公开(公告)号：KR20180027367A

公开(公告)日：2018-03-14

申请号：KR20170112610

申请日：2017-09-04

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0002 ,  G03F7/2051

摘要： 임프린트장치는몰드를기판상의임프린트재와접촉시키고광 조사에의해임프린트재를경화시키는임프린트처리를실행한다. 상기장치는몰드와접촉하고있는임프린트재를조사하는광을발생시키는광원과, 상기광원에의해발생된광의조사영역을규정하는차광부와, 상기광원에의해발생된광이조사된영역을촬상할수 있는시야를갖는촬상부와, 상기촬상부로부터제공되는몰드의화상에기초하여상기드라이버에의한상기차광부의구동을제어하는제어정보를생성하는컨트롤러를포함한다.

摘要翻译： 压印设备执行使模具与基板上的压印材料接触并且通过光照射固化压印材料的压印处理。 该装置包括：光源，其发射光以照射与模具接触的压印材料;光阻挡部分，其限定光源发出的光的照射区域;驱动器，其驱动光阻挡部分; 具有能够捕获由光源发射的光照射的区域的视场的图像捕获装置以及基于从图像捕获装置提供的模具的图像生成控制光的驱动的信息的控制器 阻挡部分。

公开(公告)号：KR1020160146820A

公开(公告)日：2016-12-21

申请号：KR1020167031712

申请日：2015-04-14

申请人： 네덜란제 오르가니자티에 포오르 토에게파스트-나투우르베텐샤펠리즈크 온데르조에크 테엔오

发明人： 자마르,자코버스후베르투스테오도르 ,  말데린크,헤르만헨드리쿠스 ,  메인데르스,에르윈리나르도 ,  기센,피터데오도러스마리아 ,  반즈웻,에르윈존 ,  스타르만스,헨리자크안트완진

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B26/08 ,  G02B26/12

CPC分类号： G03F7/2051 ,  G02B26/0875 ,  G02B26/12 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/704

摘要： 본발명은일 표면에광을조사하기위한노광장치용노광헤드에관한것으로, 상기노광헤드는하나이상의빔을제공하기위한하나이상의방사선소스와, 상기하나이상의빔을수광하고상기빔을상기표면을향해보내어각각의빔을충돌스폿(spot)에충돌시키도록배치되는광 스캐닝유닛과, 상기광 스캐닝유닛을적어도부분적으로회전시키기위해상기광 스캐닝유닛에연결되는회전작동유닛을포함하며, 상기하나이상의빔의상기충돌스폿은상기광 스캐닝유닛의상기적어도부분적인회전에의해상기표면을가로질러스캔되며, 상기광 스캐닝유닛은하나이상의패싯(facet)을구비한투광부재를포함하며, 상기패싯은상기하나이상의빔을수광하고상기투광부재를관통하여전달된상기빔을출사하며, 상기광 스캐닝유닛은상기충돌스폿의스캐닝이가능하도록상기투광부재의상기회전시에상기빔을변위시킨다.

摘要翻译： 本发明涉及一种在用于照射表面的曝光装置中使用的曝光头，该曝光头包括一个或多个用于提供一个或多个光束的辐射源，光学扫描单元被布置为接收一个或多个光束并用于引导 光束朝向表面，用于将每个光束撞击在冲击点上;旋转致动单元，连接到光学扫描单元，用于至少部分地旋转光学扫描单元，其中一个或多个光束的撞击点跨过 通过所述光学扫描单元的所述至少部分旋转，所述光学扫描单元包括透射元件，所述透射元件包括用于接收所述一个或多个光束的一个或多个刻面并且用于在将所述光束传送通过所述透射元件之后输出所述光束， 在所述透射元件旋转时，能够对冲击点进行扫描。

