公开(公告)号：KR101855217B1

公开(公告)日：2018-05-08

申请号：KR1020137020135

申请日：2011-12-21

申请人： 비코 인스트루먼츠 인코포레이티드

发明人： 미트로빅보얀 ,  웨이광화 ,  아모르에릭에이. ,  파란즈페아짓

IPC分类号： C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  H01L21/687

CPC分类号： C23C16/4585 ,  C23C16/45504 ,  C23C16/45508 ,  C23C16/45591 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/46 ,  C30B25/165 ,  C30B29/06 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  H01L21/68785

摘要： 축을중심으로회전되는웨이퍼캐리어(40)를이용하여웨이퍼(74)를처리하는장치는작동동안웨이퍼캐리어를둘러싸는링(52)이제공된다. 웨이퍼캐리어의상면(64) 위로지향된처리가스는축으로부터멀어지도록외측으로웨이퍼캐리어위와링 위에흐르고, 링외측에서하류측으로통과하게된다. 외측으로흐르는가스는캐리어및 링위에경계층(B)을형성한다. 링은웨이퍼캐리어위에서실질적으로균일한두께의경계층을유지하는데도움을주며, 이것은웨이퍼의균일한처리를촉진한다.

公开(公告)号：KR101854569B1

公开(公告)日：2018-05-08

申请号：KR1020170107094

申请日：2017-08-24

申请人： 황태상

发明人： 황태상

IPC分类号： C23C16/54 ,  C23C16/458 ,  C23C16/52

CPC分类号： C23C16/54 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/52

摘要： 본발명에의한 CVD 코팅가공의인서트로딩/언로딩장치는, CVD(Chemical Vapor Deposition)방식의코팅가공이수행되기전 또는상기코팅가공이완료된인서트(insert)가수용된팔레트를이송하는팔레트이송유닛; 매거진데크로부터상기코팅가공시 상기인서트를거치하는보드(board)를인입하거나또는취출하는데크로더부; 상기코팅가공의필요에의해상기인서트의방향이나배치위치가변경되게정렬시키는턴테이블유닛; 및상기팔레트이송유닛과상기턴테이블유닛또는상기턴테이블유닛과상기데크로더부사이에배치되어상기인서트가상기팔레트이송유닛, 상기데크로더부및 상기턴테이블유닛간 상호이송되도록상기인서트를그리핑및 그리핑해제하는적어도 1개의그리핑유닛을포함할수 있다. 본발명에의한 CVD 코팅가공의인서트로딩/언로딩장치는, CVD 코팅가공시 인서트가수용된팔레트상에서코팅로에장입되는보드로로딩하는과정및 코팅가공이끝난뒤 언로딩하는과정을자동화된장치로수행될수 있어제조비용이감소되고제품수율이향상되며, 특히, 언로딩과정에서 CVD 코팅가공으로인해보드상에인서트가예기치않은접합이발생될때에도가진부를통해인서트와보드간 접합을용이하게분리하며언로딩할수 있어전체제조공정의택트타임(tact time)이감소되고제품생산성이향상될수 있다.

公开(公告)号：KR2020170003504U

公开(公告)日：2017-10-12

申请号：KR2020170001487

申请日：2017-03-27

申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드

发明人： 쿠리타,시니치 ,  티너,로빈엘.

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/683 ,  H01J37/32 ,  H05H1/46 ,  H01L21/205

CPC分类号： C23C16/45591 ,  C23C16/45508 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/4587 ,  C23C16/50 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32715 ,  H01J2237/327 ,  H01J2237/3321 ,  H01J2237/3323 ,  H01J2237/334 ,  H01J2237/335 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68785

摘要： 본원에서설명되는실시예들은일반적으로, 플라즈마프로세싱챔버의측벽들과기판지지조립체사이에서유동하는불-균일한가스유동을제공하기위해프로세싱챔버에서사용하기위한기판지지조립체에관한것이다. 일실시예에서, 기판지지조립체는, 기판지지본체의적어도제 1 측을정의하는기판지지본체, 및기판지지본체의제 1 측에형성된중앙영역및 코너영역을포함하는기판지지조립체를포함하고, 코너영역은중앙영역의중앙폭보다더 작은코너폭을가지며, 폭들은기판지지본체의제 1 측과중앙축사이에서정의된다.

