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公开(公告)号：TWI700262B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW105122854
申请日：2016-07-20
发明人： 井手慎吾 , IDE, SHINGO , 井筒靖久 , IZUTSU, YASUHISA
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公开(公告)号：TWI697412B
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：TW105141626
申请日：2016-12-15
发明人： 松浦宜範 , MATSUURA, YOSHINORI
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公开(公告)号：TWI690629B
公开(公告)日：2020-04-11
申请号：TW105100036
申请日：2016-01-04
发明人： 井手慎吾 , IDE, SHINGO , 阿武裕一 , ANNO, YUICHI , 井筒靖久 , IZUTSU, YASUHISA , 大村淳 , OMURA, JUN , 石井林太郎 , ISHII, RINTARO , 加畑実 , KAHATA, MINORU
IPC分类号： C30B29/22 , C30B28/00 , H01M2/26 , H01M8/10 , H01M10/0562
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公开(公告)号：TWI679292B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW107134810
申请日：2018-10-02
发明人： 寺村享祐 , TERAMURA, KYOSUKE , 深川功児 , FUKAGAWA, KOJI
IPC分类号： C23C14/34 , C04B35/01 , C04B35/453 , C01G15/00
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公开(公告)号：TWI675748B
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：TW107115376
申请日：2018-05-07
发明人： 加藤翼 , KATO, TSUBASA , 松田光由 , MATSUDA, MITSUYOSHI , 飯田浩人 , IIDA, HIROTO , 髙梨哲聡 , TAKANASHI, AKITOSHI , 吉川和広 , YOSHIKAWA, KAZUHIRO
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公开(公告)号：TWI652358B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：TW104118953
申请日：2015-06-11
发明人： 坂上貴彥 , SAKAUE, TAKAHIKO , 小神陽一 , KOGAMI, YOICHI , 穴井圭 , ANAI, KEI
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公开(公告)号：TW201841260A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW106145893
申请日：2017-12-27
发明人： 德地成紀 , TOKUCHI, SHIGEKI , 高橋誠一郎 , TAKAHASHI, SEIICHIRO
IPC分类号： H01L21/3205 , H01L21/285 , C22C9/05 , H01L21/318 , C23C14/14 , H01L21/768 , C23C14/34
摘要： 本發明之配線構造(10)包括：基板(11)；配線層(12)，其設置於基板(11)上且包含銅；金屬層(14)，其設置於配線層(12)上且包含銅鋯合金；及絕緣層(16)，其設置於金屬層(14)上且包含非氧化物。較佳為絕緣層(16)包含氮化物。亦較佳為氮化物包含氮化矽。亦較佳為銅鋯合金為相對於銅及鋯之莫耳數之合計含有0.5莫耳%以上且45莫耳%以下之鋯者。
简体摘要： 本发明之配线构造(10)包括：基板(11)；配线层(12)，其设置于基板(11)上且包含铜；金属层(14)，其设置于配线层(12)上且包含铜锆合金；及绝缘层(16)，其设置于金属层(14)上且包含非氧化物。较佳为绝缘层(16)包含氮化物。亦较佳为氮化物包含氮化硅。亦较佳为铜锆合金为相对于铜及锆之莫耳数之合计含有0.5莫耳%以上且45莫耳%以下之锆者。
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公开(公告)号：TW201837212A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW106138959
申请日：2017-11-10
发明人： 三輪昌宏 , MIWA, MASAHIRO , 佐佐木宏衛 , SASAKI, HIROEI , 林俊庭 , LIN, CHUN TING , 吳信輝 , WU, SIN HUEI
摘要： 本發明之實施形態之一樣態之分割濺鍍靶(1)係將複數個靶材(10)接合於基材(20)而形成者，在該分割濺鍍靶(1)中：藉由以隔著間隔之方式配置複數個靶材(10)而形成的分割部(40)當中，在至少一部分的分割部(40)所配置的一對前述靶材(10)的側面(11)的至少一部分係分別形成有平坦面(12)，且關於在分割部(40)中相對向之平坦面(12)彼此的間隔，距離基材(20)最遠之部分的間隔(Lt)係比距離基材(20)最近之部分的間隔(Lb)大，而平坦面(20)的表面粗糙度Ra係0.3μm以下。
简体摘要： 本发明之实施形态之一样态之分割溅镀靶(1)系将复数个靶材(10)接合于基材(20)而形成者，在该分割溅镀靶(1)中：借由以隔着间隔之方式配置复数个靶材(10)而形成的分割部(40)当中，在至少一部分的分割部(40)所配置的一对前述靶材(10)的侧面(11)的至少一部分系分别形成有平坦面(12)，且关于在分割部(40)中相对向之平坦面(12)彼此的间隔，距离基材(20)最远之部分的间隔(Lt)系比距离基材(20)最近之部分的间隔(Lb)大，而平坦面(20)的表面粗糙度Ra系0.3μm以下。
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公开(公告)号：TW201823185A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106130582
申请日：2017-09-07
发明人： 黒村哲宗 , KUROMURA, TETSUMUNE , 有馬峻 , ARIMA, TAKESHI , 本田光司 , HONDA, KOUJI
摘要： 本發明之陶瓷格子體(1)具有複數個第1線條部(10)及複數個第2線條部(20)。於第1線條部(10)與第2線條部(20)之交點中之任一該交點均於第1線條部(10)上配置有第2線條部(20)。陶瓷格子體(1)於俯視下之輪廓之至少一部分具有直線邊部(L1)、(L2)。第1線條部(10)及第2線條部(20)與直線邊部(L1)、(L2)分別獨立地以10度以上且170度以下之角度相交。
简体摘要： 本发明之陶瓷格子体(1)具有复数个第1线条部(10)及复数个第2线条部(20)。于第1线条部(10)与第2线条部(20)之交点中之任一该交点均于第1线条部(10)上配置有第2线条部(20)。陶瓷格子体(1)于俯视下之轮廓之至少一部分具有直线边部(L1)、(L2)。第1线条部(10)及第2线条部(20)与直线边部(L1)、(L2)分别独立地以10度以上且170度以下之角度相交。
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公开(公告)号：TWI699148B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW108111453
申请日：2019-04-01
发明人： 溝口美智 , MIZOGUCHI, MISATO , 吉川和広 , YOSHIKAWA, KAZUHIRO , 清水俊行 , SHIMIZU, TOSHIYUKI
IPC分类号： H05K3/46
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