公开(公告)号：KR1020140059913A

公开(公告)日：2014-05-19

申请号：KR1020120126182

申请日：2012-11-08

申请人： 엘지디스플레이 주식회사

发明人： 김기준

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/207

CPC分类号： G03F7/2051 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775

摘要： The present invention relates to a maskless lithographic apparatus and, specifically, to a maskless lithographic apparatus capable of detecting crosstalk and a method for inspecting crosstalk using the same. The present invention rapidly measures location of exposure beam which reflects errors of location and angle of a micro mirror while exposing photoresist on a substrate in a pattern form without a mask by including a beam location measuring unit in one side of the maskless lithographic apparatus in order to frequently detect location and size of exposure beam irradiated on the substrate before and after light exposure or after setting the maskless lithographic apparatus. Through the above, crosstalk defect of exposure beam of the maskless lithography can be prevented and a pattern deliberately accorded with a designed circuit pattern can be formed.

摘要翻译： 无掩模光刻设备技术领域本发明涉及一种无掩模光刻设备，具体涉及一种能够检测串扰的无掩模光刻设备以及使用该无线光刻设备检测串扰的方法。 本发明快速地测量曝光光束的位置，其反射微镜的位置和角度误差，同时通过在无掩模光刻设备的一侧中按顺序包括光束位置测量单元，以无掩模的方式在衬底上曝光光刻胶 经常检测在曝光前后或在设置无掩模光刻设备之后照射在基板上的曝光光束的位置和尺寸。 通过上述，可以防止无掩模光刻的曝光光束的串扰缺陷，并且可以形成有意地符合设计的电路图案的图案。

公开(公告)号：KR1020140059099A

公开(公告)日：2014-05-15

申请号：KR1020120125743

申请日：2012-11-07

申请人： 엘지디스플레이 주식회사

发明人： 채승훈 ,  고가람

IPC分类号： G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/265 ,  G03F7/2051 ,  H01L21/0274

摘要： In a method for forming patterns using a maskless exposure device which includes an exposure head unit including a digital micro-mirror device, a first zone is defined to be a zone where a substrate is not irradiated with light through the digital micro-mirror device; a second zone is defined to be a zone where light has first energy density per unit area; and a third zone is defined to be a zone where light has second energy density per unit area which is smaller than the first energy density. The data pattern applied to the digital micro-mirror device which controls light irradiation to the third zone is one or more of bar-shaped patterns having a first separation distance and the first width. In the third zone, the separation distance of beam spot irradiated on the substrate is drastically changed compared to the third zone according to the bar-shaped pattern information which is applied to the digital micro-mirror.

摘要翻译： 在使用包括具有数字微镜装置的曝光头单元的无掩模曝光装置形成图案的方法中，将第一区域定义为通过数字微镜装置不对基板照射光的区域; 第二区域被定义为光具有每单位面积的第一能量密度的区域; 并且第三区域被定义为光的每单位面积的第二能量密度小于第一能量密度的区域。 施加到控制对第三区域的光照射的数字微镜装置的数据图案是具有第一间隔距离和第一宽度的一个或多个条形图案。 在第三区域中，根据应用于数字微镜的条形图案信息，与第三区域相比，照射在基板上的束斑的分离距离显着变化。

公开(公告)号：KR1020140020536A

公开(公告)日：2014-02-19

申请号：KR1020120087188

申请日：2012-08-09

申请人： 삼성디스플레이 주식회사

发明人： 이기범 ,  김창훈 ,  심수연 ,  이상현 ,  이희국

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/032 ,  G03F7/028 ,  G02B5/20

CPC分类号： G03F7/033 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/028 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/032 ,  G03F7/105 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2051 ,  G02B5/20 ,  G02B5/201 ,  G03F7/0045

摘要： Disclosed photoresist composition includes 5-10% wt% of a binder resin, 5-10% wt% of a photopolymerizable monomer, 1-5% wt% of a photopolymerization initiator activated by light with 400-410 nm wavelengths, 5-10% wt% of a black colorant, and a residual solvent. Therefore, the optical properties of the photoresist composition against an exposure device using light with h-line wavelengths can be improved.

