스퍼터 장치 및 이를 이용한 수소분리막 제조방법
    3.
    发明公开
    스퍼터 장치 및 이를 이용한 수소분리막 제조방법 有权
    溅射设备和使用其制造氢分离膜的方法

    公开(公告)号:KR1020180032423A

    公开(公告)日:2018-03-30

    申请号:KR1020160121639

    申请日:2016-09-22

    Abstract: 본발명의일 측면에따르면, 챔버내에서증착용금속이포함된타켓과기판사이에서플라즈마를발생시켜서기판에상기증착용금속을증착시키는스퍼터장치에있어서, 상기스퍼터장치는, 상기챔버의상부면측에방사상으로형성되며다수의타겟건모듈을포함하는타켓건모듈장치; 상기챔버내부에형성된기판홀더; 상기기판홀더의하부에장착되어기판의온도를제어하는기판급속가열모듈; 상기챔버의하부측에설치되며상기기판홀더의회전을제어하는기판홀더회전조절장치; 상기기판홀더의상, 하이동을제어하는기판홀더높이조절장치; 상기챔버의측면벽에형성되며제1 진공펌프의배기량을제어하는주배기밸브와연결되어상기챔버내의주배기분위기를유지시키는제1 주배기구; 상기제1 주배기구의하부에장착되며제2 진공펌프의배기량을제어하는제2 배기밸브에연결되어상기챔버내의초기배기기능을수행하는제2 보조배기구; 상기제2 진공펌프와밀착배기밸브를통하여연결되며상기기판홀더의하부측과연결되어상기기판의밀착배기를수행하는밀착배기관; 및상기스퍼터장치의각 구성부를제어하여스퍼터링공정제어를수행하는제어부; 를포함하는것을특징으로하는스퍼터장치가제공된다.

    Abstract translation: 根据本发明的一个方面,提供了一种用于通过在腔室中在靶材和含有金属的基板之间产生等离子体而将气相沉积金属沉积在基板上的溅射设备,所述溅射设备包括: 目标枪模块装置径向形成并包括多个目标枪模块; 在腔室内形成的衬底支架; 衬底快速加热模块,安装在衬底支架的下部以控制衬底的温度; 衬底保持器旋转调节装置,其安装在所述室的下侧并控制所述衬底保持器的旋转; 一种衬底保持器高度调节装置,用于控制衬底保持器的上下运动; 第一主排气口,形成在所述腔室的侧壁中并连接到主排气阀,用于控制所述第一真空泵的排气量以保持所述腔室中的主排气气氛; 第二辅助排气口,所述第二辅助排气口连接到所述第一主排气口的下部并连接到第二排气阀,用于控制所述第二真空泵的排气量以在所述腔室中执行初始排气功能; 密闭的排气管,其通过关闭排气阀与第二真空泵连接,并与基板保持件的下侧连接,进行基板的密闭排气; 以及控制单元,控制溅射设备的每个部件以执行溅射过程控制; 其中溅射装置是溅射装置。

    색상을 갖는 열차단 필름 및 그 제조방법
    4.
    发明公开
    색상을 갖는 열차단 필름 및 그 제조방법 有权
    热屏蔽膜及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020180028654A

    公开(公告)日:2018-03-19

    申请号:KR1020160116241

    申请日:2016-09-09

    Abstract: 본발명은기존의열차단재료로사용되는화합물(인듐틴옥사이드(ITO), 5산화니오븀(NbO), 은(Ag))만을그대로사용하면서동시에추가적인색 가변형물질을부가하지않고도원하는색상을발현시킬수 있어서필름의색상발현을위해추가적인설비수정이나공정변화없이기존의코팅설비를그대로이용할수 있으며별도의색 가변형물질을사용하지않아저렴한생산원가에의해제조될수 있는색상을갖는열차단필름및 그제조방법에관한것으로, PET 기재필름상에산화니오븀(NbO) 층과인듐틴옥사이드(ITO)-실버(Ag)-인듐틴옥사이드(ITO) 층을적층하되, 산화니오븀층의사이에인듐틴옥사이드(ITO)-실버(Ag)-인듐틴옥사이드(ITO) 층이적층되는구조의단위층이적어도둘 이상상기 PET 기재필름상에적층되는것을특징으로한다.

