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    기판 상에 복수의 필드의 패터닝 방법
    2.
    发明授权
    기판 상에 복수의 필드의 패터닝 방법 有权
    在基板上绘制多个字段

    公开(公告)号：KR101299475B1

    公开(公告)日：2013-08-29

    申请号：KR1020087013864

    申请日：2007-03-29

    申请人： 캐논 나노테크놀로지즈 인코퍼레이티드

    发明人： 스리니바산시들가타브이. ,  슈마커필립디.

    IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L21/84

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B81C1/0046 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

    摘要： 복수의 필드를 가진 기판을 패터닝하는 방법은, 그 중에서도 특히, 상기 기판의 상기 복수의 필드의 제1서브셋에 제1볼륨의 유체를 포지셔닝하는 단계; 상기 제1서브셋과 상이한, 상기 기판의 상기 복수의 필드의 제2서브셋에 제2볼륨의 유체를 포지셔닝하는 단계; 및 상기 복수의 필드의 상기 제1 및 제2서브셋을 패터닝하는 단계를 포함하고, 상기 복수의 필드의 상기 제1서브셋의 상기 복수의 필드의 상기 제2서브셋이 패터닝되기 전에 패터닝되고, 상기 복수의 필드의 상기 제2서브셋과 연관된 볼륨은 상기 복수의 필드의 상기 제서브셋과 연관된 볼륨보다 더 크다.
    복수의 필드, 기판, 패터닝, 제1 및 제2서브셋, 제1 및 제2볼륨, 유체, 포지셔닝.

    미세패턴 형성장치 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법
    5.
    发明公开
    미세패턴 형성장치 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법 失效
    用于形成纳米图案的装置和形成纳米图案的方法

    公开(公告)号：KR1020100022818A

    公开(公告)日：2010-03-03

    申请号：KR1020080081506

    申请日：2008-08-20

    申请人： 인베니아 주식회사

    发明人： 최정수

    IPC分类号： H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B41K3/00 ,  B81C1/0046 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70716 ,  Y10S977/887

    摘要： PURPOSE: An apparatus for forming a fine-pattern and a method for forming the same are provided to obtain a higher-quality fine-pattern by safely separating a stamp from a substrate. CONSTITUTION: An apparatus for forming a fine-pattern comprises a chamber(110), a stamp stage(131), a substrate stage(150), and a coating unit(140). The chamber provides a processing space for the fine-pattern on a stamp. The stamp stage supports the stamp and reciprocates between both ends of the processing space. The substrate stage is arranged on either side of the processing space and supports the lifting of the substrate. The coating unit is arranged on either side of the processing space and spreads a photo-curable polymer resin on the stamp.

    摘要翻译： 目的：提供一种用于形成精细图案的装置及其形成方法，以通过从基板安全地分离印模来获得更高质量的精细图案。 构成：用于形成精细图案的装置包括腔室（110），压印台（131），基底台（150）和涂覆单元（140）。 该室为印章上的精细图案提供了处理空间。 邮票台在处理空间的两端之间支持印章和往复运动。 衬底台布置在处理空间的任一侧并支撑衬底的提升。 涂布单元布置在处理空间的两侧，并将光固化聚合物树脂铺展在印模上。

    나노 임프린트 리소그래피용 고내구성 레플리카 몰드 및 그제작 방법
    6.
    发明授权
    나노 임프린트 리소그래피용 고내구성 레플리카 몰드 및 그제작 방법 有权
    用于纳米印刷机的高耐久性复制模具及其制造方法

    公开(公告)号：KR100928184B1

    公开(公告)日：2009-11-25

    申请号：KR1020090006902

    申请日：2009-01-29

    申请人： 오사카 유니버시티 ,  충남대학교산학협력단

    发明人： 가와이토모지 ,  이혜연 ,  이봉국 ,  김동표 ,  홍난영

    IPC分类号： B29C33/38 ,  B82Y40/00

    CPC分类号： B29C33/3842 ,  B81C1/0046 ,  B82Y40/00

    摘要： PURPOSE: A high-durable replica mold for nano-imprint lithography and a manufacturing method thereof are provided to form the pattern whose size is less than 100nm by executing the pattern transfer within a short time. CONSTITUTION: A manufacturing method of a high-durable replica mold for nano-imprint lithography is composed of the steps of forming a resin layer of the chemical formula 1 by dropping organic-inorganic hybrid resin on a substrate(1), and hardening by irradiating UV(Ultraviolet) light(4) to the resin layer while a master mold(3) is pressed to the resin layer with a pressure less than 0.2MPa.