摘要翻译： 公开的光致抗蚀剂组合物包括5-10重量％的粘合剂树脂，5-10重量％的可光聚合单体，1-5重量％的由400-410nm波长的光激活的光聚合引发剂，5-10％ wt％的黑色着色剂和残留溶剂。 因此，可以提高使用具有h线波长的光的曝光装置的光致抗蚀剂组合物的光学性质。

公开(公告)号：KR101344037B1

公开(公告)日：2013-12-24

申请号：KR1020110106834

申请日：2011-10-19

申请人： 주식회사 인피테크

发明人： 이재경 ,  오소영 ,  심현창 ,  윤동길 ,  김동영 ,  임상균 ,  정성용 ,  서재인 ,  박종식 ,  최환용 ,  신미선 ,  김한용

IPC分类号： F21S2/00 ,  F21V8/00 ,  G03F7/20 ,  F21Y101/02

CPC分类号： G03F7/2051 ,  G02B6/0006 ,  G02B6/0008

摘要： 본발명은반도체웨이퍼, 디스플레이패널등 다양한크기와종류의노광대상물및 다양한성질의포토레지스트(Photo resist, PR)를하나의광원으로노광할수 있도록 LED(Light Emitting Diode)를광원으로하는광원유닛을다수개포함하는단일광원모듈을제공하고, 이를효율적으로제어및 관리할수 있는장치및 관리시스템을제공함으로써, 노광광원의강도를세밀하고간편하게조절하여노광대상물을정확하고빠르게노광할수 있으며, 장애에대한신속하고간편한처리가가능한노광용 LED 광원모듈, 노광용 LED 광원장치및 노광용 LED 광원장치관리시스템을제공한다.

公开(公告)号：KR1020130077209A

公开(公告)日：2013-07-09

申请号：KR1020110145796

申请日：2011-12-29

申请人： 하이디스 테크놀로지 주식회사

发明人： 윤성중

IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/30 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/0025 ,  G03F7/2051 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03F7/70925

摘要： PURPOSE: A developing process of scan-type photosensitive film is provided not to generate a developing time gap between one side and the other side of a photosensitive film and to uniformly develop a photosensitive film by using scan-type development method. CONSTITUTION: A developing process of scan-type photosensitive film comprises the steps of: firstly coating a developer (50) from one side (30) to the other side of a photosensitive film, providing a first puddle time for the firstly coated developer and the photosensitive film to react, removing the firstly coated developer after the first puddle time, secondly coating the developer while scanning the photosensitive film from the other side to one side, providing the second puddle time for the secondly coated developer and the photosensitive film to react, and removing the secondly coated developer after the second puddle time.

摘要翻译： 目的：提供扫描型感光膜的显影方法，其不会在感光膜的一侧和另一侧之间产生显影时间间隙，并且通过使用扫描型显影方法均匀地显影感光膜。 构成：扫描型感光膜的显影过程包括以下步骤：首先将显影剂（50）从一侧（30）涂覆到感光膜的另一侧，为第一涂覆显影剂提供第一个熔池时间， 感光膜反应，在第一个熔池时间之后除去第一涂覆的显影剂，其次在从另一侧向一侧扫描感光膜时涂覆显影剂，为第二涂覆的显影剂和感光膜反应提供第二熔池时间， 并且在第二个水坑时间之后移除第二涂覆的显影剂。

公开(公告)号：KR1020120092865A

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：KR1020110012752

申请日：2011-02-14

申请人： 주식회사 코디엠

发明人： 송요탁 ,  위창현 ,  서현우 ,  김태준 ,  안효찬

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70116 ,  G03F5/02 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2051 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70683

摘要： PURPOSE: A digital exposure device for a flexible substrate and an exposure method of the same are provided to reduce tact time by automatically aligning a large sized flexible substrate and exposing the substrate without replacing the substrate and a mask. CONSTITUTION: A digital exposure device(100) includes a first substrate adjusting part(110), a vision camera part(130), a digital optical part(140), and a second substrate adjusting part(150). The vision camera part recognizes a plurality of alignment marks on a flexible substrate and transmits controlling signals to an aligning stage part(125) in order to automatically align the flexible substrate. The digital optical part receives digital data corresponding to exposure patterns of the flexible substrate. The flexible substrate is irradiated with ultraviolet rays and reflects the ultraviolet rays based on the digital data. The second substrate adjusting part maintains and winds the exposed flexible substrate.

