公开(公告)号：JP5172188B2

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：JP2007083543

申请日：2007-03-28

Applicant: 富士フイルム株式会社

Inventor： 和信 ▲高▼橋 ,  和広 相川

IPC: C07C69/63 ,  A61K9/127 ,  A61K47/24 ,  A61K49/00 ,  C07C69/708 ,  C07C229/10 ,  C07C233/05 ,  C07C235/06 ,  C07C309/09 ,  C07D295/14 ,  C07D295/20 ,  C07D307/24 ,  C07D307/68

公开(公告)号：JP2013025050A

公开(公告)日：2013-02-04

申请号：JP2011159325

申请日：2011-07-20

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： IWATO KAORU

IPC: G03F7/039 ,  C07C309/06 ,  C07C309/09 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C08F20/18 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an excellent pattern profile and focal depth margin even if a pattern is formed directly using a high-reflection substrate without an antireflection film, and suited for implantation, and to provide a pattern forming method.SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes: (A) a resin containing at least a type of repeating unit represented by general formulas (PG1), (PG2), and (PG3), and a lactone structure; (B) a photo-acid-generating agent; and (C) solvent.

Abstract translation: 要解决的问题：即使使用没有抗反射膜的高反射基板直接形成图案，也可以提供具有优异的图案轮廓和焦距深度余量的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，并且适合 用于植入，并提供图案形成方法。 光敏射线敏感性树脂组合物包含：（A）含有至少一种由通式（PG1），（PG2）和（PG3）表示的重复单元的树脂，和 内酯结构; （B）光酸生成剂; 和（C）溶剂。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2013015574A

公开(公告)日：2013-01-24

申请号：JP2011146476

申请日：2011-06-30

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： MATSUDA TOMOKI ,  TOKUGAWA YOKO ,  SHIBUYA AKINORI

IPC: G03F7/004 ,  C07C309/06 ,  C07C309/09 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07D217/08 ,  C07D333/46 ,  C07D333/76 ,  C07D409/04 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24802

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in the temporal stability of line width of a pattern, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition and a pattern formation method.SOLUTION: An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a resin which is decomposed by the action of an acid to thereby exhibit increased solubility in an alkali developer and (B) a compound represented by the following general formula (1-1).

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种光谱敏感或辐射敏感的树脂组合物，其在图案的线宽度的时间稳定性和使用该组合物的光化射线敏感或辐射敏感膜和 图案形成方法。 光敏性或辐射敏感性树脂组合物含有（A）通过酸的作用而分解的树脂，从而在碱性显影剂中表现出增加的溶解性，（B）下述化合物 通式（1-1）。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012022212A

公开(公告)日：2012-02-02

申请号：JP2010161090

申请日：2010-07-15

Applicant: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ,  東京応化工業株式会社

Inventor： KOMURO YOSHITAKA ,  UTSUMI YOSHIYUKI

IPC: G03F7/004 ,  C07C309/06 ,  C07C309/07 ,  C07C309/09 ,  C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C311/48 ,  C07C311/51 ,  C07D213/79 ,  C07D327/04 ,  C07D333/16 ,  C09K3/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compound suitable as an acid generator for resist composition, an acid generator made from the compound, a resist composition including the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.SOLUTION: The present invention relates to an acid generator comprising a compound expressed by the general formula (b1), and a resist composition comprises: a base component whose solubility in an alkali developing solution changes by an action of acid; and the acid generator component generating acid by light exposure that is a compound expressed by the formula (b1). In the formula, Rrepresents a hydrogen atom, a linear, a branched or a cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or heterocyclic group; Rrepresents a linear or a branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; x represents an integer of 0 to 6; n represents an integer of 0 to 3; and Xrepresents an anion.

