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公开(公告)号:JP2016524616A
公开(公告)日:2016-08-18
申请号:JP2016516176
申请日:2014-05-29
申请人: シンジェンタ リミテッド , シンジェンタ リミテッド
发明人: ブラック ジャニス , ブラック ジャニス , ニコラス スクット ジェイムズ , ニコラス スクット ジェイムズ , ウォーリー ルイザ , ウォーリー ルイザ , ジェイムズ ウィレッツ ナイジェル , ジェイムズ ウィレッツ ナイジェル
IPC分类号: C07C49/443 , A01N35/06 , A01N37/02 , A01N37/10 , A01N47/06 , A01P13/00 , C07C49/427 , C07C69/003 , C07C69/76 , C07C69/96 , C07D303/20
CPC分类号: C07D493/08 , A01N35/06 , A01N37/02 , A01N37/10 , A01N43/16 , A01N43/18 , A01N43/40 , A01N43/90 , A01N47/06 , C07C49/517 , C07C49/577 , C07C49/753 , C07C69/24 , C07C69/78 , C07C69/96 , C07C323/22 , C07C381/14 , C07C2601/08 , C07C2601/10 , C07C2601/14 , C07C2602/44 , C07D307/42 , C07D309/32 , C07D311/96
摘要: 本発明は、式(I)(式中:Xが、メチルまたは塩素であり;R1が、フッ素または臭素であり;R2が、エチニル、C1〜C3アルコキシ、C1〜C3ハロアルコキシ、またはC1〜C3アルコキシ−C1〜C3アルコキシ−であり;Qが、ピラン−3,5−ジオン−4−イル、チオピラン−3,5−ジオン−4−イル、ピペリジン−3,5−ジオン−4−イル、シクロヘキサン−1,3,5−トリオン−2−イル、シクロヘキサン−1,3−ジオン−2−イル、シクロヘプタン−1,3−ジオン−2−イルであり、それぞれの環状ジオンは、アルカンジイルにより架橋される)の化合物、またはその誘導体(例えば、そのエノールケトン互変異性体誘導体)(ここで、Qが、本明細書にさらに定義される)に関し;式(I)の化合物は、任意選択的に、その農芸化学的に許容できる塩として存在する。好ましくは、Xがメチルであり;および/またはR1がフッ素であり;および/またはR2が−O−R2Aであり、ここで、R2Aが、メチル、エチル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロエチル、または−CH2CH2OCH3である。これらの化合物は、除草剤としての使用に好適である。したがって、本発明は、有用な植物の作物における、雑草、特に、イネ科の単子葉植物の雑草を防除する方法であって、式(I)の化合物、またはこのような化合物を含む除草性組成物を、雑草および/または植物および/またはその場所に施用する工程を含む方法にも関する。
摘要翻译: 本发明提供了式(I)的化合物(其中:X是甲基或氯; R 1是氟或溴; R 2为乙炔基,C1至C3烷氧基,C1至C3卤代烷氧基或C1至C3, 烷氧基-C 1 -C〜C3烷氧基 - ,和; Q是烷-3,5-二酮-4-基,噻喃-3,5-二酮-4-基,哌啶-3,5-二酮-4-基,环己烷 3,5-三酮-2-基,环己烷-1,3-二酮-2-基,环庚烷-1,3-二酮-2-基,每个环二酮烷交联 到的化合物),或其衍生物(例如,在它的烯醇互变异构体的酮的衍生物)(其中,Q是关乎本文进一步定义);式(I化合物),任选 本作为其农业化学上可接受的盐。 优选地,X是甲基;和/或R 1是氟;和/或R 2是-O-R2A,其中,R 2A为甲基,乙基,三氟甲基,二氟甲基,三氟 ,或-CH 2 CH。 这些化合物适合用作除草剂。 因此,本发明是在有用植物,野草,作物特别是涉及用于控制包括这些化合物的禾本科单子叶植物,式(I)化合物,或除草组合物的杂草的方法 的东西,并且还涉及包括向所述杂草和/或植物和/或它的位置的步骤的方法。
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公开(公告)号:JP2016524615A
公开(公告)日:2016-08-18
申请号:JP2016516175
申请日:2014-05-29
申请人: シンジェンタ リミテッド , シンジェンタ リミテッド
发明人: ブラック ジャニス , ブラック ジャニス , ニコラス スクット ジェイムズ , ニコラス スクット ジェイムズ , ウォーリー ルイザ , ウォーリー ルイザ , ジェイムズ ウィレッツ ナイジェル , ジェイムズ ウィレッツ ナイジェル
IPC分类号: C07C49/753 , A01N35/06 , A01N43/16 , A01N43/90 , A01P13/00 , C07C323/22 , C07D309/32 , C07D311/00 , C07D493/08
CPC分类号: C07D493/08 , A01N35/06 , A01N37/02 , A01N37/10 , A01N43/16 , A01N43/18 , A01N43/40 , A01N43/90 , A01N47/06 , C07C49/517 , C07C49/577 , C07C49/753 , C07C69/24 , C07C69/78 , C07C69/96 , C07C323/22 , C07C381/14 , C07C2601/08 , C07C2601/10 , C07C2601/14 , C07C2602/44 , C07D307/42 , C07D309/32 , C07D311/96
