公开(公告)号：KR101900636B1

公开(公告)日：2018-09-19

申请号：KR1020177019270

申请日：2013-09-13

申请人： 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤

发明人： 혼다마사키 ,  가나다다카유키 ,  요시다마사히코 ,  유노쿠치도모시게 ,  오구라도모히토

IPC分类号： G03F7/023 ,  C08G8/20 ,  C08G8/12 ,  C08G8/22 ,  C08G8/24 ,  C08G69/26 ,  C08G73/22

CPC分类号： C08G8/20 ,  C08G8/12 ,  C08G8/22 ,  C08G8/24 ,  C08G69/26 ,  C08G73/22 ,  C09D179/04 ,  C09D179/08 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/40 ,  C08L61/34 ,  C08L61/12 ,  C08L61/06

摘要： 현상잔막률이높고고감도이고, 현상후의표면이균일한감광성수지조성물을제공한다. (a) 하기일반식 (1) :(식중, R및 R는각각독립적으로탄소수 2 ∼ 60 의 2 가내지 8 가의유기기를나타내고, R, R, R및 R은각각독립적으로수소원자또는탄소수 1 ∼ 20 의 1 가의유기기를나타내고, d 및 e 는각각독립적으로 0 ∼ 2 의정수로서동시에 0 이되는경우는없고, f 및 g 는각각독립적으로 0 ∼ 4 의정수이고, 그리고 n 은양의정수이다) 로나타내는구조단위를주성분으로하는폴리머와, (b) 퀴논디아지드화합물과, (c) 특정구조의페놀수지를함유하는포지티브형감광성수지조성물.

公开(公告)号：KR1020170125842A

公开(公告)日：2017-11-15

申请号：KR1020177025045

申请日：2016-02-09

申请人： 도레이 카부시키가이샤

发明人： 아리모토,유카리 ,  마스다,유키 ,  오쿠다,료지

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/023 ,  C08G73/10 ,  C08G73/22 ,  G03F7/16 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/0757 ,  C08F8/00 ,  C08G8/12 ,  C08G73/10 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1042 ,  C08G73/1053 ,  C08G73/106 ,  C08G73/22 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/023 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/322 ,  G03F7/40 ,  H01L24/02 ,  H01L2224/02311 ,  H01L2224/02379 ,  H01L2224/024 ,  H01L2924/07025

摘要： 폴리이미드, 폴리벤조옥사졸, 폴리이미드전구체, 폴리벤조옥사졸전구체및 이들로부터선택되는 2종이상의중합체의공중합체로부터선택되는 1종이상의알칼리가용성수지와감광제를함유하는감광성수지조성물이며, 하기일반식 (1)로표시되는화합물을더 함유하는감광성수지조성물. 경화막이저온소성시에있어서도금속재료, 특히구리와의밀착성이우수하며, 또한높은내약품성을나타내는감광성수지조성물을제공한다.

摘要翻译： 聚酰亚胺，聚苯并恶唑，和聚酰亚胺前体，聚苯并恶唑joljeon球体和含有碱溶性树脂和从所述聚合物的共聚物从这些选择的两种选择的一个构件上的感光剂的感光性树脂组合物，下列一般 一种光敏树脂组合物，其进一步包含由式（1）表示的化合物。 固化膜yiwoosu甚至金属材料，在铜之间的特定粘附在低温度的时间共烧，并且还提供了具有高耐化学性的光敏树脂组合物。

公开(公告)号：KR1020170019346A

公开(公告)日：2017-02-21

申请号：KR1020167032857

申请日：2015-05-19

申请人： 디아이씨 가부시끼가이샤

发明人： 이마다도모유키 ,  기모토세이지 ,  사토유스케

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08G8/08 ,  C08G8/12 ,  C08G8/26 ,  C09D161/06 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/322 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/004

摘要： 본발명은, 광감도, 해상도, 내열성, 및내흡습성이우수하며, 또한고온환경하에있어서오염이생기기어려운, 영구막의재료로서호적(好適)한감광성조성물등을제공하는것을목적으로해서, 일반식(1)으로표시되는구조부위(I)를반복단위로서갖고있고, 일반식(2)으로표시되는히드록시나프탈렌류(A)의함유량이수지고형분환산으로 2질량% 이하인히드록시나프탈렌노볼락수지를함유하고, 경화제를함유하고있지않은, 또는상기수지 100질량부에대해서 50질량부이하의경화제를함유하는영구막용감광성조성물을제공한다[식중, R은수소원자, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아랄킬기, 또는할로겐원자를나타내고, 복수존재하는 R은서로동일해도되며달라도되고, R은수소원자, 알킬기, 또는아릴기를나타내고, p는 1 또는 2를, q는 4 또는 5를나타낸다. 단, p와 q의합은 6이다].