Abstract translation: 要解决的问题：提供适合作为抗蚀剂组合物的酸发生剂的化合物，由该化合物制成的酸发生剂，包含酸产生剂的抗蚀剂组合物和使用该抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法。 解决方案：本发明涉及一种含有由通式（b1）表示的化合物的酸产生剂，抗蚀剂组合物包括：其在碱性显影液中的溶解度随酸的作用而变化的碱成分; 酸产生剂组分通过曝光产生酸，其是由式（b1）表示的化合物。 式中，R 1表示氢原子，碳原子数为1〜10的直链状，支链状或环状的烷基或杂环基; R 2表示具有1〜10个碳原子的直链或支链烷基; x表示0〜6的整数， n表示0〜3的整数， 并且X - 表示阴离子。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4837164B2

公开(公告)日：2011-12-14

申请号：JP2000237581

申请日：2000-08-04

Applicant: アウシモント エス.ピー.エー.AUSIMONT S.p.A.

Inventor： デ パット ウーゴ ,  マルキオッニ ジュゼッペ

IPC: C10M107/46 ,  C07C309/09 ,  C08G65/00 ,  C08G65/32 ,  C10M105/72 ,  C10M107/38 ,  C10N20/04 ,  C10N30/08 ,  C10N30/10

CPC classification number: C08G65/007 ,  C10M107/38 ,  C10M2221/02

Abstract: Perfluoropolyether lubricants containing sulphonylfluoride groups pending along the perfluoropolyether chain and having the following formula: wherein: T are end groups selected from -CF2X (X=F,CF3,Cl), -C3F7, -COF, -CF(CF3)COF, -CF2COF, -CF2COCF3; d,e,f,h are integers; a,b,c can be zero or integers; said units are statistically distributed along the chain, being a+b+c+d+e+f+h such that the number average molecular weight ranges from 500 to 5x10 , preferably from 1,000 to 50,000.

公开(公告)号：JP2011043783A

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：JP2009257072

申请日：2009-11-10

Applicant: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ,  東京応化工業株式会社

Inventor： UTSUMI YOSHIYUKI ,  IRIE MAKIKO

IPC: G03F7/004 ,  C07C309/06 ,  C07C309/09 ,  C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C311/48 ,  C07C311/53 ,  C07C317/04 ,  C07C317/06 ,  C07D213/79 ,  C07D285/00 ,  C07D327/04 ,  C07D333/46 ,  C09K3/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an acid generator comprising a new compound, a resist composition containing the acid generator, and to provide a method for forming a resist pattern that uses the resist composition.
SOLUTION: The resist composition contains a base material in which the solubility with respect to alkaline developer changes through the action of an acid, and a photoacid generator. The photoacid generator comprises a compound represented by formula (b1-1), and in the formula, Y
10 is a cyclic hydrocarbon group whose number of carbons is 5 or more and represents an acid-dissociable group; R
6 and R
7 are each a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group which may combine together, to form a ring; Y
11 and Y
12 are each an alkyl group or an aryl group which may combine together, to form a ring; and X
- is an anion.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种含有新化合物的酸发生剂，含有酸产生剂的抗蚀剂组合物，并提供一种形成使用抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的方法。 解决方案：抗蚀剂组合物含有其中相对于碱性显影剂的溶解度通过酸的作用而变化的基材和光酸产生剂。 光酸产生剂含有式（b1-1）所示的化合物，式中，Y“SP”是碳原子数为5以上且表示酸解离基的环状烃基， R 6和R 7各自是可以结合在一起形成环的氢原子，烷基或芳基; Y 11 和Y - 是阴离子。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4412171B2