    Abstract translation: 本发明sikilsu表达所需的颜色,仅使用化合物(氧化铟锡(ITO),5氧化铌(NBO),是(Ag)的)它被用作一个常规的热障材料,因为它在同一时间,而无需添加额外的颜色可变材料 本发明涉及一种具有可以通过廉价的生产成本制造而不使用单独的颜色可变材料的颜色的热收缩膜, (ITO)层和氧化铟锡(ITO) - 银(Ag) - 氧化铟锡(ITO)层层叠在PET基膜上,并且将氧化铟锡(ITO ) - 银(Ag) - 铟锡氧化物(ITO)层被层压在至少两个PET基膜上。

    기판용 컨베이어 디바이스
    5.
    发明公开
    기판용 컨베이어 디바이스 审中-公开
    基材输送装置

    公开(公告)号:KR20180019160A

    公开(公告)日:2018-02-23

    申请号:KR20187000862

    申请日:2016-06-20

    Applicant: AIXTRON SE

    Abstract: 본발명은반응기(20)를통해스트립형(strip-type) 기판(1)을운반하기위한장치에관한것이며, 이때상기기판(1)은드라이브유닛(drive unit)(15, 15')에의해운반방향(V)으로변위될 수있는운반소자들(3, 3', 4, 4', 5, 5', 6, 6')에의해고정되어있다. 상기운반수단들은교대로기판(1)에맞물리는제 1 운반빔들(transport beams)(3, 3', 4, 4') 및제 2 운반빔들(5, 5', 6, 6')을포함하고, 이때각각기판(1)에맞물리는운반빔들은운반방향(V)으로이동하고, 각각기판에맞물리지않는운반빔들은운반방향(V)과반대로역방향(R)으로이동한다. 한쌍씩운반방향(V)으로각각상기반응기(20) 상류및 하류에배치된운반캐리지들(transport carriages)(13, 13', 14, 14')이제공되어있다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于将条形基板1传送通过反应器20的设备,其中基板1由驱动单元15,15' 通过可在运送方向V上移动的承载元件3,3',4,4',5,5',6,6'固定。 输送装置包括与衬底1交替的第一输送梁3,3',4,4'和第二输送梁5,5',6,6' 此时,分别与基板1嵌合的搬运梁向搬运方向V移动,未与基板卡合的搬运梁向搬运方向(V)的相反方向(R)移动。 现在提供分别布置在反应器20的上游和下游的运输小车13,13',14,14',其分别在输送方向V上成对。

    반사성 입자의 스퍼터링 방법
    6.
    发明公开
    반사성 입자의 스퍼터링 방법 有权
    反射粒子的溅射方法

    公开(公告)号:KR1020180018168A

    公开(公告)日:2018-02-21

    申请号:KR1020160103207

    申请日:2016-08-12

    Inventor: 박성완 조봉현

    Abstract: 본발명의일 실시예는, 롤에의해이동하는이송벨트상에복수의투광성입자들을배치하는공정과, 불활성가스분위기하에서이송벨트와마주보는위치에배치된타겟에타격을주어복수의투광성입자들각각의외표면일부에반사피막을형성하는공정, 및반사피막이형성된복수의투광성입자들을회수하는공정을포함하는, 반사성입자의스퍼터링방법을개시한다.

    Abstract translation: 本发明中,多个透光的,并把所述颗粒的步骤,给定上设置在面对在惰性气体气氛中的输送带,多个透光性粒子到传送带,它是由在辊移动的位置的目标的影响的一个实施例 在每个外表面的一部分上形成反射涂层的步骤,以及回收其上形成有反射涂层的多个透明颗粒的步骤。

    누설 감지 장치
    7.
    发明公开
    누설 감지 장치 有权
    泄漏液体传感装置

    公开(公告)号:KR20180014804A

    公开(公告)日:2018-02-09

    申请号:KR20180011620

    申请日:2018-01-30

    Applicant: 심충식

    Inventor: 심충식

    CPC classification number: G01M3/165 C23C14/14 C23C14/562 G01R19/165 G01R31/02

    Abstract: 본발명은띠 형상의베이스층, 상기베이스층상에상기베이스층의길이방향으로설정간격이격하여도전성물질이진공증착방식으로증착되어형성되는한 쌍의감지회로, 및상기감지회로에연결되어상기감지회로에서인가되는전류값에따라액체누설여부, 액체누설위치, 액체종류를검출하는제어부를포함하고, 상기한 쌍의감지회로는상기베이스층상에금, 은, 및구리를포함하는그룹에서선택된금속으로형성되는제1금속층, 및상기제1금속층상에적층되는니켈, 크롬, 및니켈과크롬합금을포함하는그룹에서선택된금속으로형성되는제2금속층을포함하는누설감지장치를제공한다.

    Abstract translation: 本发明涉及检测泄漏液体的泄漏检测装置。 感测液体泄漏的泄漏感测装置包括:带状基层; 一对感测电路,在基底层上在基底层的纵向方向上以设定距离间隔开,以使得能够通过真空沉积方法沉积导电物质; 以及控制单元,其连接到感测电路以根据从感测电路施加的电流值检测液体是否泄漏,液体泄漏位置和液体的类型。

    산업적 금속 증기 발생기용 자동 공급 장치
    8.
    发明授权
    산업적 금속 증기 발생기용 자동 공급 장치 有权
    自动供应工业金属蒸汽发生器

