公开(公告)号：JPWO2006070707A1

公开(公告)日：2008-06-12

申请号：JP2006550736

申请日：2005-12-26

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 多田羅　了嗣 ,  了嗣 多田羅 ,  加藤　仁史 ,  仁史 加藤 ,  健介 宮尾 ,  健介 宮尾 ,  山田　康晴 ,  康晴 山田 ,  八代　隆郎 ,  隆郎 八代 ,  孝彦 黒澤 ,  孝彦 黒澤

IPC: C08F299/08 ,  G02B1/10 ,  G02B1/11

CPC classification number: G02B1/111 ,  C08F214/18 ,  C08F283/12 ,  C08F290/148 ,  C08F299/00 ,  C08L51/085 ,  G02B1/105 ,  G02B1/11 ,  G02B1/14 ,  C08L2666/02

Abstract: 下記成分(A)及び(B1):(A)エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、(B1)下記式(1)で表されるケイ素化合物及び(2)で表されるケイ素化合物の加水分解物及び/又は加水分解縮合物からなり、平均粒径が5〜50nmである多孔質シリカ粒子R1hSiX4−h・・・(1)R2jSiX4−j・・・(2)(R1は炭素数1〜8のアルキル基、Xはそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルコキシ基、ハロゲノ基、イソシアネート基(−N=C=O)、カルボキシル基、炭素数2〜4のアルキルオキシカルボニル基又は炭素数1〜4のアルキルアミノ基、hは0〜1の整数を示す。R2は炭素数2〜8のアルケニル基、炭素数4〜8のアクリロキシアルキル基又は炭素数5〜8のメタクリロキシアルキル基、jは1〜3の整数を示す。尚、式(1)のX及び式(2)のXは同一であっても異なっていてもよい)を含む耐擦傷性及び耐汚染性に優れた反射防止膜。

公开(公告)号：JPWO2008099811A1

公开(公告)日：2010-05-27

申请号：JP2008558085

申请日：2008-02-12

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 恭志 中川 ,  恭志 中川 ,  洋平 野辺 ,  洋平 野辺 ,  加藤　仁史 ,  仁史 加藤 ,  健二 石附 ,  健二 石附 ,  小久保　輝一 ,  輝一 小久保

IPC: C09D183/06 ,  C07F7/14 ,  C07F7/18 ,  C09D5/25 ,  C23C16/42 ,  H01L21/312

CPC classification number: C07F7/1844 ,  C07F7/184 ,  C07F7/1868 ,  C08G77/50 ,  C09D4/00 ,  C23C16/401 ,  C23C16/56 ,  H01B3/46 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/31633 ,  C08G77/00 ,  C08G77/04

Abstract: ケイ素含有膜形成用材料は、下記一般式(1)で表される少なくとも1種の有機シラン化合物を含む。【化1】・・・・・(1)(式中、R1〜R6は、同一または異なり、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ビニル基、フェニル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アセトキシ基、フェノキシ基、またはアルコキシ基を示し、かつR1〜R6の少なくとも一つは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アセトキシ基、フェノキシ基、またはアルコキシ基であり、nは0〜3の整数を示す。)

公开(公告)号：JPWO2006132180A1

公开(公告)日：2009-01-08

申请号：JP2007520090

申请日：2006-06-05

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 下村　宏臣 ,  宏臣 下村 ,  板井　信吾 ,  信吾 板井 ,  良介 飯沼 ,  良介 飯沼 ,  哲也 山村 ,  哲也 山村 ,  加藤　仁史 ,  仁史 加藤 ,  英一郎 漆原 ,  英一郎 漆原 ,  健介 宮尾 ,  健介 宮尾 ,  孝彦 黒澤 ,  孝彦 黒澤

IPC: B32B27/18 ,  B32B7/02 ,  B32B27/30 ,  C08F290/12 ,  G02B1/11 ,  G02B1/111 ,  G02B1/14 ,  G02B1/16

CPC classification number: G02B1/111 ,  B32B27/08 ,  B32B2307/21 ,  B32B2307/408 ,  B32B2307/412 ,  B32B2307/536 ,  B32B2307/554 ,  B32B2457/12 ,  B32B2559/00 ,  C08F214/18 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  G02B1/16 ,  G02B1/18

Abstract: 基材と、少なくとも帯電防止層及び低屈折率層が、基材に近い側からこの順に積層されている積層体であって、前記帯電防止層が、下記成分(A)〜(C):(A)リン含有酸化錫粒子、(B)分子内に2以上の重合性不飽和基を有する化合物、(C)313nmにおけるモル吸光係数が5,000L/mol・cm以下である光重合開始剤、を含有する液状硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜層であり、かつ、前記低屈折率層が、(D)フッ素を40質量%以上含有するエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体(E)シリカを主成分とする粒子を含有する液状硬化性樹脂組成物を硬化させてなる硬化膜層である積層体。

