公开(公告)号：TW201843330A

公开(公告)日：2018-12-16

申请号：TW106127446

申请日：2017-08-14

Applicant: 日商日立國際電氣股份有限公司 ,  HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.

Inventor： 島本聰 ,  SHIMAMOTO, SATOSHI ,  蘆原洋司 ,  ASHIHARA, HIROSHI ,  豊田一行 ,  TOYODA, KAZUYUKI ,  大橋直史 ,  OHASHI, NAOFUMI

IPC: C23C16/24 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本發明之課題在於，即便於三維構造之快閃記憶體中亦能夠形成特性良好之半導體裝置。 為了解決上述課題，本發明提供如下技術，其包含：單頻處理室，其設置於處理模組內，對形成有絕緣膜之基板進行處理；雙頻處理室，其於上述處理模組內鄰接於上述單頻處理室，對經上述單頻處理室處理後之基板進行處理；氣體供給部，其分別對上述單頻處理室及上述雙頻處理室，供給至少含有矽及雜質之含矽氣體；電漿產生部，其分別連接於上述單頻處理室及上述雙頻處理室；離子控制部，其連接於上述雙頻處理室；基板搬送部，其設置於上述處理模組內，於上述單頻處理室與上述雙頻處理室之間搬送基板；以及控制部，其至少控制上述氣體供給部、上述電漿產生部、上述離子控制部、及上述基板搬送部。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题在于，即便于三维构造之闪存中亦能够形成特性良好之半导体设备。 为了解决上述课题，本发明提供如下技术，其包含：单频处理室，其设置于处理模块内，对形成有绝缘膜之基板进行处理；双频处理室，其于上述处理模块内邻接于上述单频处理室，对经上述单频处理室处理后之基板进行处理；气体供给部，其分别对上述单频处理室及上述双频处理室，供给至少含有硅及杂质之含硅气体；等离子产生部，其分别连接于上述单频处理室及上述双频处理室；离子控制部，其连接于上述双频处理室；基板搬送部，其设置于上述处理模块内，于上述单频处理室与上述双频处理室之间搬送基板；以及控制部，其至少控制上述气体供给部、上述等离子产生部、上述离子控制部、及上述基板搬送部。

公开(公告)号：TWM571583U

公开(公告)日：2018-12-11

申请号：TW107209497

申请日：2018-07-13

Applicant: 華景電通股份有限公司

Inventor： 鄭婕彤 ,  JHENG, JIE TONG ,  程檉森 ,  CHEN, SHENG SEN

IPC: H01L21/677

公开(公告)号：TWI644388B

公开(公告)日：2018-12-11

申请号：TW107108471

申请日：2018-03-13

Applicant: 南亞科技股份有限公司 ,  NANYA TECHNOLOGY CORPORATION

Inventor： 管式凡 ,  KUAN, SHIH FAN

IPC: H01L21/677 ,  B65D85/90

公开(公告)号：TWI644387B

公开(公告)日：2018-12-11

申请号：TW106136327

申请日：2017-10-23

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司 ,  TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.

Inventor： 鄭威昌 ,  CHENG, WEI CHANG ,  廖啟宏 ,  LIAO, CHI HUNG

IPC: H01L21/677

公开(公告)号：TW201842617A

公开(公告)日：2018-12-01

申请号：TW107112733

申请日：2018-04-13

Applicant: 美商美國大福公司 ,  DAIFUKU AMERICA CORPORATION ,  日商大福股份有限公司 ,  DAIFUKU CO., LTD.