摘要翻译： 目的：提供一种用于柔性基板的数字曝光装置及其曝光方法，以通过自动对准大尺寸柔性基板并露出基板而不更换基板和掩模来减少打滑时间。 构成：数字曝光装置（100）包括第一基板调整部（110），视觉摄像机部（130），数字光学部（140）和第二基板调整部（150）。 视觉摄像机部件识别柔性基板上的多个对准标记，并将控制信号发送到对准台部分（125），以便自动对准柔性基板。 数字光学部件接收对应于柔性基板的曝光图案的数字数据。 用紫外线照射柔性基板，并根据数字数据反射紫外线。 第二基板调整部保持并卷绕露出的柔性基板。

公开(公告)号：KR1020120009526A

公开(公告)日：2012-01-31

申请号：KR1020120004711

申请日：2012-01-16

申请人： 호야 가부시키가이샤

发明人： 사노미찌아끼

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： H01L21/0274 ,  G03F1/28 ,  G03F1/54 ,  G03F7/2043 ,  G03F7/2051 ,  G03F7/70216

摘要： PURPOSE: A photo-mask is provided to arrange a desired transfer pattern on a transferred body by substituting a light transmitting part with a light shielding part. CONSTITUTION: A light shielding part(24) is arranged in a part of a transparent substrate(21) by a light shielding film(22). A translucent part(25) is arranged in a part of the transparent substrate by a translucent film(23). A fine pattern part(26) is arranged in a part of the transparent substrate by the translucent film. A light transmitting part(27) is arranged in a part of the transparent substrate. A pattern is transferred in a photo-resist film(33) on a transferred body(30).

摘要翻译： 目的：提供一种光掩模，通过用遮光部分代替透光部分，将所需的转印图案布置在转印体上。 构成：通过遮光膜（22）在透明基板（21）的一部分上配置遮光部（24）。 半透明部分（25）通过半透明膜（23）布置在透明基板的一部分中。 通过半透明膜在透明基板的一部分上配置精细图案部（26）。 透光部分（27）布置在透明基板的一部分中。 将图案转印在转印体（30）上的光致抗蚀剂膜（33）中。

公开(公告)号：KR1020110095571A

公开(公告)日：2011-08-25

申请号：KR1020100015114

申请日：2010-02-19

申请人： 삼성디스플레이 주식회사

发明人： 윤상현 ,  이희국 ,  배상우 ,  김차동 ,  박정인

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： G03B27/526 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70541 ,  G03F7/2051

摘要： PURPOSE: A digital exposure method and a digital exposure apparatus using the same are provided to reduce costs by integrally performing a main exposure process and a peripheral exposure process. CONSTITUTION: A substrate(100) comprises a first region(10) and a second region(50). A plurality of panels(S11-Smn) is formed on the first region with a matrix type. A second region includes a glass ID region(51), a cell ID region(52), and an edge exposure region(53). The substrate is transferred to an exposure unit(30) by a stage. The exposure unit includes a plurality of exposure heads(E1-EK).

摘要翻译： 目的：提供数字曝光方法和使用其的数字曝光装置，以通过整体执行主曝光​​处理和周边曝光处理来降低成本。 构成：衬底（100）包括第一区域（10）和第二区域（50）。 多个面板（S11-Smn）形成在具有矩阵型的第一区域上。 第二区域包括玻璃ID区域（51），单元ID区域（52）和边缘曝光区域（53）。 将基板通过台阶转印到曝光单元（30）。 曝光单元包括多个曝光头（E1-EK）。