公开(公告)号：JPWO2006075487A1

公开(公告)日：2008-06-12

申请号：JP2006552870

申请日：2005-12-20

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 多田羅　了嗣 ,  了嗣 多田羅 ,  加藤　仁史 ,  仁史 加藤 ,  孝彦 黒澤 ,  孝彦 黒澤

IPC: C01B33/18 ,  C09D7/12 ,  C09D201/00 ,  G02B1/11

CPC classification number: C01B33/124

Abstract: 下記式(1)で表されるケイ素化合物及び下記式(2)で表されるケイ素化合物の加水分解物及び/又は加水分解縮合物からなり、平均粒径が5〜50nmである多孔質シリカ微粒子及びその製造方法を提供する。R1mSiX4−m・・・(1)R2nSiX4−n・・・(2)(R1は炭素数1〜8のアルキル基、Xはそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルコキシ基、ハロゲノ基、イソシアネート基(−N=C=O)、カルボキシル基、炭素数2〜4のアルキルオキシカルボキシル基又は炭素数1〜4のアルキルアミノ基、mは0〜1の整数を示す。R2は炭素数2〜8のアルケニル基、炭素数4〜8のアクリロキシアルキル基又は炭素数5〜8のメタクリロキシアルキル基、nは1〜3の整数を示す。尚、式(1)のXと式(2)のXは、同一であっても異なっていてもよい)

公开(公告)号：JP4258646B2

公开(公告)日：2009-04-30

申请号：JP2004173773

申请日：2004-06-11

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 仁史 加藤 ,  晴生 岩沢 ,  安生 松木 ,  道海 王

IPC: C01B33/04 ,  C01B33/02 ,  C01B33/08 ,  C09D4/00 ,  C09D183/16 ,  C23C18/08 ,  C23C18/14 ,  H01L21/208

CPC classification number: C09D183/16 ,  C01B33/08 ,  C09D4/00 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02425 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02576 ,  H01L21/02579 ,  H01L21/02628 ,  C08G77/00

公开(公告)号：JP5170445B2

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：JP2008558085

申请日：2008-02-12

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 恭志 中川 ,  洋平 野辺 ,  仁史 加藤 ,  健二 石附 ,  輝一 小久保

IPC: C09D183/06 ,  C07F7/14 ,  C07F7/18 ,  C09D5/25 ,  C23C16/42 ,  H01L21/312

CPC classification number: C07F7/1844 ,  C07F7/184 ,  C07F7/1868 ,  C08G77/50 ,  C09D4/00 ,  C23C16/401 ,  C23C16/56 ,  H01B3/46 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/31633 ,  C08G77/00 ,  C08G77/04

公开(公告)号：JP5088163B2

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：JP2008036761

申请日：2008-02-19

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 利充 菊池 ,  晃雄 平 ,  仁史 加藤 ,  周一 菅原 ,  英明 高瀬

IPC: C08F290/06 ,  B32B27/30

Abstract: A curing composition, a cured film formed by curing the composition, and a laminate having the cured film are provided to increase refractivity and reflectivity and to improve scratch resistance and antistatic property. A curing composition comprises (A) a particle having a polymerizable unsaturated group, comprising an oxide of at least one element selected from the group consisting of Zn, In, Sn and Sb as a main component and having a median diameter of 65-85 nm; (B) a compound having at least polymerizable unsaturated group, at least one alkylene oxide chain and at least two aromatic rings; and (C) a compound having at least one polymerizable unsaturated group other than (A) and (B).

公开(公告)号：JP3711909B2

公开(公告)日：2005-11-02

申请号：JP2001297106

申请日：2001-09-27

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 仁史 加藤 ,  幸子 岡田 ,  浩司 志保 ,  勇 米倉

IPC: C08K5/06 ,  C08G79/00 ,  C08L85/00 ,  H01L21/316 ,  H01L21/8242 ,  H01L27/108

公开(公告)号：JP5103906B2

公开(公告)日：2012-12-19

申请号：JP2006552870

申请日：2005-12-20

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 了嗣 多田羅 ,  仁史 加藤 ,  孝彦 黒澤

IPC: C01B33/18 ,  C09D7/12 ,  C09D201/00 ,  G02B1/11

CPC classification number: C01B33/124

公开(公告)号：JP5092744B2

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：JP2007520090

申请日：2006-06-05

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 宏臣 下村 ,  信吾 板井 ,  良介 飯沼 ,  哲也 山村 ,  仁史 加藤 ,  英一郎 漆原 ,  健介 宮尾 ,  孝彦 黒澤

IPC: B32B27/18 ,  B32B7/02 ,  B32B27/30 ,  C08F290/12 ,  G02B1/11 ,  G02B1/111 ,  G02B1/14 ,  G02B1/16

CPC classification number: G02B1/111 ,  B32B27/08 ,  B32B2307/21 ,  B32B2307/408 ,  B32B2307/412 ,  B32B2307/536 ,  B32B2307/554 ,  B32B2457/12 ,  B32B2559/00 ,  C08F214/18 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  G02B1/16 ,  G02B1/18