公开(公告)号：JPWO2005114711A1

公开(公告)日：2008-03-27

申请号：JP2006513712

申请日：2005-05-19

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 宮松　隆 ,  隆 宮松 ,  根本　宏明 ,  宏明 根本 ,  勇 王 ,  勇 王

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F7/38

CPC classification number: G03F7/2041

Abstract: 液浸露光方法において、屈折率が大きく、フォトレジスト膜あるいはその上層膜成分の溶出や溶解を防ぎ、レジストパターンの生成時の欠陥を抑えることができる液浸露光用液体およびその液体を用いた液浸露光方法の提供を目的とする。投影光学系のレンズと基板との間に満たされた液体を介して露光する液浸露光装置または液浸露光方法に用いられる液体であって、該液体は、液浸露光装置が作動する温度領域において液状であり、脂環式炭化水素化合物または珪素原子を環構造中に含む環式炭化水素化合物である。

公开(公告)号：JPWO2006080250A1

公开(公告)日：2008-08-07

申请号：JP2007500487

申请日：2006-01-20

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 泰一 古川 ,  泰一 古川 ,  稗田　克彦 ,  克彦 稗田 ,  宮松　隆 ,  隆 宮松 ,  勇 王 ,  勇 王 ,  山田　欣司 ,  欣司 山田

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: 投影光学手段121の光学素子と基板111との間に満たされた液体301を介して露光を行う液浸型露光システム1である。この液浸型露光システム1は、液体301の供給をする液体供給部80と、その液体供給部80から供給をされた液体301(301b)が所定方向に沿って連続的に導入をされ投影光学手段121の光学素子と基板111との間を液体301で満たしながら露光を行う露光処理部110と、その露光処理部110の基板111を挟んだ対称の位置において排出をされた液体301(301a)の回収をする液体回収部90と、液体回収部90で回収をされた液体301(301c)の再生をする液体リサイクル部20と、を有する。液浸法を適用した場合に、液浸型露光用液体の性質を安定させることが出来、良好な露光を継続的に行うことが可能であり、且つランニングコストを抑えることが出来る。

公开(公告)号：JP5609125B2

公开(公告)日：2014-10-22

申请号：JP2010012281

申请日：2010-01-22

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 宮松　隆 ,  隆 宮松 ,  宏文 後藤 ,  宏文 後藤

IPC: C09J201/00 ,  C09J5/00

公开(公告)号：JPWO2004065377A1

公开(公告)日：2006-05-18

申请号：JP2005508025

申请日：2004-01-09

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 宮松　隆 ,  隆 宮松 ,  庭田　弘一 ,  弘一 庭田 ,  江幡　敏 ,  敏 江幡 ,  勇 王 ,  勇 王

IPC: C07D333/46 ,  C07D333/72 ,  C07D333/78 ,  C08F12/14 ,  C08F20/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07D333/72 ,  C07D333/46 ,  C07D333/78 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/123

Abstract: 波長220nm以下での透明性に優れ、かつ感放射線性酸発生剤としたとき、感度、解像度、パターン形状、LER、保存安定性等に優れた性能を発現しうるスルホニウム塩化合物、並びに当該化合物を感放射線性酸発生剤とするポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。スルホニウム塩化合物は一般式(1)で表される。〔但し、R1はハロゲン原子、アルキル基、1価の脂環式炭化水素基、アルコキシル基、−OR3基(但し、R3は1価の脂環式炭化水素基。)等を示し、R2は(置換)アルキル基を示すか、2個以上のR2が相互に結合して環構造を形成し、pは0〜7、qは0〜6、nは0〜3であり、X−はスルホン酸アニオンを示す。〕ポジ型感放射線性樹脂組成物は、(A)該スルホニウム塩化合物からなる感放射線性酸発生剤および(B)酸解離性基含有樹脂を含有する。

公开(公告)号：JP4798013B2

公开(公告)日：2011-10-19

申请号：JP2007024161

申请日：2007-02-02

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 隆 宮松 ,  欣司 山田

IPC: G02B3/14 ,  G02B7/28 ,  G02B13/00 ,  G02B26/00

公开(公告)号：JP5471183B2

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：JP2009201325

申请日：2009-09-01

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 隆 宮松 ,  宏文 後藤

IPC: C09J129/14 ,  C08F8/44 ,  C08F216/06 ,  C08F216/38 ,  C08F218/04 ,  C08F218/14 ,  C09J129/04 ,  C09J131/02 ,  C09J131/06

公开(公告)号：JP4154826B2

公开(公告)日：2008-09-24

申请号：JP2000028442

申请日：2000-02-04

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 努 下川 ,  隆 宮松 ,  晃雅 征矢野 ,  徹 梶田 ,  克次 銅木

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP5531864B2

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：JP2010195997

申请日：2010-09-01

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 誠一郎 高橋 ,  隆 宮松 ,  宏文 後藤

IPC: C09J5/00 ,  C09J11/06 ,  C09J201/00

公开(公告)号：JP4051963B2

公开(公告)日：2008-02-27

申请号：JP2002054883

申请日：2002-02-28

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 隆 宮松 ,  明夫 斉藤 ,  寛之 石井 ,  幸生 西村

IPC: C08F220/28 ,  G03F7/039 ,  C08F220/18 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP3760952B2

公开(公告)日：2006-03-29

申请号：JP2005508025

申请日：2004-01-09

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 隆 宮松 ,  弘一 庭田 ,  敏 江幡 ,  勇 王

IPC: C07D333/46 ,  C07D333/72 ,  C07D333/78 ,  C08L33/06 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC classification number: C07D333/72 ,  C07D333/46 ,  C07D333/78 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/123