公开(公告)号：KR1020160101165A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：KR1020167019792

申请日：2015-01-13

Applicant: 후지필름 가부시키가이샤

Inventor： 요코카와나츠미 ,  야마구치슈헤이 ,  타카하시코우타로우

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F1/22 ,  G03F7/32 ,  C08F12/14 ,  C08F12/24 ,  C08F12/30 ,  C07C39/04

CPC classification number: G03F7/038 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  C08F12/18 ,  C08F12/20 ,  C08F12/24 ,  C08F12/30 ,  C08F112/14 ,  C08F116/10 ,  C08F214/186 ,  C08F216/10 ,  C08F220/16 ,  C08F220/20 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  C08F224/00 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0015 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2059 ,  G03F7/2065 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  H01L21/0274 ,  C08F212/14 ,  C08F212/32 ,  C08F212/34 ,  G03F7/004 ,  C07C39/04 ,  C07C2602/28 ,  C08F12/14 ,  G03F1/22 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/32

Abstract: 감활성광선성또는감방사선성수지조성물은, 일반식 (4)로나타나는반복단위를포함하는수지 (A), 및극성기를포함하는가교제 (C)를함유하고, 상기가교제 (C)가, 일반식 (1)로나타나는화합물, 또는 2~5개의일반식 (1)로나타나는구조가, 일반식 (3) 중의 L에의하여나타나는연결기또는단결합을통하여연결된화합물이다.(일반식 (1)~(4)에있어서의각 부호의정의는, 특허청구범위에기재된바와같다.) [화학식 1]

公开(公告)号：KR1020140118507A

公开(公告)日：2014-10-08

申请号：KR1020130034579

申请日：2013-03-29

Applicant: 삼성디스플레이 주식회사

Inventor： 김정훈

IPC: H01L51/56 ,  H05B33/10 ,  C23C14/04

CPC classification number: H01L27/32 ,  C23C14/042 ,  C23F1/02 ,  G03F7/0015 ,  H01L51/0011 ,  H01L51/5271 ,  H01L51/56

Abstract: Disclosed is a method for manufacturing a fine metal mask. The method for manufacturing the fine metal mask according to an embodiment of the present invention comprises: a step of forming a first incoming unit on a part of one surface of a base member; a step of etching the remaining edge part excluding the middle part in the first incoming unit in a uniform depth; a step of forming a second incoming unit on a part of the other surface of the base member; and a step of connecting the first incoming unit and the second incoming unit of the base member.

Abstract translation: 公开了一种精细金属掩模的制造方法。 根据本发明的实施例的用于制造精细金属掩模的方法包括：在基底构件的一个表面的一部分上形成第一入口单元的步骤; 以均匀的深度蚀刻除了第一进入单元中的中间部分的剩余边缘部分的步骤; 在所述基底构件的另一个表面的一部分上形成第二入口单元的步骤; 以及连接基部构件的第一入口单元和第二进入单元的步骤。

公开(公告)号：KR1020140074321A

公开(公告)日：2014-06-17

申请号：KR1020147008623

申请日：2012-10-09

Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤

Inventor： 스즈키,다카히로 ,  간바라,히사시게 ,  기쿠하라,요시히토 ,  스즈키,교스케

IPC: C25D1/08 ,  C25D1/20

CPC classification number: B01D29/012 ,  A61M1/36 ,  A61M2207/00 ,  C25D1/00 ,  C25D1/08 ,  C25D3/12 ,  G03F7/0015

Abstract: 구리 기판 상에 감광성 수지 조성물을 적층하여 감광성 수지 조성물층을 형성하는 적층 공정과, 감광성 수지 조성물층의 소정 부분에 활성 광선을 조사하여, 노광된 부분을 광 경화시켜 감광성 수지 조성물의 경화물을 형성하는 노광 공정과, 감광성 수지 조성물층 중 감광성 수지 조성물의 경화물 이외의 부분을 현상에 의해 제거하여, 구리 기판 상에 감광성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 레지스트 패턴을 형성하는 현상 공정과, 레지스트 패턴이 형성된 구리 기판을 금속 도금하여 도금층을 형성하는 도금 공정과, 구리 기판을 화학적 용해에 의해 제거하여, 도금층 및 감광성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 구조물을 얻는 용해 공정과, 구조물로부터 감광성 수지 조성물의 경화물을 제거하여, 도금층을 얻는 박리 공정을 포함하며, 도금층� � 금속 필터인 금속 필터의 제조 방법은, 주름·꺾임·긁힘·컬링 등의 손상, 및 미세한 관통 구멍의 변형이 없는 금속 필터를 제조 가능하기 때문에 유용하다.