Inventor： 岡本章 ,  OKAMOTO, AKIRA ,  大森和哉 ,  OMORI, KAZUYA

IPC: H01L21/677 ,  B65D85/90 ,  B65G49/07

Abstract: 提供用於保持複數標準容器的一種物品收納裝置。標準容器係於一底面與一頂面之間延伸，底面係大致上水平地延伸，頂面係間隔於底面且大致上平行於底面。標準容器更包括開口側及門凸緣，開口側係垂直於頂面及底面，門凸緣係沿著開口側延伸且越過頂面。標準容器更包括附接至頂面之升降凸緣，此升降凸緣係用以接收升降工具。標準容器係以各自的開口側背朝一進入空間而各自設置在收納架內，用於容許一收納取回運輸設備沿著位在進入空間之間之實質水平面移動以接合升降凸緣而不受到門凸緣所阻擋。

Abstract in simplified Chinese: 提供用于保持复数标准容器的一种物品收纳设备。标准容器系于一底面与一顶面之间延伸，底面系大致上水平地延伸，顶面系间隔于底面且大致上平行于底面。标准容器更包括开口侧及门凸缘，开口侧系垂直于顶面及底面，门凸缘系沿着开口侧延伸且越过顶面。标准容器更包括附接至顶面之升降凸缘，此升降凸缘系用以接收升降工具。标准容器系以各自的开口侧背朝一进入空间而各自设置在收纳架内，用于容许一收纳取回运输设备沿着位在进入空间之间之实质水平面移动以接合升降凸缘而不受到门凸缘所阻挡。

公开(公告)号：TWI642134B

公开(公告)日：2018-11-21

申请号：TW107112548

申请日：2018-04-12

Applicant: 日商精工愛普生股份有限公司 ,  SEIKO EPSON CORPORATION

Inventor： 山崎孝 ,  YAMAZAKI, TAKASHI ,  小谷憲昭 ,  KOTANI, NORIAKI

IPC: H01L21/677 ,  G01R31/28

公开(公告)号：TW201841294A

公开(公告)日：2018-11-16

申请号：TW107109330

申请日：2018-03-19

Applicant: 美商應用材料股份有限公司 ,  APPLIED MATERIALS, INC.

Inventor： 懷特 約翰 ,  WHITE, JOHN M. ,  文森特 約瑟夫 ,  VINCENT, JOSEPH ,  林登博克 雷波 ,  LINDENBERG, RALPH

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/203

Abstract: 一種用以於一真空處理系統(100)中裝載一基板之設備(140)係說明。設備(140)包括一第一支承件(142)，用以支承一基板(10)；以及一第二支承件(144)，用以支承基板(10)，第二支承件與第一支承件(142)垂直地堆疊。

Abstract in simplified Chinese: 一种用以于一真空处理系统(100)中装载一基板之设备(140)系说明。设备(140)包括一第一支承件(142)，用以支承一基板(10)；以及一第二支承件(144)，用以支承基板(10)，第二支承件与第一支承件(142)垂直地堆栈。

公开(公告)号：TW201841288A

公开(公告)日：2018-11-16

申请号：TW107103347

申请日：2018-01-31

Applicant: 日商東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 阿部任弘 ,  ABE, TAKAHIRO

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/673 ,  H01L21/677

Abstract: 本發明之課題為提供一種可抑制粒子之飛散的基板處理系統。 為解決上述課題，本發明之實施形態的基板處理系統具備：載具搬送區，用以將收納基板之載具對基板處理裝置進行搬送；基板搬送區，以分隔壁和該載具搬送區隔開，用以將收納於該載具之該基板搬送到處理爐；搬送口，形成在該分隔壁，用以在該載具搬送區與該基板搬送區兩者之間搬送該基板；開閉門，將該搬送口進行開閉；以及等壓化機構，使該基板搬送區之壓力、和被該載具與該開閉門兩者包圍的空間之壓力達到大致等壓。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题为提供一种可抑制粒子之飞散的基板处理系统。 为解决上述课题，本发明之实施形态的基板处理系统具备：载具搬送区，用以将收纳基板之载具对基板处理设备进行搬送；基板搬送区，以分隔壁和该载具搬送区隔开，用以将收纳于该载具之该基板搬送到处理炉；搬送口，形成在该分隔壁，用以在该载具搬送区与该基板搬送区两者之间搬送该基板；开闭门，将该搬送口进行开闭；以及等压化机构，使该基板搬送区之压力、和被该载具与该开闭门两者包围的空间之压力达到大致等压。

公开(公告)号：TW201841196A

公开(公告)日：2018-11-16

申请号：TW107101860

申请日：2018-01-18

Applicant: 美商艾克塞利斯科技公司 ,  AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.