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种光敏组合物，其在高温环境中不易被污染而且具有优异的光敏性，分辨率，耐热性和耐吸湿性，并且适用于永久膜的材料; 等等。 本发明提供一种永久性薄膜用感光性组合物，其含有具有由通式（1）表示的结构部分（I）作为重复单元并含有通式（2）表示的羟基萘（A）的羟基萘酚醛清漆树脂 以树脂固体成分计为2质量％以下，不含固化剂，或者相对于上述100质量份，含有50质量份以下的固化剂 树脂。 （式中，R 1表示氢原子，烷基，烷氧基，芳基，芳烷基或卤素原子，多个R 1部分可以相同也可以不同; R2表示 氢原子，烷基或芳基; p表示1或2，q表示4或5，p和q的和为6.）

公开(公告)号：KR1020140043302A

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：KR1020137016088

申请日：2011-12-21

申请人： 토탈 마케팅 서비스

发明人： 돌마존,넬리 ,  파핀,제랄딘 ,  토르트,프레데릭

IPC分类号： C08G8/12 ,  C08G8/28 ,  C10L1/00 ,  C10L10/14 ,  C10L1/18

CPC分类号： C10L10/14 ,  C08G8/12 ,  C08G8/28 ,  C10L1/00 ,  C10L1/02 ,  C10L1/026 ,  C10L1/18 ,  C10L1/22 ,  C10L1/238 ,  C10L1/2387 ,  C10L2200/0259 ,  C10L2200/0476 ,  C10L2200/0484 ,  C10L2250/04

摘要： 본 발명은 특히 제트 연료, 가스 오일, 가정용 연료 오일, 중 연료 오일과 같은 모터 연료 및 탄화수소 연료의 흐름 특성을 향상시키기 위한 이들의 이용 뿐 아니라 바람직하게 적어도 하나의 1차 아민 타입 그룹을 가지는 하나 이상의 알킬 아민을 포함하는 새로운 변형 알킬페놀-알데히드 수지에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR1020140007808A

公开(公告)日：2014-01-20

申请号：KR1020137015923

申请日：2012-04-10

申请人： 디아이씨 가부시끼가이샤

发明人： 이마다도모유키 ,  가게다카카즈 ,  이마이즈미노리후미

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  C08L71/10

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08G8/08 ,  C08G8/12 ,  C08G8/20 ,  C08L61/06 ,  C08L2205/02 ,  C09D161/06 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236

摘要： 본 발명은 현상성 및 내열성이 우수한 포지티브형 포토레지스트 조성물과 이를 사용한 도막을 제공하는 것을 목적으로 하여, 크레졸노볼락 수지(A) 100질량부에 대하여 노볼락형 페놀 수지(B)를 3∼80질량부 함유하는 포지티브형 포토레지스트 조성물로, 수지(B)가, 식(1)

〔식 중, R은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1∼12의 탄화수소기이다. X는 식(2)

(식 중, R
1 , R
2 , R
3 은, 각각 독립하여 수소 원자, 탄소 원자수 1∼8의 알킬기이다. m 및 n은 각각 독립하여 1∼4의 정수이고, p는 0∼4의 정수이다. t는 1 또는 2이다)으로 표시되는 구조(x1), 또는 구조(x1) 이외의 방향족 탄화수소기(x2)이다〕
으로 표시되는 구조 단위를 반복 단위로서 갖고, 구조(x1)와 구조(x2)의 총수에 대한 상기 구조(x1)의 함유율이 85％ 이상인 포지티브형 포토레지스트 조성물을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020130031799A

公开(公告)日：2013-03-29

申请号：KR1020120104401

申请日：2012-09-20

申请人： 스미또모 베이크라이트 가부시키가이샤

发明人： 마토리준

IPC分类号： C08G8/10 ,  C08G8/12 ,  C08L61/06 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08G8/10 ,  C08G8/12 ,  C08L61/06 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045

摘要： PURPOSE: Novolac type phenolic resin is provided to be used for resin composition for photoresist which is excellent in heat resistance, sensitivity, and residual film rates. CONSTITUTION: Novolac type phenolic resin is manufactured with phenolics, trimethylephenols, and formaldehyde reacted under the acidic condition. The phenolics comprise m-cresol. The novolac type phenolic resin is made up of 75-99 weight percent of m-cresol and 1-25 weight percent of trimethyl phenols out of the total resin. The molecular weight of polystyrene based on GPC is 15,000-45,000 and the rate of 2 karyoplast component is over 40%. The trimethyl phenolics comprise 2,3,5-trimethyl phenol.