公开(公告)号：KR1020130102063A

公开(公告)日：2013-09-16

申请号：KR1020137008050

申请日：2011-09-01

Applicant: 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니

Inventor： 제이콕스,게리,델마 ,  블란쳇,그라시엘라,비아트리즈 ,  타시,낸시,쥐.

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/11 ,  H05K3/00

CPC classification number: G03F7/0015 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/11 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0047 ,  H05K3/00

Abstract: The present invention relates to a printing element comprising at least one polymer layer on a substrate which has photoimageable constituents and a chemically functionalized polymer to make the polymer layer either more hydrophobic or hydrophilic. In one embodiment of the present invention, the printing element comprises two adjacent polymer layers on a substrate in which the photoimaged layer comprises a polymer chemically modified with hydrophobic fluoroalkyl side groups to provide differential wetting with hydrophilic inks.

公开(公告)号：KR101060323B1

公开(公告)日：2011-08-29

申请号：KR1020067004899

申请日：2004-08-20

Applicant: 브라이트 뷰 테크놀로지즈 아이엔씨.

Inventor： 프리즈로버트피. ,  라인하트토마스에이. ,  우드로버트엘.

IPC: G02B5/18 ,  G02B3/00 ,  G02F7/00 ,  G11B7/0025

CPC classification number: G02B3/0025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/1857 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0015 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/24

Abstract: Microstructures are fabricated by impinging a radiation beam, such as a laser beam, through a substrate that is transparent to the laser beam, into a negative photoresist layer on the substrate. The negative photoresist layer may be subsequently developed to provide a master for optical and/or mechanical microstructures. Related systems, microstructure products and microstructure masters also are disclosed.

公开(公告)号：KR1020100021084A

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：KR1020080079799

申请日：2008-08-14

Applicant: 삼성디스플레이 주식회사

Inventor： 이승준

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0015 ,  G03F7/0002

Abstract: PURPOSE: A mold, a method for manufacturing the mold and a method for forming a pattern using the mold are provided to separate the mold from a resist layer after forming a pattern by forming the mold with a polymer layer. CONSTITUTION: A primary body(45) includes a surface with a convex part(41) and a concave part(43) and composed of polymeric material. A polymer layer(50) is formed on the primary body and is composed of a copolymer with an amine group. The polymer layer includes a hydrophobic functional group on a surface. A hydrophilic function group is formed on the primary body by an ozone treatment or an UV treatment.

Abstract translation: 目的：提供一种模具，用于制造模具的方法和使用该模具形成图案的方法，通过用聚合物层形成模具，在形成图案之后将模具与抗蚀剂层分离。 构成：主体（45）包括具有凸部（41）和凹部（43）并由聚合材料构成的表面。 在主体上形成聚合物层（50），并且由具有胺基的共聚物构成。 聚合物层在表面上包括疏水官能团。 通过臭氧处理或UV处理在主体上形成亲水性官能团。

公开(公告)号：KR1020090061771A

公开(公告)日：2009-06-17

申请号：KR1020070128707

申请日：2007-12-12

Applicant: 인하대학교 산학협력단

Inventor： 원태영 ,  박순열

IPC: H01L21/027 ,  B82Y40/00

CPC classification number: G03F7/0015 ,  B29C33/3842 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10S977/887

Abstract: A method of nano imprinting for microstructures is provided to completely correspond to the microstructures of photoresist in the intaglio parts of the mold and to prevent the effect of external environment. The method of nano imprinting for microstructures comprises the step of forming holes and the step of performing imprint. The step of forming the holes is performed in order to form holes on the concave parts of the mold(500). The concave part of the mold is exposed to outside. The step of performing the imprint is performed in order to transcribe the concave parts of the mold on the semiconductor substrate. The semiconductor substrate has photoresist. The concave part of the molds is imprinted on photoresist. In this case, the hole of the molds prevent the generation of the vacancy between the concave parts of the mold and microstructures of photoresist.