    公开(公告)号:KR101786160B1

    公开(公告)日:2017-10-17

    申请号:KR1020137021413

    申请日:2012-01-12

    CPC classification number: C23C16/54 C23C14/16 C23C14/246 C23C14/562

    Abstract: 본발명은, 움직이는기판상에금속코팅을연속진공증착하기위한설비로서, 상기설비는, 진공증착인클로저 (24), 분배밸브 (19) 를구비한증기공급파이프 (20) 를통해, 액체형태의코팅금속 (11) 을수용하도록형성된증발기용기 (9) 에연결된적어도하나의증기제트증착헤드 (25, 26), 및상기금속을위한용해로 (1) 를포함하고, 상기용해로는, 대기압상태에있고, 또한, 상기증발기용기 (9) 의최하부아래에위치되고, 공급펌프 (6) 를구비한, 상기증발기용기 (9) 의적어도하나의자동공급파이프 (8) 에의해그리고밸브 (16, 17) 를선택적으로구비한적어도하나의액체금속복귀파이프 (8A, 18) 에의해상기증발기용기 (9) 에연결되고, 상기증발기용기 (9) 내의정해진액체금속레벨을조절하기위해상기공급펌프 (6) 를위한조절수단이추가로존재하고, 상기설비는각각의상기공급파이프및 복귀파이프 (8; 8A, 18) 에소위열 밸브영역 (7, 13, 15) 을포함하고, 상기열 밸브영역은, 그위치에서발견된금속을용해또는응고시키기위해, 상기용해로 (1) 의온도에무관하게, 파이프들 (8, 8A, 18) 의나머지부분과상기증발기용기 (9) 에서우세한온도에무관하게, 조절된온도를얻기위한가열장치및 냉각장치를구비한것을특징으로하는움직이는기판상에금속코팅을연속진공증착하기위한설비에관한것이다.

    Abstract translation: 本发明是一种用于移动衬底,该设施上沉积连续的真空金属涂层,通过设置有真空沉积外壳(24),分配阀19的蒸汽供给管20的植物,以液体形式 连接到所形成的蒸发器容器涂覆金属(11)的至少一个蒸汽喷射沉积头(25,26)(9)适合于接收,和一个熔化炉(1)的金属,熔化炉,和大气压力 并且借助位于蒸发器容器9底部下方的蒸发器容器9的至少一个自动供应管8以及供给泵6和阀16, 通过被连接到所述蒸发器容器9设置在任选的一种由(8A,18)的液态金属回流管中的至少一个,供给泵6,以控制蒸发器容器中的规定的液体金属层(9) 另外提供了用于每个所述供应管道的调节装置, 其特征在于,它包括在耳管(8; 8A,18)中的所谓的热阀区域(7,13,15) 移动,其特征在于温度,加热的那不论和冷却装置,以实现独立的,经调整的温度与当前温度的蒸发器中的容器中的剩余部分(9)的管(8,8A,18) 用于在基底上连续真空沉积金属涂层的设备。

    대면적 기판들을 코팅하기 위한 CVD- 또는 PVD-반응기
    9.
    发明公开
    대면적 기판들을 코팅하기 위한 CVD- 또는 PVD-반응기 审中-实审
    用于涂覆大面积基材的CVD或PVD反应器

    公开(公告)号:KR1020170084278A

    公开(公告)日:2017-07-19

    申请号:KR1020177016394

    申请日:2015-11-18

    Abstract: 본발명은하우징(1, 2) 및하우징(1, 2)에고정된, 가스배출개구들(8)을포함하는가스배출면(7')을구비한가스유입부재(7)를구비한 CVD- 또는 PVD-코팅장치에관한것이다. 상기코팅장치에는상기하우징(1)의상부섹션에고정된, 변형및 온도에대해안정화된홀딩장치(3)가제공되어있고, 상기홀딩장치에는상기가스유입부재(7)가다수의장착위치(6')에고정되어있으며, 상기홀딩장치는기계적인안정화소자들(4, 5)을포함하고, 수직연결선들에서서로연결된수직벽들(4, 5)을포함하는홀딩프레임에의해형성되어있으며, 이때상기홀딩장치(3)는오로지자체수평가장자리(3')에서하우징(1, 2)에고정되어있다. 상기가스유입부재(7)는전체수평연장표면에걸쳐서분포하여배치된다수의행거(6)에의해상기홀딩장치(3)에고정되어있다. 홀딩장치(3)와가스유입부재(7) 사이에는능동적으로냉각된열 실드(heat shield)가위치한다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种CVD(化学气相沉积)设备,其包括壳体1,2和具有气体出口面7'的气体入口构件7,气体出口面7'固定到壳体1, - 或PVD涂层设备。 涂覆装置设置有固定到壳体(1)的上部的变形和温度稳定的保持装置(3),其中气体入口构件(7) '),所述保持装置由包括机械稳定元件(4,5)并且包括在竖直连接线处彼此连接的竖直壁(4,5)的保持框架形成, 此时,保持装置3仅在其水平边缘3'处被固定到壳体1,2。 进气口构件7通过分布在整个水平延伸表面上的多个吊架6固定到保持装置3上。 主动冷却的隔热罩位于保持装置3和进气部件7之间。

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