,  寛之 石井 ,  幸生 西村

IPC: G03F7/039 ,  C08F232/04 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency for radiation, excellent basic performances as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching durability, pattern profile, and suitable as a chemical amplification type resist having high resolution property in a fine pattern region. SOLUTION: The radiation-sensitive resin composition contains (A) a resin which contains a norbornene-based repeating unit derived from 5-(2-methyl-2- adamantyl)oxycarbonylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5-(1-methyl-1-cyclopentyl) ocycarbonylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene or the like and a (meth)acrylate-based repeating unit derived from 3-hydroxy-1-adamantyl(meth)acrylate, 1-methyl-1- cyclohexyl(meth)acrylate or the like and which is converted into alkali-soluble by the effect of an acid, and (B) a radiation-sensitive acid generator. COPYRIGHT: (C)2003,JPO