摘要翻译： 这里描述的实施例总体上涉及用于在处理室中使用的衬底支撑组件，以提供在等离子体处理室和衬底支撑组件的侧壁之间流动的非均匀气流。 在一个实施例中，衬底支撑组件包括限定衬底支撑体的第一侧的衬底支撑体和衬底支撑组件，该衬底支撑组件包括形成在衬底支撑体的第一侧上的中央区域和角区域， 拐角区域具有小于中心区域的中心宽度的拐角宽度，并且宽度限定在基板支撑体的第一侧和中心轴线处。

公开(公告)号：KR1020170077013A

公开(公告)日：2017-07-05

申请号：KR1020160032170

申请日：2016-03-17

申请人： 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키

发明人： 야나기사와,요시히코 ,  우에노,마사아키 ,  오하시,나오후미

IPC分类号： H01L21/205 ,  H01L21/02 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

CPC分类号： H01L21/67196 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/455 ,  C23C16/45523 ,  C23C16/45561 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/4586 ,  C23C16/46 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32467 ,  H01J37/32522 ,  H01J37/32724 ,  H01J37/32807 ,  H01J37/32889 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792

摘要： 열에의한이송실의신장을억제시키는것이가능한기술을제공한다. 기판을처리하는처리실과, 이송실에설치된샤프트와, 샤프트에접속되고, 가열부를갖는기판적재대와, 이송실의벽의처리실측에설치된제1 단열부와, 샤프트의기판적재대측에설치된제2 단열부를갖는다.

摘要翻译： 提供了一种能够抑制由于热量而导致的传送室的伸长的技术。 至处理腔室和一个轴，安装在进料室，用于处理衬底的轴，并且，和加热具有载置台的基板的第二连接，转移破设置在所述壁的处理室设置在第一绝缘部，所述基板安装在轴的对侧 并有一个绝热部分。

公开(公告)号：KR1020170074773A

公开(公告)日：2017-06-30

申请号：KR1020160171707

申请日：2016-12-15

申请人： 램 리써치 코포레이션

发明人： 강후 ,  카림이슈타크 ,  쿠마프루쇼탐 ,  첸준 ,  찬드라세카란라메시 ,  라보이애드리언

IPC分类号： H01L21/205 ,  H01L21/67 ,  H01L21/324 ,  H01L21/02 ,  H01L21/687 ,  H05H1/46

CPC分类号： H01L21/02274 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/458 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/52 ,  H01J37/32467 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32724 ,  H01J2237/332 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/68714 ,  H01L21/68735

摘要： 화학적증착장치에사용되는프로세스튜닝키트가제공되고, 프로세스튜닝키트는캐리어링, 말굽들및 끼움쇠들 (shims) 을포함한다. 말굽들은동일한치수들을갖고, 끼움쇠들은상부에말굽들및 끼움쇠들이장착되는페데스탈어셈블리의상부표면에대해말굽들의높이를제어하도록상이한두께들의세트로제공된다. MCA (minimum contact area) 지지부들이기판을캐리어링으로부터리프팅하고페데스탈어셈블리의상부표면에대해미리결정된오프셋으로기판을지지하도록말굽들상에위치된캐리어링에의해화학적증착장치의진공챔버내로반도체기판이이송된다. 기판의프로세싱동안, 미리결정된오프셋을제어하기위해목표된두께의끼움쇠들을사용함으로써후면증착이감소될수 있다.