公开(公告)日：2010-02-10

申请号：JP2004513344

申请日：2003-06-16

Applicant: ダイキン工業株式会社

Inventor： 忠 伊野 ,  琢也 荒瀬

IPC: C08F14/18 ,  C07C309/09 ,  C07C309/10 ,  C07C309/82 ,  C08F214/18 ,  C08J5/22 ,  H01B1/06 ,  H01M8/02

CPC classification number: C07C309/10 ,  C07C309/82 ,  C08F214/186

公开(公告)号：JP2007176843A

公开(公告)日：2007-07-12

申请号：JP2005375757

申请日：2005-12-27

Applicant: Asahi Glass Co Ltd ,  旭硝子株式会社

Inventor： UENO KATSUYA ,  YAMADA KAZUHIKO ,  TAMITSUJI SHINYA

IPC: C07C303/22 ,  C07C309/09 ,  C07C309/17 ,  C07C309/82 ,  C07C309/84

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a nanocarbon derivative which is a nanocarbon derivative comprising nanocarbon and -SO
2 X (X is a halogen atom ) or -SO
3 H connected by perfluoroalkylene groups and containing perfluoroalkylene groups of various carbon numbers.
SOLUTION: The method for producing a nanocarbon derivative comprises reacting a diacyl peroxide containing -R
f -SO
2 X (R
f is a perfluoroalkylene group which may contain an ethereal oxygen group; X is a halogen atom) with nanocarbon to give a nanocarbon derivative containing -R
f -SO
2 X.
COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Abstract translation: 待解决的问题：提供一种纳米碳衍生物的制造方法，该纳米碳衍生物是纳米碳衍生物，其包含纳米碳和-SO 2 SB（X为卤素原子）或-SO 3 SB 通过全氟亚烷基连接并含有各种碳数的全氟亚烷基。 解决方案：制备纳米碳衍生物的方法包括使含有R 2的二酰基过氧化物与（R 2 = 可以含有醚氧基的全氟亚烷基; X是卤素原子）与纳米碳反应，得到含有R 2的X射线衍射的纳米碳衍生物。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP3802556B2

公开(公告)日：2006-07-26

申请号：JP51458693

申请日：1993-02-19

Applicant: サントル・ナショナル・ドゥ・ラ・ルシェルシュ・シャンティフィク ,  ハイドロ・ケベック

Inventor： アルマン，ミシェル ,  サンチェス，ジャン−イヴェ ,  シラ，サリム

IPC: C07C309/84 ,  C07C309/07 ,  C07C309/09 ,  C07C309/10 ,  C07C309/17 ,  C07C309/82 ,  C07C311/02 ,  C07D303/22 ,  C07F7/08 ,  C07F7/18 ,  C08G65/14 ,  C08G65/22 ,  C08G65/32 ,  C08G65/334 ,  C08G65/337 ,  C08G79/02 ,  H01B1/12 ,  H01M6/18 ,  H01M8/10 ,  H01M10/052 ,  H01M10/0565

CPC classification number: H01M10/052 ,  C07C309/07 ,  C07C309/09 ,  C07C309/17 ,  C07C309/82 ,  C07C309/84 ,  C07F7/0834 ,  C07F7/1836 ,  C08G65/14 ,  C08G65/22 ,  C08G65/226 ,  C08G65/3346 ,  C08G65/337 ,  C08G79/02 ,  H01B1/122 ,  H01M6/181 ,  H01M8/1027 ,  H01M8/103 ,  H01M8/1032 ,  H01M8/1039 ,  H01M8/1072 ,  H01M10/0565 ,  Y02P70/56

公开(公告)号：JPWO2003106515A1

公开(公告)日：2005-10-13

申请号：JP2004513344

申请日：2003-06-16

Applicant: ダイキン工業株式会社

Inventor： 伊野　忠 ,  忠 伊野 ,  荒瀬　琢也 ,  琢也 荒瀬

IPC: C08F14/18 ,  C07C309/09 ,  C07C309/10 ,  C07C309/82 ,  C08F214/18 ,  C08J5/22 ,  H01B1/06 ,  H01M8/02

CPC classification number: C07C309/10 ,  C07C309/82 ,  C08F214/186

Abstract: 本発明は、一般式:(XSO2)kCYl(CF2)mO(CFZCF2O)nCF=CF2(1)(ここで、k=2または3、k+l=3、m=0〜5、n=0〜5、X=F、Cl、OH、O(M)1/L(Mは1〜3価金属、Lは該金属の価数)、OR(Rは、炭素数1〜5のアルキル基であり、前記アルキル基は、炭素でなく水素でもない元素を含むものであってもよい)、または、A−(SO2Rf)aB(Aはチッ素または炭素であり、aは、Aがチッ素のときa=1、Aが炭素のときa=2であり、Bは水素または一価の金属であり、Rfは過フッ化アルキル基である。)、Y=F、Cl、CF3、Z=F、Cl、CF3、Br、Iである)で表わされるスルホン酸官能基含有フッ素化単量体である。