摘要: 本発明は、式(I):(式中:Xが、メチルまたは塩素であり;R1が、フッ素または臭素であり;R2が、エチニル、C1〜C3アルコキシ、C1〜C3ハロアルコキシ、またはC1〜C3アルコキシ−C1〜C3アルコキシ−であり;Qが、ピラン−3,5−ジオン−4−イル、チオピラン−3,5−ジオン−4−イル、ピペリジン−3,5−ジオン−4−イル、シクロペンタン−1,3−ジオン−2−イル、シクロヘキサン−1,3,5−トリオン−2−イル、シクロヘキサン−1,3−ジオン−2−イル、またはシクロヘプタン−1,3−ジオン−2−イルである)の化合物、またはその誘導体(例えば、縮合二環式誘導体、および/またはスピロ環式誘導体などの縮合誘導体)、またはそのエノールケトン互変異性体誘導体(ここで、Qが、本明細書にさらに定義される)に関し;式(I)の化合物は、任意選択的に、その農芸化学的に許容できる塩として存在する。好ましくは、Xがメチルであり;および/またはR1がフッ素であり;および/またはR2が−O−R2Aであり、ここで、R2Aが、メチル、エチル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロエチル、または−CH2CH2OCH3である。これらの化合物は、除草剤としての使用に好適である。したがって、本発明は、有用な植物の作物における、雑草、特に、イネ科の単子葉植物の雑草を防除する方法であって、式(I)の化合物、またはこのような化合物を含む除草性組成物を、雑草および/または植物および/またはその場所に施用する工程を含む方法にも関する。
摘要翻译: 本发明提供了式(I)的化合物:(式:X是甲基或氯; R 1是氟或溴; R 2为乙炔基,C1至C3烷氧基,C1至C3卤代烷氧基或C1至, -C 3烷氧基-C 1 -C〜C3烷氧基 - ,和; Q是烷-3,5-二酮-4-基,噻喃-3,5-二酮-4-基,哌啶-3,5-二酮-4-基, 环戊烷-1,3-二酮-2-基,环己烷-1,3,5-三酮-2-基,环己烷-1,3-二酮-2-基或环庚烷-1,3-二酮-2, - 的基的化合物和是),或它们的衍生物(例如,稠合双环衍生物,和/或缩合的衍生物,例如螺环衍生物),或它的烯醇互变异构体的酮衍生物(其中,Q为 本发明涉及进一步定义)在本说明书中;式(I),任选地,其农用化学品的化合物 它存在作为内容可以是盐。 优选地,X是甲基;和/或R 1是氟;和/或R 2是-O-R2A,其中,R 2A为甲基,乙基,三氟甲基,二氟甲基,三氟 ,或-CH 2 CH。 这些化合物适合用作除草剂。 因此,本发明是在有用植物,野草,作物特别是涉及用于控制包括这些化合物的禾本科单子叶植物,式(I)化合物,或除草组合物的杂草的方法 的东西,并且还涉及包括向所述杂草和/或植物和/或它的位置的步骤的方法。
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公开(公告)号:JP3991222B2
公开(公告)日:2007-10-17
申请号:JP2003035055
申请日:2003-02-13
申请人: 信越化学工業株式会社
IPC分类号: C07C317/28 , G03F7/004 , C07C245/16 , C08F12/24 , C09K3/00 , G03F7/039 , G03F7/30 , H01L21/027
CPC分类号: C07C381/14 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/106
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公开(公告)号:JP6433993B2
公开(公告)日:2018-12-05
申请号:JP2016516176
申请日:2014-05-29
申请人: シンジェンタ リミテッド
发明人: ジャニス ブラック , ジェイムズ ニコラス スクット , ルイザ ウォーリー , ナイジェル ジェイムズ ウィレッツ
IPC分类号: A01N35/06 , A01N37/02 , A01N37/10 , A01N47/06 , A01P13/00 , C07C69/96 , C07C69/63 , C07C69/76 , C07C329/06 , C07C49/517
CPC分类号: C07D493/08 , A01N35/06 , A01N37/02 , A01N37/10 , A01N43/16 , A01N43/18 , A01N43/40 , A01N43/90 , A01N47/06 , C07C49/517 , C07C49/577 , C07C49/753 , C07C69/24 , C07C69/78 , C07C69/96 , C07C323/22 , C07C381/14 , C07C2601/08 , C07C2601/10 , C07C2601/14 , C07C2602/44 , C07D307/42 , C07D309/32 , C07D311/96
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公开(公告)号:JP2004244358A
公开(公告)日:2004-09-02
申请号:JP2003035055
申请日:2003-02-13
申请人: Shin Etsu Chem Co Ltd , 信越化学工業株式会社
IPC分类号: G03F7/004 , C07C245/16 , C07C317/28 , C08F12/24 , C09K3/00 , G03F7/039 , G03F7/30 , H01L21/027
CPC分类号: C07C381/14 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/106
摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a sulfonyl diazomethane compound suitable as a photo-acid generator for chemical amplification-type resist materials, or the like, for making integrated circuits sensitive to radiations including ultraviolet radiation, far-ultraviolet radiation, electron beams, X-rays, excimer laser, γ-rays and synchrotron radiation, to obtain such a photo-acid generator, to obtain such a resist material containing the sulfonyl diazomethane compound, and to provide a method for pattern formation using the resist material. SOLUTION: The sulfonyl diazomethane compound is represented by formula(1)( wherein, R is H or a 1-4C alkyl or alkoxy; G is SO 2 or CO; R 3 is a 1-10C alkyl or 6-14C aryl; (p) is 1 or 2, and (q) is 0 or 1, wherein p+q=2; (n) is 2 or 3; (n') is 0 or 1; (m) is an integer of 3-11; and (k) is an integer of 0-4 ). COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI
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6.還元剤、インクジェット記録装置、布帛の抜染方法、画像形成方法、還元剤の安定化剤、還元剤の安定化方法、還元剤の増強剤、還元剤の増強方法 审中-公开
标题翻译: 减压剂,喷墨记录装置,放电打印方法,图像形成方法,用于还原剂的稳定剂,用于还原剂的稳定化方法,用于还原剂的增强剂和用于还原剂的增强方法公开(公告)号:JP2015187248A
公开(公告)日:2015-10-29
申请号:JP2014259458
申请日:2014-12-22
申请人: ブラザー工業株式会社
CPC分类号: D06L3/10 , B41J11/0015 , B41J2/01 , B41J3/4078 , C07C323/52 , C07C381/14 , D06L4/30 , D06P5/001
摘要: 【課題】 二酸化チオ尿素を含み、優れた還元力及び長期安定性効果を有する還元剤を提 供することを目的とする。 【解決手段】二酸化チオ尿素を含む還元剤であって、さらに、前記還元剤は、カルボン酸 塩を含み、前記カルボン酸塩は、脂肪族モノカルボン酸塩、脂肪族モノカルボン酸誘導体 塩及びマロン酸塩からなる群から選択される少なくとも一つを含むことを特徴とする。 【選択図】 なし
摘要翻译: 要解决的问题:提供含有二氧化硫脲并具有良好的还原能力和良好的长期稳定性效果的还原剂。解决方案:本发明涉及含有二氧化硫脲的还原剂。 还原剂还含有羧酸盐。 羧酸酯包括选自脂族单羧酸酯,脂族一元羧酸衍生物盐和丙二酸酯中的至少一种。
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公开(公告)号:JP3655685B2
公开(公告)日:2005-06-02
申请号:JP35502595
申请日:1995-12-12
申请人: 中外製薬株式会社
IPC分类号: C07D295/12 , A61K31/155 , A61K31/195 , A61K31/21 , A61K31/215 , A61K31/27 , A61K31/275 , A61K31/40 , A61P3/00 , A61P3/14 , A61P9/00 , A61P43/00 , C07C57/30 , C07C205/11 , C07C205/12 , C07C205/19 , C07C205/37 , C07C205/56 , C07C211/52 , C07C211/53 , C07C271/10 , C07C279/18 , C07C279/30 , C07C279/34 , C07C279/36 , C07C335/16 , C07C335/20 , C07C335/22 , C07C335/32 , C07C335/36 , C07C381/14 , C07D209/48 , C07D295/135
CPC分类号: C07D209/48 , C07C205/11 , C07C205/12 , C07C205/19 , C07C205/37 , C07C205/56 , C07C279/18 , C07C279/36 , C07C335/20 , C07C335/22 , C07C335/32 , C07C381/14 , C07C2601/02 , C07C2601/04 , C07C2601/08 , C07C2601/14
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8.
公开(公告)号:JP2004513906A
公开(公告)日:2004-05-13
申请号:JP2002542340
申请日:2001-11-19
申请人: ロレアルLoreal
IPC分类号: A61K8/00 , A61K8/46 , A61Q5/04 , C07C313/02 , C07C313/04 , C07C381/14 , A61K7/09
CPC分类号: A61Q5/04 , A61K8/46 , C07C381/14
摘要: 本発明は、N置換ホルムアミジンスルフィン酸誘導体を還元剤として含有する、毛髪のパーマネント変形のための還元組成物、及びこの還元組成物を使用する毛髪のパーマネント変形のための方法に関する。
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公开(公告)号:JPS594431B2
公开(公告)日:1984-01-30
申请号:JP10235778
申请日:1978-08-24
IPC分类号: D06P1/30 , C07C67/00 , C07C325/00 , C07C381/14
CPC分类号: C07C381/14
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