-
公开(公告)号：JPWO2012077546A1
公开(公告)日：2014-05-19
申请号：JP2012547799
申请日：2011-11-30
Inventor： 多田羅 了嗣 , 了嗣 多田羅 , 優 木村 , 優 木村 , 健 糸見 , 健 糸見 , 育代 神谷 , 育代 神谷 , 充孝 海津 , 充孝 海津 , 丸山 洋一郎 , 洋一郎 丸山 , 鈴木 義信 , 義信 鈴木 , 中村 和洋 , 和洋 中村 , 拓 柴田 , 拓 柴田 , 泰三 金山 , 泰三 金山 , 哲徳 菅原 , 哲徳 菅原
CPC classification number: C07C13/64 , C08G61/08 , C08G2261/3324 , C08G2261/418
Abstract: 屈折率およびabbe数が高く、溶媒への溶解性を有し、光学材料用途に有用な環状オレフィン開環重合体、およびその水素化体、また、ゴム質重合体に代表される配合剤を分散しうるその水素化体組成物であり、その環状オレフィン開環重合体は、シクロペンタジエンの3〜5量体を含む環状オレフィン単量体混合物を開環共重合させて得られ、シクロペンタジエンの3〜5量体が、幾何異性体(2)としてn=1〜3のそれぞれの場合における化合物を55%以上含んでいる。
-
公开(公告)号：JPWO2009069548A1
公开(公告)日：2011-04-14
申请号：JP2009543775
申请日：2008-11-21
IPC: G02B6/12
CPC classification number: C08F290/06 , C08F265/04 , C08F290/061 , C08F290/067 , C08F299/00 , C08G18/672 , C08L51/003 , G02B6/1221 , G02B6/138 , C08L2666/02
Abstract: 【課題】屈曲耐久性及び透明性に優れたフィルム状光導波路を提供する。【解決手段】フィルム状光導波路1は、下部クラッド層15、コア部分22、中間クラッド層36、及び上部クラッド層33からなる。下部クラッド層15及び上部クラッド層33は、光硬化性樹脂組成物の固形分を100質量%として、(A)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー30〜80質量%、(B)反応性希釈モノマー15〜69質量%、及び(C)光重合開始剤0.1〜10質量%を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。中間クラッド層36は、光硬化性樹脂組成物の固形分を100質量%として、(a)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー5〜80質量%、(b)反応性希釈モノマー1〜40質量%、(c)光重合開始剤0.1〜10質量%、及び(d)エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体15〜75質量%を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。【選択図】図1
-
公开(公告)号：JPWO2006075487A1
公开(公告)日：2008-06-12
申请号：JP2006552870
申请日：2005-12-20
IPC: C01B33/18 , C09D7/12 , C09D201/00 , G02B1/11
CPC classification number: C01B33/124
Abstract: 下記式(1)で表されるケイ素化合物及び下記式(2)で表されるケイ素化合物の加水分解物及び/又は加水分解縮合物からなり、平均粒径が5〜50nmである多孔質シリカ微粒子及びその製造方法を提供する。R1mSiX4−m・・・(1)R2nSiX4−n・・・(2)(R1は炭素数1〜8のアルキル基、Xはそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルコキシ基、ハロゲノ基、イソシアネート基(−N=C=O)、カルボキシル基、炭素数2〜4のアルキルオキシカルボキシル基又は炭素数1〜4のアルキルアミノ基、mは0〜1の整数を示す。R2は炭素数2〜8のアルケニル基、炭素数4〜8のアクリロキシアルキル基又は炭素数5〜8のメタクリロキシアルキル基、nは1〜3の整数を示す。尚、式(1)のXと式(2)のXは、同一であっても異なっていてもよい)
-
公开(公告)号：JPWO2006070707A1
公开(公告)日：2008-06-12
申请号：JP2006550736
申请日：2005-12-26
Inventor： 多田羅 了嗣 , 了嗣 多田羅 , 加藤 仁史 , 仁史 加藤 , 健介 宮尾 , 健介 宮尾 , 山田 康晴 , 康晴 山田 , 八代 隆郎 , 隆郎 八代 , 孝彦 黒澤 , 孝彦 黒澤
IPC: C08F299/08 , G02B1/10 , G02B1/11
CPC classification number: G02B1/111 , C08F214/18 , C08F283/12 , C08F290/148 , C08F299/00 , C08L51/085 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B1/14 , C08L2666/02
Abstract: 下記成分(A)及び(B1):(A)エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、(B1)下記式(1)で表されるケイ素化合物及び(2)で表されるケイ素化合物の加水分解物及び/又は加水分解縮合物からなり、平均粒径が5〜50nmである多孔質シリカ粒子R1hSiX4−h・・・(1)R2jSiX4−j・・・(2)(R1は炭素数1〜8のアルキル基、Xはそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルコキシ基、ハロゲノ基、イソシアネート基(−N=C=O)、カルボキシル基、炭素数2〜4のアルキルオキシカルボニル基又は炭素数1〜4のアルキルアミノ基、hは0〜1の整数を示す。R2は炭素数2〜8のアルケニル基、炭素数4〜8のアクリロキシアルキル基又は炭素数5〜8のメタクリロキシアルキル基、jは1〜3の整数を示す。尚、式(1)のX及び式(2)のXは同一であっても異なっていてもよい)を含む耐擦傷性及び耐汚染性に優れた反射防止膜。
-
-
Patent Agency Ranking
-
-
8.发明专利
公开(公告)号：JP4620705B2
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：JP2007114261
申请日：2007-04-24
Applicant: Jsr株式会社 , 日本特殊コーティング株式会社