Inventor： 巴格特 約翰F ,  BAGGETT, JOHN F. ,  班諾特 比利 ,  BENOIT, BILLY

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687

Abstract: 本發明提供一種工件處理系統及包含將一工件轉移至一真空腔室的方法。一經加熱夾盤係經建構以將一工件選擇性地夾持至其一夾持表面，其中該經加熱夾盤係經建構以選擇性地對該夾持表面加熱。一工件轉移設備具有一末端執行器，該末端執行器經建構以將該工件轉移至該經加熱夾盤，其中該工件擱置於該末端執行器上。一控制器經由對該工件轉移設備之一控制以相對於該經加熱夾盤而選擇性地定位該工件，其中該控制器經建構以將該工件定位於相距該夾持表面一預定距離處，其中該預定距離通常判定由該工件自該經加熱夾盤接收之輻射的一量，且其中該控制器進一步經建構以經由對該工件轉移設備之一控制而將該工件置放於該經加熱夾盤之該表面上。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种工件处理系统及包含将一工件转移至一真空腔室的方法。一经加热夹盘系经建构以将一工件选择性地夹持至其一夹持表面，其中该经加热夹盘系经建构以选择性地对该夹持表面加热。一工件转移设备具有一末端运行器，该末端运行器经建构以将该工件转移至该经加热夹盘，其中该工件搁置于该末端运行器上。一控制器经由对该工件转移设备之一控制以相对于该经加热夹盘而选择性地定位该工件，其中该控制器经建构以将该工件定位于相距该夹持表面一预定距离处，其中该预定距离通常判定由该工件自该经加热夹盘接收之辐射的一量，且其中该控制器进一步经建构以经由对该工件转移设备之一控制而将该工件置放于该经加热夹盘之该表面上。

公开(公告)号：TW201840944A

公开(公告)日：2018-11-16

申请号：TW107108935

申请日：2018-03-16

Applicant: 日商日新電機股份有限公司 ,  NISSIN ELECTRIC CO., LTD.

Inventor： 李東偉 ,  LI, DONGWEI ,  茨木満雄 ,  IBARAKI, MITSUO ,  岩苔翼 ,  IWAKOKE, TSUBASA

IPC: F16K1/24 ,  F16K3/18 ,  F16K51/00 ,  H01L21/677

Abstract: 本發明是減少產生於閘閥裝置上的塵埃，並且確保真空容器的開口的阻塞性的裝置，其包括：閥體2，使真空容器11的開口11H開閉；支撐軸3，設置在閥體2的兩端部，用以使閥體2旋轉；以及進退移動機構4，介於閥體2與支撐軸3之間而設置，使閥體2在與支撐軸3正交的方向上進退移動；並且進退移動機構4包括：導引部41，設置在支撐軸3側；滑行部42，設置在閥體2側，在導引部41上滑行移動；連桿機構43，一端與滑行部42連接；以及驅動部44，連接著連桿機構43的另一端，使連桿機構43驅動。

Abstract in simplified Chinese: 本发明是减少产生于闸阀设备上的尘埃，并且确保真空容器的开口的阻塞性的设备，其包括：阀体2，使真空容器11的开口11H开闭；支撑轴3，设置在阀体2的两端部，用以使阀体2旋转；以及进退移动机构4，介于阀体2与支撑轴3之间而设置，使阀体2在与支撑轴3正交的方向上进退移动；并且进退移动机构4包括：导引部41，设置在支撑轴3侧；滑行部42，设置在阀体2侧，在导引部41上滑行移动；连杆机构43，一端与滑行部42连接；以及驱动部44，连接着连杆机构43的另一端，使连杆机构43驱动。