摘要翻译： 提供了一种用于化学气相沉积设备的工艺调整套件，其中工艺调整套件包括载体环，马蹄铁和垫片。 马蹄它们具有相同的尺寸，在套不同厚度的设置有垫片，以便控制马蹄形的高度上与上部和马蹄垫片基座组件的上表面被安装。 起重从载体环和所述半导体衬底成由位于马蹄形载体环的沉积装置的真空室中的衬底上的MCA（最小接触面积）的支持，以支持预基板与所确定的偏移到该基座组件的上表面上 Lt。 在处理基板期间，通过使用所需厚度的垫片来控制预定的偏移量，可以减少背面沉积。

公开(公告)号：KR1020170054447A

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：KR1020177009304

申请日：2015-08-14

申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드

发明人： 라우,수-관 ,  사미르,메흐멧투그룰 ,  밀러,아론

IPC分类号： H01L21/683 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C30B25/12 ,  C30B35/00 ,  H01L21/687

CPC分类号： C30B25/12 ,  C23C16/45504 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4585 ,  C30B35/00

摘要： 본개시내용의실시예들은기판프로세싱챔버를위한개선된서셉터를제공한다. 일실시예에서, 서셉터는, 포켓을한정하는외측주변에지― 포켓은외측주변에지로부터리세스된오목한표면을가짐―, 및외측주변에지와포켓사이에배치된경사진지지표면을포함하며, 경사진지지표면은외측주변에지의수평표면에대하여기울어진다.

摘要翻译： 本公开的实施例提供了用于基板处理室的改进的基座。 在一个实施例中，所述基座包括布置在所述外周边边缘和所述凹穴之间的倾斜的长地面，并且限定所述凹穴的所述外周边边缘凹穴具有从所述外周边边缘凹陷的凹陷表面， 地面相对于纸张的水平表面倾斜。

公开(公告)号：KR1020170052505A

公开(公告)日：2017-05-12

申请号：KR1020160145665

申请日：2016-11-03

申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

发明人： 사토준 ,  미우라시게히로

IPC分类号： H01L21/205 ,  H01L21/02 ,  H01L21/28 ,  H01L21/285 ,  H01L21/687 ,  H01L21/683

CPC分类号： H01L21/30655 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/4581 ,  C23C16/4585 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32513 ,  H01J37/32642 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32724 ,  H01J37/32899 ,  H01J2237/3343 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

摘要： 기판처리장치는, 처리실과, 당해처리실내에설치되며, 기판을보유지지가능한오목부형상의기판보유지지영역이주위방향을따라표면에복수형성된회전테이블을갖는다. 요철패턴의형성에의해상기표면의표면적을평탄면보다도증가시킨표면적증가영역이, 상기기판보유지지영역주위의상기표면에형성된다. 상기회전테이블의상기표면에처리가스를공급가능한처리가스공급수단이설치된다.

摘要翻译： 基板处理装置具有处理室和设置在处理室内的旋转台，该旋转台具有能够沿着周向保持基板的多个凹状的基板保持区域。 在衬底保持区域周围的表面上形成通过形成不平坦图案而使表面的表面积比平坦表面的表面积大的表面积增大区域。 并且提供能够向旋转台的表面供应处理气体的处理气体供应装置。

公开(公告)号：KR1020170016562A

公开(公告)日：2017-02-14

申请号：KR1020150109641

申请日：2015-08-03

申请人： 삼성전자주식회사

发明人： 류승민 ,  이상민 ,  정희종 ,  김재호 ,  손지수 ,  이재봉 ,  임주완 ,  최정우

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/683 ,  H01L21/56 ,  H01L21/20

CPC分类号： C30B25/16 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/481 ,  C23C16/52 ,  C30B25/105

摘要： 본발명의일 실시예에따른박막증착장치는, 챔버, 상기챔버내에서기판을지지및 회전시키는서셉터, 상기챔버외측에배치되는반사하우징, 상기반사하우징내 상기기판의상부에배치되고, 상기기판으로광을조사하는광원부, 그리고상기반사하우징내 배치되고, 상기광의조사경로의적어도일부를차단하여상기기판상의상기광의조사영역을조절하는광 조절부를포함한다.

