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公开(公告)号:JP6326210B2
公开(公告)日:2018-05-16
申请号:JP2013205494
申请日:2013-09-30
申请人: テクノクオーツ株式会社 , トーカロ株式会社
CPC分类号: C03C17/22 , C03C15/00 , C03C2217/262 , C03C2218/13 , C03C2218/31 , C03C2218/33
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公开(公告)号:JPWO2015194569A1
公开(公告)日:2017-04-20
申请号:JP2016529384
申请日:2015-06-16
申请人: 旭硝子株式会社
发明人: 洋一 世良 , 洋一 世良 , 良司 秋山 , 良司 秋山 , 幹通 川上 , 幹通 川上 , 史朗 谷井 , 史朗 谷井 , 勝之 中野 , 勝之 中野 , 大樹 秋江 , 大樹 秋江 , 知子 岸川 , 知子 岸川
CPC分类号: C03B18/02 , C03C3/087 , C03C15/00 , C03C15/02 , C03C17/002 , C03C17/007 , C03C17/22 , C03C2217/42 , C03C2217/47 , C03C2218/33 , C03C2218/355 , C03C2218/36 , G06F3/041
摘要: 本発明のガラス板は、フロート法による成形時に溶融金属と接するボトム面に、複数の硫酸塩の結晶からなる緩衝層を有し、厚み方向から見た、複数の硫酸塩の結晶の円相当直径の中央値は、350nm以下である。
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公开(公告)号:JP6061915B2
公开(公告)日:2017-01-18
申请号:JP2014504617
申请日:2012-09-03
申请人: 株式会社JCU
发明人: コルドニエ クリストファー , 鍋島 三弘 , 熊谷 真吾 , 高橋 直貴
IPC分类号: C23F1/36 , C23F1/40 , H01L21/308 , C23F1/38
CPC分类号: C09K13/02 , C03C15/00 , C03C17/09 , C23F1/36 , C23F1/38 , C23F1/40 , C23F1/44 , C03C2217/258 , C03C2217/259 , C03C2218/154 , C03C2218/33
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公开(公告)号:JP2016500841A
公开(公告)日:2016-01-14
申请号:JP2015536757
申请日:2013-01-25
发明人: クリストファー, ジェイ. シュトルツ, , クリストファー, ジェイ. シュトルツ, , ジェームズ, エー. フォルタ, , ジェームズ, エー. フォルタ, , ポール, ビー. ミルカリミ, , ポール, ビー. ミルカリミ, , レジーナ ソウフリ, , レジーナ ソウフリ, , クリストファー, シー. ウォルトン, , クリストファー, シー. ウォルトン, , ジャスティン, イー. ウルフ, , ジャスティン, イー. ウルフ, , カルメン メノーニ, , カルメン メノーニ, , ディネッシュ パテル, , ディネッシュ パテル,
CPC分类号: G02B3/00 , C03C17/3417 , C03C2218/33 , C23C14/34 , C23F4/00 , Y10T428/265
摘要: レーザミラー及び他の光学的構成要素の製造における欠陥の平坦化を開示する。平坦化は、まず比較的厚い平坦化層を堆積させた後、連続した堆積及びエッチングプロセスを実行することによって行う。この技法では、エッチャント入射角の関数としての一様でない材料除去率を利用して、上面がほぼ平坦な厚膜中に含有物を効果的に埋設する。このプロセスによれば、高エネルギーレーザ用途に特に適した欠陥のない高フルエンス多層ミラーをより迅速かつより確実に製造可能である。【選択図】図4b
摘要翻译: 披露的缺陷平坦化的激光反射镜和其它光学部件的制造。 平坦化,之后首先沉积相对厚的平坦化层,通过执行一系列的沉积和蚀刻工艺的进行。 在该技术中,通过使用材料去除速率是不均匀的作为蚀刻剂入射角的函数,上表面被有效地埋夹杂物基本上平坦的厚膜。 根据该方法,它更快,能够更加可靠地产生高能量密度的多层反射镜另外合适的缺陷高能量激光应用。 点域4B
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公开(公告)号:JPWO2013136555A1
公开(公告)日:2015-08-03
申请号:JP2014504617
申请日:2012-09-03
申请人: 株式会社Jcu
发明人: クリストファー コルドニエ , クリストファー コルドニエ , 三弘 鍋島 , 三弘 鍋島 , 真吾 熊谷 , 真吾 熊谷 , 直貴 高橋 , 直貴 高橋
IPC分类号: C23F1/38 , C23F1/36 , C23F1/40 , H01L21/308
CPC分类号: C09K13/02 , C03C15/00 , C03C17/09 , C03C2217/258 , C03C2217/259 , C03C2218/154 , C03C2218/33 , C23F1/36 , C23F1/38 , C23F1/40 , C23F1/44
摘要: ガラス、シリコン、銅およびニッケルから選ばれる下地基材に設けられたチタン、ニオブ、タングステン、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、砒素、アルミニウム、およびガリウムから選ばれる金属、前記金属の酸化物、前記金属の窒化物、窒化シリコン、窒化ハフニウム、窒化タンタルまたはこれらの合金の層を、所定の錯化剤を含有するアルカリ性エッチング液を用いて選択的にエッチングする。
摘要翻译: 玻璃,硅,提供选自铜和镍,铌,钨,钼,钌,铑,砷,金属选自铝和镓,所述金属,氮化物的氧化物中选择的基底基板上的钛,所述金属 东西,氮化硅,氮化铪,氮化钽层,或它们的合金选择性地含有预定络合剂的碱性蚀刻溶液进行蚀刻。
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公开(公告)号:JP2015067524A
公开(公告)日:2015-04-13
申请号:JP2013205494
申请日:2013-09-30
申请人: テクノクオーツ株式会社 , トーカロ株式会社
CPC分类号: C03C17/22 , C03C15/00 , C03C2217/262 , C03C2218/13 , C03C2218/31 , C03C2218/33
摘要: 【課題】薄型化に対応し、かつ遮光性及び耐熱性を向上させた石英ガラス部品及び石英ガラス部品の製造方法を提供することにある。 【解決手段】石英ガラス基材の表面にシリコン粉末をプラズマ溶射することにより皮膜を形成してなる石英ガラス部品において、石英ガラス基材は不透明石英ガラスから成り、シリコン粉末における100μm以上の粒径の比率は3%以下であり、シリコン粉末における100μm以上の粒径の比率は0%であり、シリコン粉末におけるD50%粒径は25〜35μmであり、皮膜20の平均膜厚は40〜60μmであり、石英ガラス基材10の表面粗さRaは2〜4μmであることを特徴とする石英ガラス部品。 【選択図】図1
