中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

26 records (took 0.023 seconds)

    フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法
    1.
    发明专利
    フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 有权
    光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法

    公开(公告)号：JPWO2013047536A1

    公开(公告)日：2015-03-26

    申请号：JP2013536309

    申请日：2012-09-25

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

    Inventor： 一樹 笠原 ,  一樹 笠原 ,  憲彦 池田 ,  憲彦 池田

    IPC: G03F7/039 ,  C08F20/24 ,  C08F124/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

    Abstract: 本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有するベース重合体、[B]撥水性重合体、及び[C]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R1は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。R2及びR3は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、ヒドロキシ基若しくは炭素数1〜20の1価の有機基であるか、又はR2及びR3が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数3〜20の環構造を表す。但し、R2とR3が共にヒドロキシ基である場合はない。R4及びR5は、それぞれ独立して、水素原子若しくは炭素数1〜20の1価の有機基であるか、又はR4及びR5が互いに合わせられこれらが結合している炭素原子と共に構成される炭素数3〜20の環構造を表す。

    Abstract translation: 本发明中，[A]具有由下式表示的结构单元（I）的基础聚合物（1），将含有[B]拒水聚合物光致抗蚀剂组合物，和[C]酸产生剂 一。 在下面的式（1）中，R1是氢原子，氟原子，甲基或三氟甲基。 R2和R3各自独立地为氢原子，氟原子，或为羟基的单价有机基团或碳原子数1〜20，或配置一起与R 2和R 3结合它们彼此结合的碳原子 它是3至20个碳原子的环结构的代表。 但是，任何情况下，R 2和R 3均为羟基。 R4和R5各自独立地是，具有其中或者一价有机基团的氢原子或1〜20个碳原子，或R4和R5相互结合它们所连接的碳原子构成的碳原子数 它表示3〜20的环结构。

    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
    6.
    发明专利
    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 有权
    光致抗蚀剂组合物，抗蚀剂图案形成方法，所述聚合物和化合物

    公开(公告)号：JPWO2013133230A1

    公开(公告)日：2015-07-30

    申请号：JP2014503845

    申请日：2013-03-04

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

    Inventor： 恭彦 松田 ,  恭彦 松田 ,  憲彦 池田 ,  憲彦 池田 ,  拡 宮田 ,  拡 宮田

    IPC: G03F7/039 ,  C07C69/54 ,  C08F120/16

    CPC classification number: C07C69/54 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F2220/1891 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    Abstract: 本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位を有する重合体、及び[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R1は、炭素数4〜20の2価の多環の脂環式炭化水素基である。R2は、炭素数3〜20の1価の単環又は多環の脂環式炭化水素基である。R3は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。[A]重合体は、ラクトン構造、環状カーボネート構造及びスルトン構造からなる群より選ばれる少なくとも1種の構造を含む構造単位をさらに有することが好ましい。[A]重合体は、下記式(2)で表される構造単位をさらに有することが好ましい。

    Abstract translation: 本发明是一种含有聚合物[B]具有由[A]下式（1）表示的结构单元酸产生光致抗蚀剂组合物，和。 在下面的式（1）中，R1为碳原子数4〜20的二价多环的脂环式烃基。 R2为单价单环或碳原子数3〜20的多环脂环族烃基。 R3是氢原子，氟原子，甲基或三氟甲基。 [A]所述的聚合物，内酯结构，还具有包含选自优选的环状碳酸酯结构和磺内酯结构组成的组中的至少一种结构的结构单元。 [A]聚合物优选进一步具有下述式（2）表示的结构单元。

    フォトレジスト組成物
    8.
    发明专利
    フォトレジスト組成物 有权

    公开(公告)号：JPWO2012157352A1

    公开(公告)日：2014-07-31

    申请号：JP2013515042

    申请日：2012-04-02

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

    Inventor： 一樹 笠原 ,  一樹 笠原 ,  憲彦 池田 ,  憲彦 池田 ,  浩光 中島 ,  浩光 中島 ,  吉田　昌史 ,  昌史 吉田 ,  雅史 堀 ,  雅史 堀

    IPC: G03F7/039 ,  C08F224/00 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    Abstract: 本発明は、[A]同一又は異なる重合体中に、下記式(1)で表される構造単位(I)及び下記式(2)で表される酸解離性基含有構造単位(II)を有する重合体成分、並びに[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R0は、水素原子、フッ素原子、水酸基又は炭素数1〜20の1価の有機基である。R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、水酸基若しくは炭素数1〜20の1価の有機基であるか、又はR1及びR2が互いに結合してそれらが結合している炭素原子と共に炭素数3〜10の環構造を形成している。R3及びR4は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、水酸基若しくは炭素数1〜20の1価の有機基であるか、又はR3及びR4が互いに結合してそれらが結合している炭素原子と共に炭素数3〜10の環構造を形成している。R0〜R4のうち少なくともひとつはヘテロ原子を含む基である。

    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤及び光崩壊性塩基
    10.
    发明专利
    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤及び光崩壊性塩基 有权
    光致抗蚀剂组合物，抗蚀剂图案的形成方法，化合物，产酸剂和光分解性碱

    公开(公告)号：JPWO2013129266A1

    公开(公告)日：2015-07-30

    申请号：JP2014502182

    申请日：2013-02-22

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

    Inventor： 準人 生井 ,  準人 生井 ,  一雄 中原 ,  一雄 中原 ,  憲彦 池田 ,  憲彦 池田

    IPC: G03F7/004 ,  C07C381/12 ,  C07D317/70 ,  C09K3/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07D317/70 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041

    Abstract: 本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び下記式(1)で表される化合物を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R1は、水素原子又は1価の酸解離性基である。R2は、炭素数3〜20の(m+1)価の脂環式炭化水素基である。mは、2〜5の整数である。R3及びR4は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基又は炭素数1〜20の1価のフッ素化炭化水素基である。nは、0〜5の整数である。複数のR1のいずれか2個以上が互いに結合して、R1に結合する複数の酸素原子及びこれらの酸素原子に結合するR2を構成する炭素原子と共に環構造を形成してもよい。M+は、1価の放射線分解性オニウムカチオンである。

    Abstract translation: 本发明是具有含有酸解离性基团的结构单元，并且含有下式（1）表示的化合物的光刻胶组合物的聚合物。 在下面的式（1）中，R1是氢原子或一价的酸离解性基团。 R2为（M + 1）碳原子数为3〜20价的脂环烃基。 m为2〜5的整数。 R3和R4各自独立为氢原子，氟原子，一价氟代烃基，一价烃基或碳原子数1〜20的C1-20。 n是0〜5的整数。 和两个或更多个的任何所述多个R1的可键合到彼此以与构成R2结合多个氧原子和键合至R 1这些氧原子的碳原子一起形成环结构。 M +是一价辐射降解的鎓阳离子。

Patent Agency Ranking