摘要翻译： 提供了一种用于沉积薄膜的装置。 该装置包括：室，设置在室中的基座和支撑基板;设置在室外的反射壳体;设置在反射壳体中并将光照射到基座的光源单元;以及光控制单元， 光的照射路径的一部分，以控制基座上的光的照射面积。 光控制单元的至少一部分设置在反射壳体中。

公开(公告)号：KR101685150B1

公开(公告)日：2016-12-09

申请号：KR1020110004213

申请日：2011-01-14

申请人： 주식회사 원익아이피에스

发明人： 이호영 ,  박상준 ,  허진필 ,  손병국 ,  장욱상 ,  이경철

IPC分类号： H01L21/687 ,  C23C16/458 ,  H01L21/673 ,  H01L21/02

CPC分类号： C23C16/458 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4585 ,  H01L21/02538 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/67346 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  Y10S901/43

摘要： 박막증착장치는증착챔버와, 서셉터와, 회전기구와, 승강부재, 및승강구동유닛을포함한다. 증착챔버는증착공정이행해지는내부공간을갖는다. 서셉터는증착챔버내에설치되며, 상면에복수의기판들이안착된다. 회전기구는서셉터를회전동작시킨다. 승강부재는서셉터상부에구비되어서셉터상에안착된기판들의각 변부를일부지지하며, 승강구동시서셉터로부터기판들을분리시키거나서셉터로기판들을안착시킨다. 승강구동유닛은승강부재를승강시킨다.

摘要翻译： 本发明涉及一种薄膜沉积设备及其基片处理系统。 薄膜沉积设备包括沉积室，基座，旋转机构，升降构件和升降驱动单元。 沉积室具有进行沉积处理的内部空间。 基座设置在沉积室内，并且多个基板位于基座的顶表面上。 升降构件设置在基座上方以支撑安置在基座上的基板的每一侧的一部分。 当升降构件被操作时，基板与基座分离或者安置在基座上。 升降驱动单元升高升降构件。

公开(公告)号：KR101681897B1

公开(公告)日：2016-12-05

申请号：KR1020127006087

申请日：2010-07-26

申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드

发明人： 두보이스,데일알. ,  로차-앨버레즈,주안카를로스 ,  바루자,산지브 ,  바라수브라마니안,가네쉬 ,  야프,립예우 ,  주,지안후아 ,  노왁,토마스

IPC分类号： H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  C23C16/458 ,  H01J37/32

CPC分类号： H01L21/68 ,  C23C16/4585 ,  H01J37/32091 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/6875

摘要： 챔버에서기판을가열하기위한장치및 방법이제공된다. 일실시예에서, 상기장치는상기기판을수용하도록구성된지지면을갖는기판지지조립체와, 상기지지면에대해평행한거리에기판을지지하고상기지지면에실질적으로수직한기준축에대해기판을센터링하기위한복수의센터링부재를포함한다. 상기복수의센터링부재는지지면의외주연을따라이동가능하게배치되고, 상기복수의센터링부재는각각기판의외주연에지와접촉하거나이를지지하기위한제 1 단부를포함한다.

摘要翻译： 提供了一种用于加热室中的衬底的方法和装置。 用于将基板定位在处理室中的装置。 在一个实施例中，该装置包括基板支撑组件，该基板支撑组件具有适于接收基板的支撑表面和用于在平行于支撑表面的距离处支撑基板的多个定心构件，并且用于使基板相对于参考轴线基本垂直 到支撑面。 多个定心构件沿着支撑表面的周边可移动地设置，并且多个定心构件中的每一个包括用于接触或支撑衬底的周缘的第一端部。