Abstract translation: 提供了用于微结构的纳米压印方法，以完全对应于模具的凹版部分中的光致抗蚀剂的微观结构并防止外部环境的影响。 纳米压印微结构的方法包括形成孔的步骤和进行压印的步骤。 执行形成孔的步骤，以在模具（500）的凹部上形成孔。 模具的凹部暴露在外面。 执行印记的步骤是为了转录半导体衬底上的模具的凹部而进行的。 半导体衬底具有光致抗蚀剂。 模具的凹部印在光致抗蚀剂上。 在这种情况下，模具的孔防止在模具的凹部和光致抗蚀剂的微结构之间产生空位。

公开(公告)号：KR1020090047146A

公开(公告)日：2009-05-12

申请号：KR1020070113175

申请日：2007-11-07

Applicant: 인베니아 주식회사

Inventor： 최정수

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0015 ,  G03F7/0002 ,  H05K2203/0108

Abstract: 본 발명은 임프린트용 스탬프 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 임프린트용 스탬프는 광 투과성 재료로 마련되며, 음각부와 양각부로 이루어지는 미세패턴이 형성되는 기판;및 광 차단성 재료로, 상기 양각부의 돌출면에 마련되며, 광을 차단하는 차광막;을 구비함으로써, 패턴이 형성될 기판에 도포된 감광막의 노광부와, 비노광부가 명확히 구분되도록 하여, 원하는 고품질의 패턴형상을 얻을 수 있으며, 이에 따라, 불량생산을 감소시켜, 생산비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020090035170A

公开(公告)日：2009-04-09

申请号：KR1020070100297

申请日：2007-10-05

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 박정호 ,  김중석

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B29C33/3842 ,  G03F7/0015 ,  H01L21/67098 ,  H05K2203/0113

Abstract: A manufacturing method of a conductive organic matter electrode is provided to reduce damage and property due to acid, solvent, etchant, and developer by forming a conductivity organic compound without a photolithographic process. A photoresist is coated on a silicon substrate, and a pattern is formed through a photolithographic process. A positive or negative PR is coated on the silicon substrate which is pattered by an etching the substrate. A mold frame is formed by coating PDMS(polydimethylsiloxane) on the substrate. A PDMS mold is formed on the substrate by a drying process. The silicon substrate is separated from the PMDS mold which is fixed on an object to be transferred. A transfer substrate is made by a plastic or the metal substrate.

Abstract translation: 提供导电有机物电极的制造方法，通过在没有光刻工艺的情况下形成导电有机化合物来减少由酸，溶剂，蚀刻剂和显影剂引起的损伤和性能。 将光致抗蚀剂涂覆在硅衬底上，并且通过光刻工艺形成图案。 正或负的PR被涂覆在通过蚀刻衬底图案化的硅衬底上。 通过在基材上涂覆PDMS（聚二甲基硅氧烷）形成模框。 通过干燥工艺在基板上形成PDMS模具。 将硅衬底与固定在待传送物体上的PMDS模具分离。 转印基材由塑料或金属基材制成。

公开(公告)号：KR100842931B1

公开(公告)日：2008-07-02

申请号：KR1020070064308

申请日：2007-06-28

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 김기돈 ,  정준호 ,  최대근 ,  최준혁 ,  이응숙

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B81C1/0046 ,  G03F7/0015 ,  G03F7/2012

Abstract: A fabricating method of a roll stamp using imprint lithography is provided to form a fine pattern without a joint at low cost. A flat stamp having a pattern on one surface is attached to a roll stamp including a resin layer coated on the circumference(S21). The pattern of the flat stamp is transferred on the roll stamp by rotating the roll stamp in one direction on one surface of the flat stamp(S22). The resin layer of the roll stamp including the transferred pattern is hardened(S23). The roll stamp is etched by using the resin layer of the roll stamp as an etching barrier(S24). An intermediate layer and the resin layer are sequentially laminated on the circumference of the roll stamp.

Abstract translation: 提供使用压印光刻的卷印的制造方法，以低成本形成无接头的精细图案。 在一个表面上具有图案的平面印模附着到包括涂覆在圆周上的树脂层的辊印（S21）上。 通过在平面印模的一个表面上沿着一个方向旋转卷边印记（S22），将平面印模的图案转印到卷边印章上。 包括转印图案的卷边印模的树脂层变硬（S23）。 通过使用辊印的树脂层作为蚀刻阻挡层来蚀刻辊印（S24）。 中间层和树脂层依次层压在卷边的圆周上。