    摘要翻译： 目的：提供用于纳米压印光刻的高耐久性复制模具及其制造方法，以通过在短时间内执行图案转印来形成尺寸小于100nm的图案。 构成：用于纳米压印光刻的高耐久性复制模具的制造方法由以下步骤构成：通过在基板（1）上滴加有机 - 无机杂化树脂形成化学式1的树脂层，并通过照射 UV（紫外）光（4）到树脂层，而母模（3）以低于0.2MPa的压力被压到树脂层上。

    미세 패턴 임프린트 공정용 스탬프 공급 장치 및 방법
    8.
    发明公开
    미세 패턴 임프린트 공정용 스탬프 공급 장치 및 방법 失效
    设备和方法，用于在印刷过程中提供印章

    公开(公告)号：KR1020090070008A

    公开(公告)日：2009-07-01

    申请号：KR1020070137858

    申请日：2007-12-26

    申请人： 인베니아 주식회사

    发明人： 최정수 ,  권규호 ,  안현환 ,  임용진 ,  김은석

    IPC分类号： H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B81C1/0046 ,  B82Y40/00 ,  H01L21/6831 ,  Y10S977/887

    摘要： An apparatus and a method for supplying a stamp in an imprinting process are provided to improve precision in a next implant process by supplying a stamp to a rest of the stamp firstly and transferring it to chamber lid. A chamber base(100) supports a substrate coated by a photocurable resin to form a fine pattern, and a chamber lid is manufactured to be adhered closely to the upper part of the chamber base to form a airtight space. A stamp supporting part(111) is installed at the chamber lid, and a pattern is implanted on a substrate while the stamp supporting part supports the stamp made of photocurable resin to be detachable. A plate stamp rest(120) provides a stamp when the chamber lid is separated from the camber base while being installed under the chamber lid. The one side of a nozzle(123) is opened to top of the stamp rest and the other side is extended to the outside through a stamp rest.

    摘要翻译： 提供了一种用于在压印过程中提供印模的装置和方法，以通过首先向印模的其余部分提供印模并将其转印到室盖来提高下一个注入工艺的精度。 室底座（100）支撑由光固化树脂涂覆的基板以形成精细图案，并且制造室盖以紧密地粘附到室基部的上部以形成气密空间。 印模支撑部件（111）安装在室盖上，并且图案被植入基板上，而印模支撑部件支撑由可光固化树脂制成的印模以可拆卸。 当盖子被安装在室盖下方时，当室盖与弧形底座分离时，印版挡板（120）提供印章。 喷嘴（123）的一侧被打开到印章的顶部，另一侧通过印章延伸到外部。

    미세 임프린팅 장치
    9.
    发明授权
    미세 임프린팅 장치 有权
    NANO IMPRINTING APPARATUS

    公开(公告)号：KR100874756B1

    公开(公告)日：2008-12-19

    申请号：KR1020070104869

    申请日：2007-10-18

    申请人： 한국생산기술연구원

    发明人： 강정진 ,  홍석관 ,  허영무

    IPC分类号： H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B81C1/0046 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  Y10S977/887

    摘要： The minute imprinting device is provided to reduce the whole process time by heating up the mold and molded object with the high frequency induction heating method. The minute imprinting device comprises the mirror plate(110), the mold(120), the spacer(130), the bottom support block(140), the upper supporting block(150), the pressure controlling device(160), the lower base(170), the upper base(180). The mirror plate supports the molded object(X) in the lower part. The mcro-pattern is imprinted while the mold is positioned on the top of the molded object. The spacer is regularly formed between the mold and mirror plate. The bottom support block supports the mirror plate in the lower part. The bottom support block is formed in the space of the lower part of the mirror plate. The bottom support block has the flow channel(142) supplying the fluid to the space. The upper supporting block is positioned on the top of the mold. The upper supporting block has the space on the top of the mold. The upper supporting block has the flow channel(152) supplying the fluid to the space. The pressure controlling device supplies the fluid is through the flow channel. The lower base has the heating means and the mold. The upper base has the heating means and the mold.

    摘要翻译： 提供微型压印装置，通过用高频感应加热方法加热模具和模制对象来减少整个处理时间。 微型压印装置包括镜板（110），模具（120），间隔件（130），底部支撑块（140），上部支撑块（150），压力控制装置（160），下部 基座（170），上基座（180）。 镜板支撑下部的模制物体（X）。 当模具定位在模制对象的顶部时，印刷图案。 间隔件规则地形成在模具和镜板之间。 底部支撑块支撑下部的镜板。 底部支撑块形成在镜板的下部的空间中。 底部支撑块具有将流体供应到空间的流动通道（142）。 上支撑块位于模具的顶部。 上支撑块在模具的顶部具有空间。 上支撑块具有将流体供应到空间的流动通道（152）。 压力控制装置通过流路供给流体。 下底座具有加热装置和模具。 上部底座具有加热装置和模具。