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocurable liquid composition exhibiting excellent fluidity and photocurability, even if the filling rate of ceramic to a mixture of ceramic powder or the like and a binder composition is increased; and easily fabricating a desired 3D article using the stereolithography. SOLUTION: A photocurable liquid composition 1 contains the following components (A), (B), (C) and (D), does not contain solvent, and is produced by the stereolithography. (A) is 1 to 20% by weight of an ethylene unsaturated monomer. (B) is 0.01 to 10% by weight of a photopolymerization initiator. (C) is 0.4 to 5% by weight of a comb-shaped organic polymer having a polar group. And (D) is 75 to 95% by weight of an inorganic fine particle. A fired ceramic product can be obtained by firing the 3D article made of a cured product 6 of the photocurable liquid composition 1. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
-
公开(公告)号：JP5343738B2
公开(公告)日：2013-11-13
申请号：JP2009157953
申请日：2009-07-02
Applicant: Jsr株式会社
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive photosensitive composition for a solid state imaging device which is superior in developability and in pattern formation, produces highly refractive cured film, and forms a pattern with ease. SOLUTION: The resin composition includes: (A) at least one selected from a polyamic acid with a predetermined structure and an imidized polymer of the polyamic acid with the predetermined structure; (B) particles including an oxide of an element of the fourth group of the periodic table as a main component and having a particle size of 1-100 nm measured with dynamic light scattering; (C) a quinone diazide compound; and (D) an organic solvent, wherein the content of (C) the quinone diazide compound is in the range of 10-40 wt.% when the sum total of components in the composition excluding (D) the organic solvent is set to 100 wt.%. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
-
公开(公告)号：JP5327053B2
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：JP2009543775
申请日：2008-11-21
Applicant: Jsr株式会社
CPC classification number: C08F290/06 , C08F265/04 , C08F290/061 , C08F290/067 , C08F299/00 , C08G18/672 , C08L51/003 , G02B6/1221 , G02B6/138 , C08L2666/02
Abstract: Disclosed is a film-shaped optical waveguide having excellent bending durability and transparency. Specifically disclosed is a film-shaped optical waveguide (1) comprising a lower cladding layer (15), a core portion (22), an intermediate cladding layer (36) and an upper cladding layer (33). The lower cladding layer (15) and the upper cladding layer (33) are made of a cured product of a photocurable resin composition which contains, when the solid content of the photocurable resin composition is taken as 100% by mass, 30-80% by mass of a urethane (meth)acrylate oligomer (A), 15-69% by mass of a reactive diluted monomer (B) and 0.1-10% by mass of a photopolymerization initiator (C). The intermediate cladding layer (36) is made of a cured product of a photocurable resin composition which contains, when the solid content of the photocurable resin composition is taken as 100% by mass, 5-80% by mass of a urethane (meth)acrylate oligomer (a), 1-40% by mass of a reactive diluted monomer (b), 0.1-10% by mass of a photopolymerization initiator (c) and 15-75% by mass of a vinyl polymer (d) having an ethylenically unsaturated group.
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
21
records
(took 0.02 seconds)