摘要翻译: 要解决的问题:提供一种应对变薄并具有改善的遮光性和耐热性的石英玻璃组分,并提供一种石英玻璃组分的制造方法。解决方案:在通过等离子体喷涂获得的石英玻璃组分 硅粉末在石英玻璃基板10的表面上形成膜20,石英玻璃基板10由不透明的石英玻璃制成,粒径为100μm以上的硅粉的比例为3%以下 ,粒径为100μm以上的硅粉的比率为0%,硅粉末的D50%粒径为25〜35μm,膜20的平均膜厚为40〜60μm, 石英玻璃基板10的表面粗糙度Ra为2-4μm。
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8.Optical member, imaging device, and manufacturing method of optical member 有权
标题翻译: 光学部件,成像装置和光学部件的制造方法公开(公告)号:JP2013246192A
公开(公告)日:2013-12-09
申请号:JP2012117484
申请日:2012-05-23
发明人: TAKEI AKIKO , CHO SOI , KOTANI YOSHINORI , SUGIYAMA SUSUMU , TAKASHIMA KENJI , KOKETSU NAOYUKI
CPC分类号: G02B1/11 , C03B20/00 , C03B32/00 , C03C15/00 , C03C17/02 , C03C17/42 , C03C2217/425 , C03C2218/11 , C03C2218/31 , C03C2218/33 , G02B1/118 , G02B1/12 , Y10T428/249961
摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical member that has reduced reflectance, suppresses ripple, and includes a porous glass layer on a substrate.SOLUTION: An optical member comprises a substrate 1, and a transparent material-containing glass layer 2 that contains a transparent material inside a porous structure formed on the substrate 1. In a thickness direction of the transparent material-containing glass layer 2, the porosity on the substrate 1 side from a center line in the thickness direction of the transparent material-containing glass layer 2 is smaller than the porosity on the opposite side of the substrate 1 from the center line in the thickness direction of the transparent material-containing glass layer 2.
摘要翻译: 要解决的问题:提供具有降低的反射率,抑制波动的光学部件,并且在基板上包括多孔玻璃层。解决方案:光学部件包括基板1和含透明材料的玻璃层2, 透明材料形成在基板1上形成的多孔结构体内。在含透明材料的玻璃层2的厚度方向上,从透明材料玻璃层2的厚度方向的中心线的基板1侧的孔隙率 小于基板1的相对于透明材料玻璃层2的厚度方向的中心线的孔隙率。
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9.Method of cutting tempered glass and method of fabricating touchscreen using the same 审中-公开
标题翻译: 切割温度的玻璃的方法和使用它的织物的方法公开(公告)号:JP2013121908A
公开(公告)日:2013-06-20
申请号:JP2012268161
申请日:2012-12-07
申请人: Samsung Corning Precision Materials Co Ltd , サムスンコーニング精密素材株式会社Samsung Corning Precision Materials Co.,Ltd.
发明人: OH SANG YOON , SEO JI YOON , AN JIN SOO , LIM JIN SUNG
CPC分类号: C03B33/074 , C03C17/23 , C03C2218/33 , C03C2218/355 , C03C2218/365 , Y02P40/57
摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of cutting a piece of tempered glass and a method of fabricating a touchscreen using the same, more particularly a method of cutting a piece of tempered glass in which the piece of tempered glass is cut after a thin film having a tensile stress is formed; and to provide a method of fabricating a touchscreen using the same.SOLUTION: A method of cutting a piece of tempered glass includes: a step of forming a thin film layer having a tensile stress on the piece of tempered glass; and a step of cutting the piece of tempered glass.
摘要翻译: 要解决的问题:提供一种切割钢化玻璃的方法和使用该方法制造触摸屏的方法,更具体地说,一种切割钢化玻璃片的方法,其中钢化玻璃片被切割 在形成具有拉伸应力的薄膜之后; 并提供使用其制造触摸屏的方法。 解决方案:一种切割钢化玻璃的方法包括:在钢化玻璃片上形成具有拉伸应力的薄膜层的步骤; 并切割钢化玻璃的一个步骤。 版权所有(C)2013,JPO&INPIT
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公开(公告)号:JP5160042B2
公开(公告)日:2013-03-13
申请号:JP2006100819
申请日:2006-03-31
申请人: Hoya株式会社
CPC分类号: C03C17/3441 , C03B25/02 , C03C3/068 , C03C3/155 , C03C2218/154 , C03C2218/33 , C03C2218/355 , Y02P40/57
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