公开(公告)号：JPWO2014046097A1

公开(公告)日：2016-08-18

申请号：JP2014536861

申请日：2013-09-17

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 啓之 仁井 ,  啓之 仁井 ,  憲彦 池田 ,  憲彦 池田 ,  永井　智樹 ,  智樹 永井

IPC: G03F7/004 ,  C07C309/65 ,  C07C309/66 ,  C07C381/12 ,  C08F20/16 ,  G03F7/039

CPC classification number: C07C309/65 ,  C07C309/66 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07D307/79 ,  C07D307/91 ,  C07D333/76 ,  C08F20/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

Abstract: 本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び下記式(1)で表される化合物を含む酸発生剤を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R1は、置換若しくは非置換の炭素数1〜30の1価の炭化水素基又は置換若しくは非置換の環原子数3〜30の1価の複素環基である。R2は、炭素数1〜30のアルカンジイル基又はフッ素数が炭素数よりも小さい炭素数2〜30のフッ素化アルカンジイル基である。Q+は、1価の光分解性有機カチオンである。

Abstract translation: 本发明是一种聚合物，和含有包含具有含有酸解离性基团的结构单元由下式（1）表示的化合物的酸产生光致抗蚀剂组合物。 在下面的式（1）中，R 1是一价烃基或3〜30的取代或未取代的C 1-30取代或未取代的一价的杂环基原子。 R2是烷二基或氟原C1-30为碳原子数2〜30的氟代链烷二基是除了碳原子的数量少。 Q +为一价可光降解的有机阳离子。

公开(公告)号：JPWO2014141979A1

公开(公告)日：2017-02-16

申请号：JP2015505425

申请日：2014-03-05

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 啓之 仁井 ,  啓之 仁井 ,  準人 生井 ,  準人 生井 ,  憲彦 池田 ,  憲彦 池田 ,  永井　智樹 ,  智樹 永井

IPC: G03F7/004 ,  C07C309/19 ,  C07C309/24 ,  C07D309/04 ,  C07D339/08 ,  C08F20/10 ,  C09K3/00 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

CPC classification number: C07C309/19 ,  C07D309/04 ,  C07D339/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

Abstract: 本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生剤を含有し、上記感放射線性酸発生剤が、下記式(1)で表される化合物を含む感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、R1及びR2は、それぞれ独立して、炭素数1〜20の1価の有機基である。R3、R4及びR5は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。これらの有機基は、互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数1〜20の環構造を表してもよい。nは、1〜4の整数である。M+は、1価の放射線分解性オニウムカチオンである。

Abstract translation: 敏感发明，包括具有含有酸解离性基团的结构单元的聚合物，并含有对辐射敏感产酸剂，所述辐射敏感产酸剂，由下式表示的化合物（1） 对辐射敏感的树脂组合物。 在下面的式（1）中，R1和R2各自独立地具有一价有机基团为1〜20个碳原子。 R3，R4和R5各自独立地为单价有机基团氢原子或C 1-20。 这些有机基团可表示1至20个碳原子的与碳原子一起组成以结合这些彼此对齐环结构。 n为1〜4的整数。 M +是一价辐射降解的鎓阳离子。