摘要翻译： 目的：提供酚醛树脂型酚醛树脂，用于耐热性，灵敏度和残留膜率优异的光致抗蚀剂用树脂组合物。 构成：在酚醛树脂，三甲基酚和甲醛在酸性条件下反应生产酚醛树脂型酚醛树脂。 酚类包括间甲酚。 酚醛清漆型酚醛树脂由总树脂中75-99重量％的间甲酚和1-25重量％的三甲基酚组成。 基于GPC的聚苯乙烯的分子量为15,000-45,000，2个核质成分的分子量超过40％。 三甲基酚类包含2,3,5-三甲基苯酚。

公开(公告)号：KR100615559B1

公开(公告)日：2006-08-25

申请号：KR1019990053481

申请日：1999-11-29

申请人： 창 춘 플라스틱스 컴퍼니, 리미티드

发明人： 모리모토다카시 ,  사카모토히데시 ,  다카하시마사카즈

IPC分类号： C08G59/00

CPC分类号： C08G59/08 ,  C07D301/32 ,  C07D303/18 ,  C08G8/12 ,  C08G8/26

摘要： 본 발명은, 하나 이상의 페놀 화합물을 하나 이상의 알데하이드 화합물과 반응시켜 노볼락 수지를 수득하는 단계; 노볼락 수지를 용융 상태로 불활성 가스 대기하에 저장하는 단계; 저장된 노볼락 수지를 에폭시화 반응기로 공급하는 단계 및 저장된 노볼락 수지를 에피할로하이드린 화합물과 반응시키는 단계를 포함하는, 먼지의 생성을 방지하여 작업 환경을 개선시키고, 생산 효율을 증가시켜 생산 비용을 절감시키며, 에폭시 수지의 착색과 같은 품질 저하를 억제하는 에폭시 수지의 제조 방법에 관한 것이다.
노볼락 수지, 에피할로하이드린 화합물, 에폭시 수지, 에폭시화 반응기

公开(公告)号：KR100474027B1

公开(公告)日：2005-03-10

申请号：KR1020020081639

申请日：2002-12-20

申请人： 캐논 가부시끼가이샤

发明人： 나까따,고이찌 ,  모리까와,요스께 ,  이께즈에,다쯔야 ,  요시무라,기미히로 ,  다나까,다이스께

IPC分类号： G03G5/047

CPC分类号： G03G5/0614 ,  C08G8/10 ,  C08G8/12 ,  C08G8/28 ,  C08G14/06 ,  C08L61/06 ,  C08L61/14 ,  G03G5/0618

摘要： 본 발명은 복수개의 치환된 히드록시페닐기 및 전하 수송 기능을 갖는 구조를 보유하며 상기 치환된 히드록시페닐기가 히드록시메틸기를 함유하는 것인 페놀 화합물, 및 염기성 촉매의 존재하에 히드록시페닐기 및 전하 수송 기능을 갖는 구조를 보유하는 페놀 화합물을 포름알데히드와 반응시켜 수득되는 레졸 수지로서 전하 수송 기능을 갖는 구조를 보유하는 레졸 수지에 관해 개시한다. 또한, 본 발명은 상기한 페놀 화합물 및 레졸 수지를 이용한 경화물 및 전자사진 감광체, 및 상기 전자사진 감광체를 포함하는 프로세스 카트리지 및 전자사진 장치에 관해 개시한다.

公开(公告)号：KR1020000076802A

公开(公告)日：2000-12-26

申请号：KR1020000011798

申请日：2000-03-09

申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈, 엘.엘.씨

发明人： 잼피니안토니 ,  수쳉-바이 ,  샌드포드해롤드에프.

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： C08G8/12 ,  C08G8/04 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236

摘要： 본발명은신규수지및 광활성성분과본 발명의수지하나이상을포함하는포토레지스트조성물을제공한다. 일예에서, 본발명의수지는메틸올페놀화합물의반응생성물인프레폴리머시약의이용을특징으로할 수있다. 메틸올페놀화합물을상온이상에서및/또는산 존재하에적절히반응시킨다.

公开(公告)号：KR1020000057686A

公开(公告)日：2000-09-25

申请号：KR1019997005542

申请日：1997-12-16

申请人： 메르크 퍼포먼스 마테리알즈 고도가이샤

发明人： 라만엠달릴 ,  루핑훙 ,  쿡미첼

IPC分类号： C08G8/08

CPC分类号： G03F7/0236 ,  C08G8/08 ,  C08G8/12

摘要： PURPOSE: A process for producing a fractionated film forming novolak resin having consistent molecular weight (no substantial depolymerization) and high lithographic performance in light-sensitive compositions, and a process for making a superior quality light-sensitive composition useful as a positive-working photoresist are provided. CONSTITUTION: A film forming, fractionated novolak resin having consistent molecular weight and superior performance in a photoresist composition is produced by isolating such novolak resin fractions without high temperature distillation. Also provided is a method for producing a photoresist composition from such a fractionated novolak resin and for producing semiconductor devices using such a photoresist composition.

摘要翻译： 目的：制造在光敏组合物中具有一致分子量（无实质解聚）和高平版印刷性能的分级成膜酚醛清漆树脂的方法，以及制备用作正性光致抗蚀剂的优质感光组合物的方法 被提供。 构成：通过在不进行高温蒸馏的情况下分离这些酚醛清漆树脂级分来制备在光致抗蚀剂组合物中具有一致的分子量和优异性能的成膜分馏酚醛清漆树脂。 还提供了一种从这种分级酚醛清漆树脂制备光致抗蚀剂组合物并用于制备使用这种光致抗蚀剂组合物的半导体器件的方法。